JP2004328004A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空チャンバの導波管10と対向する部分に設けられマイクロ波を真空チャンバ内部に導入するためのスリット11aが形成され、真空チャンバ側の面にスリット11aを通過した上記マイクロ波を内面に沿って伝播させる天板11と、天板11の真空チャンバ側に設けられるとともにマイクロ波を透過させる板状の誘電体40とを備え、誘電体40の真空チャンバ側の表面には突条41が形成されている。
【選択図】図2
Description
11…天板
20…真空チャンバ
30…プラズマ処理装置
40…誘電体
41…突条
Claims (3)
- マイクロ波導入手段を介してチャンバ内部にマイクロ波を伝達させ、チャンバ内部でプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、
上記チャンバの上記マイクロ波導入手段と対向する部分に設けられ上記マイクロ波をチャンバ内部に導入するための開口部が形成され、上記チャンバ側の面に上記開口部を通過した上記マイクロ波を内面に沿って伝播させる天板と、
この天板の上記チャンバ側に設けられるとともに上記マイクロ波を透過させる板状の誘電体とを備え、
上記誘電体の上記チャンバ側の表面には凹凸部が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記凹凸部は上記誘電体の表面に形成された突条であることを特徴とする請求項1に記載されたプラズマ処理装置。
- 上記マイクロ波導入手段は、導波管であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2004162426A JP2004328004A (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | プラズマ処理装置 |
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JP2004162426A JP2004328004A (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | プラズマ処理装置 |
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JP2001335529A Division JP3787297B2 (ja) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | プラズマ処理装置 |
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JP2004328004A5 JP2004328004A5 (ja) | 2005-06-09 |
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Family Applications (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007018771A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Hideo Sugai | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
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2004
- 2004-05-31 JP JP2004162426A patent/JP2004328004A/ja active Pending
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JP2007018771A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Hideo Sugai | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
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