JP2010177228A - 研削装置 - Google Patents
研削装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010177228A JP2010177228A JP2009015000A JP2009015000A JP2010177228A JP 2010177228 A JP2010177228 A JP 2010177228A JP 2009015000 A JP2009015000 A JP 2009015000A JP 2009015000 A JP2009015000 A JP 2009015000A JP 2010177228 A JP2010177228 A JP 2010177228A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- grinding
- holding pad
- suction
- chuck table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 59
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 46
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 7
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- -1 gallium nitride compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブル上に吸引保持された被加工物を研削する研削手段と、チャックテーブル上で研削された加工後の被加工物を洗浄する洗浄手段と、チャックテーブル上で研削された被加工物を洗浄手段に搬出する被加工物搬出手段とを具備する研削装置であって、被加工物搬出手段は下面に被加工物を吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッドと、吸引保持パッドを一端部に支持する搬送アームと、搬送アームの一端部に吸引保持パッドを懸垂状態で弾性支持する支持手段と、搬送アームの一端部に装着され吸引保持パッドの外周を覆う遮蔽部材とを具備している。
【選択図】図5
Description
該被加工物搬出手段は、下面にウエーハを吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッドと、該吸引保持パッドを一端部に支持する搬送アームと、該搬送アームの一端部に吸引保持パッドを懸垂状態で弾性支持する支持手段と、該搬送アームの一端部に装着され該吸引保持パッドの外周を覆う遮蔽部材と、を具備している、
ことを特徴とする研削装置が提供される。
図示の実施形態における研削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。装置ハウジング2の図1において右上端には、静止支持板21が立設されている。この静止支持板21の内側面には、上下方向に延びる2対の案内レール22、22および23、23が設けられている。一方の案内レール22、22には粗研削手段としての粗研削ユニット3が上下方向に移動可能に装着されており、他方の案内レール23、23には仕上げ研削手段としての仕上げ研削ユニット4が上下方向に移動可能に装着されている。
図2および図3に示す被加工物搬出手段7は、下面に被加工物を吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッド71と、該吸引保持パッド71を一端部に支持する搬送アーム72と、該搬送アーム72の他端に連結され搬送アーム72を昇降する昇降手段73と、該昇降手段73を回動する旋回手段74と具備している。昇降機構73は例えばエアシリンダ機構等からなっており、そのピストンロッド731の上端が搬送アーム72の他端に連結されている。旋回手段74は正転・逆転可能な電動モータを含んでおり、昇降手段73を回動することにより該昇降手段73に連結された搬送アーム72をピストンロッド731を中心として揺動せしめる。
図示の実施形態における吸引保持パッド71は、円盤状の枠体711とパッド712とからなっている。枠体711は適宜の金属材によって構成され、その上面中央部には支持軸部711aが突出して形成されており、この支持軸部711aが搬送アーム72の一端部に装着される。支持軸部711aの上端には係止部711bが設けられており、この係止部711bが搬送アーム72に形成された係合部72aと係合するようになっている。なお、枠体711の上面と搬送アーム72との間には圧縮コイルバネ75が配設され、枠体711を下方に向けて付勢している。従って、支持軸部711aおよび圧縮コイルバネ75は、搬送アーム72の一端部に吸引保持パッド71を懸垂状態で弾性支持する支持手段として機能する。
第1のカセット11に収容された研削加工前の被加工物である半導体ウエーハWは被加工物搬送手段15によって中心合わせ手段13に搬送され、ここで中心合わせされる。中心合わせ手段13で中心合わせされた半導体ウエーハWは、被加工物搬入手段16の旋回動作によって被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル6の吸着保持チャック62上に載置される。そして、図示しない吸引手段を作動して、半導体ウエーハWを吸着保持チャック62上に吸引保持する。次に、ターンテーブル5を図示しない回転駆動機構によって矢印5aで示す方向に120度回動せしめて、半導体ウエーハWを載置したチャックテーブル6を粗研削加工域Bに位置付ける。
3:粗研削ユニット
33:研削ホイール
4:仕上げ研削ユニット
43:研削ホイール
5:ターンテーブル
6:チャックテーブル
7:被加工物搬出手段
71:吸引保持パッド
72:搬送アーム
73:昇降手段
74:旋回手段
78:遮蔽部材
79:板バネ
8:吸引手段
9:エアー供給手段
11:第1のカセット
12:第2のカセット
13:中心合わせ手段
14:スピンナー洗浄手段
15:被加工物搬送手段
16:被加工物搬入手段
W:半導体ウエーハ
T:保護テープ
Claims (2)
- 被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブル上に加工前の被加工物を搬入する被加工物搬入手段と、該チャックテーブル上に吸引保持された被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブル上で研削された加工後の被加工物を洗浄する洗浄手段と、該チャックテーブル上で研削された被加工物を該洗浄手段に搬出する被加工物搬出手段と、を具備する研削装置において、
該被加工物搬出手段は、下面に被加工物を吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッドと、該吸引保持パッドを一端部に支持する搬送アームと、該搬送アームの一端部に吸引保持パッドを懸垂状態で弾性支持する支持手段と、該搬送アームの一端部に装着され該吸引保持パッドの外周を覆う遮蔽部材と、を具備している、
ことを特徴とする研削装置。 - 該遮蔽部材は、該吸引保持パッドの外周を覆う環状側壁と、該環状側壁の上端から内側に突出する環状の上壁とからなっており、該上壁が板バネを介して該搬送アームの一端部に装着される、請求項1記載の研削装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009015000A JP5350818B2 (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 研削装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009015000A JP5350818B2 (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 研削装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010177228A true JP2010177228A (ja) | 2010-08-12 |
JP5350818B2 JP5350818B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=42707911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009015000A Active JP5350818B2 (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 研削装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5350818B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102456600A (zh) * | 2010-10-18 | 2012-05-16 | 株式会社迪思科 | 晶片搬送机构 |
JP2013157510A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | 貼着装置 |
US8888557B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-11-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing a semiconductor device |
JP2016152303A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 株式会社東京精密 | ウエハの受け渡し装置及び方法 |
CN112276792A (zh) * | 2019-07-11 | 2021-01-29 | 株式会社迪思科 | 晶片搬送机构和磨削装置 |
JP7460475B2 (ja) | 2020-07-29 | 2024-04-02 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS644585U (ja) * | 1987-06-26 | 1989-01-12 | ||
JPH0674286U (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-21 | 株式会社椿本チエイン | バキュームカップの着座ずれ防止構造 |
JP2003077982A (ja) * | 2001-09-05 | 2003-03-14 | Disco Abrasive Syst Ltd | 搬送装置 |
WO2004067234A1 (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-12 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | 真空吸着ヘッド |
-
2009
- 2009-01-27 JP JP2009015000A patent/JP5350818B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS644585U (ja) * | 1987-06-26 | 1989-01-12 | ||
JPH0674286U (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-21 | 株式会社椿本チエイン | バキュームカップの着座ずれ防止構造 |
JP2003077982A (ja) * | 2001-09-05 | 2003-03-14 | Disco Abrasive Syst Ltd | 搬送装置 |
WO2004067234A1 (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-12 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | 真空吸着ヘッド |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102456600A (zh) * | 2010-10-18 | 2012-05-16 | 株式会社迪思科 | 晶片搬送机构 |
US8888557B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-11-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing a semiconductor device |
JP2013157510A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | 貼着装置 |
JP2016152303A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 株式会社東京精密 | ウエハの受け渡し装置及び方法 |
CN112276792A (zh) * | 2019-07-11 | 2021-01-29 | 株式会社迪思科 | 晶片搬送机构和磨削装置 |
JP7358096B2 (ja) | 2019-07-11 | 2023-10-10 | 株式会社ディスコ | ウエーハ搬送機構および研削装置 |
CN112276792B (zh) * | 2019-07-11 | 2024-03-12 | 株式会社迪思科 | 晶片搬送机构和磨削装置 |
JP7460475B2 (ja) | 2020-07-29 | 2024-04-02 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5350818B2 (ja) | 2013-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4634949B2 (ja) | ウエーハの保持パッド | |
JP6679157B2 (ja) | 加工装置の搬送機構 | |
KR102482218B1 (ko) | 웨이퍼 생성 장치 | |
JP5350818B2 (ja) | 研削装置 | |
JP2009252877A (ja) | ウエーハの搬送方法および搬送装置 | |
JP2007305835A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5320014B2 (ja) | 研削装置 | |
KR20190056306A (ko) | 웨이퍼의 생성 방법 및 웨이퍼 생성 장치 | |
JP2007142327A (ja) | 半導体ウェハの加工装置 | |
JP5001074B2 (ja) | ウエーハの搬送機構 | |
JP2003243483A (ja) | 板状物の搬送機構および搬送機構を備えたダイシング装置 | |
JP2009253244A (ja) | ウエーハの搬出方法 | |
TWI806950B (zh) | 切削裝置 | |
JP6318033B2 (ja) | 研削装置及び保護テープ貼着方法 | |
JP2016154168A (ja) | 被加工物の受け渡し方法 | |
JP2003059872A (ja) | 研削装置 | |
JP2018086693A (ja) | 研削装置 | |
TW201941282A (zh) | 切割裝置 | |
JP5345457B2 (ja) | 研削装置 | |
JP2003282673A (ja) | 半導体ウエーハの搬送装置 | |
JP2012169487A (ja) | 研削装置 | |
JP2008183659A (ja) | 研削装置 | |
JP6208587B2 (ja) | 切削装置 | |
JP2014008597A (ja) | 研削装置 | |
JP5643019B2 (ja) | チャックテーブル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130328 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130730 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5350818 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |