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WO2012023349A1
(ja)
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2010-08-18 |
2012-02-23 |
Jsr株式会社 |
パターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物
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JP5848869B2
(ja)
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2010-08-25 |
2016-01-27 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法
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KR20130108302A
(ko)
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2010-09-16 |
2013-10-02 |
후지필름 가부시키가이샤 |
패턴 형성 방법, 화학증폭형 레지스트 조성물, 및 레지스트 막
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WO2012043415A1
(ja)
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2010-09-29 |
2012-04-05 |
Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物
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WO2012046543A1
(ja)
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2010-10-04 |
2012-04-12 |
Jsr株式会社 |
レジストパターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物
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JP5856414B2
(ja)
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2010-10-06 |
2016-02-09 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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KR101921367B1
(ko)
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2010-10-19 |
2018-11-22 |
제이에스알 가부시끼가이샤 |
레지스트 패턴 형성 방법 및 감방사선성 수지 조성물
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WO2012077433A1
(ja)
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2010-12-07 |
2012-06-14 |
Jsr株式会社 |
パターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物
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JP5928345B2
(ja)
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2011-01-28 |
2016-06-01 |
Jsr株式会社 |
レジストパターン形成方法
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JP5035466B1
(ja)
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2011-02-04 |
2012-09-26 |
Ｊｓｒ株式会社 |
レジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物
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JP5307171B2
(ja)
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2011-02-28 |
2013-10-02 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法
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JP5629610B2
(ja)
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2011-02-28 |
2014-11-26 |
富士フイルム株式会社 |
ネガ型パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜
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JP5715852B2
(ja)
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2011-02-28 |
2015-05-13 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜
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JP5856508B2
(ja)
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|
2011-04-13 |
2016-02-09 |
住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5353943B2
(ja)
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2011-04-28 |
2013-11-27 |
信越化学工業株式会社 |
パターン形成方法
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US9134617B2
(en)
|
2011-06-10 |
2015-09-15 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. |
Solvent developable negative resist composition, resist pattern formation method, and method for forming pattern of layer including block copolymer
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JP5857522B2
(ja)
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2011-08-16 |
2016-02-10 |
Jsr株式会社 |
化合物及びフォトレジスト組成物
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JP5501318B2
(ja)
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2011-09-22 |
2014-05-21 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
|
|
JP5618958B2
(ja)
*
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2011-09-22 |
2014-11-05 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
|
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JP2013079232A
(ja)
*
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2011-09-30 |
2013-05-02 |
Rohm & Haas Electronic Materials Llc |
光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
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JP5906076B2
(ja)
*
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2011-12-16 |
2016-04-20 |
東京応化工業株式会社 |
レジストパターン形成方法
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JP6182865B2
(ja)
*
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2012-01-17 |
2017-08-23 |
住友化学株式会社 |
レジストパターンの製造方法
|
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JP6144875B2
(ja)
*
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2012-03-14 |
2017-06-07 |
東京応化工業株式会社 |
溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
|
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JP5798964B2
(ja)
|
2012-03-27 |
2015-10-21 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、及び、これらを用いる電子デバイスの製造方法
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TWI527792B
(zh)
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2012-06-26 |
2016-04-01 |
羅門哈斯電子材料有限公司 |
光酸產生劑、含該光酸產生劑之光阻劑及含該光阻劑之經塗覆物件
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TWI602015B
(zh)
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2012-07-18 |
2017-10-11 |
住友化學股份有限公司 |
光阻組成物及光阻圖案之產生方法
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JP5953158B2
(ja)
|
2012-07-26 |
2016-07-20 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
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WO2014017144A1
(ja)
*
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2012-07-27 |
2014-01-30 |
Jsr株式会社 |
ネガ型レジストパターン形成方法及びフォトレジスト組成物
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JP6175226B2
(ja)
*
|
2012-09-28 |
2017-08-02 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、半導体製造用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び電子デバイスの製造方法
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JP5764589B2
(ja)
|
2012-10-31 |
2015-08-19 |
富士フイルム株式会社 |
化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の収容容器、並びに、これらを使用したパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
|
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JP6014507B2
(ja)
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2013-02-05 |
2016-10-25 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
|
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JP6002705B2
(ja)
|
2013-03-01 |
2016-10-05 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法
|
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JP6126878B2
(ja)
|
2013-03-15 |
2017-05-10 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及び電子デバイスの製造方法
|
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JP6229285B2
(ja)
*
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2013-03-28 |
2017-11-15 |
住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
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JP5728517B2
(ja)
|
2013-04-02 |
2015-06-03 |
富士フイルム株式会社 |
化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
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US10095113B2
(en)
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2013-12-06 |
2018-10-09 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company |
Photoresist and method
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WO2015174215A1
(ja)
*
|
2014-05-12 |
2015-11-19 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
|
|
US9581908B2
(en)
|
2014-05-16 |
2017-02-28 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. |
Photoresist and method
|
|
JP6457539B2
(ja)
|
2014-08-22 |
2019-01-23 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
|
|
JP6427590B2
(ja)
|
2014-09-30 |
2018-11-21 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、及び、レジスト膜のパターニング用有機系処理液が収容された収容容器、並びに、これらを使用したレジスト膜のパターニング用有機系処理液の保管方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
|
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JP6520490B2
(ja)
*
|
2015-07-08 |
2019-05-29 |
信越化学工業株式会社 |
パターン形成方法
|
|
WO2017170428A1
(ja)
|
2016-03-31 |
2017-10-05 |
富士フイルム株式会社 |
電子材料製造用薬液の製造方法、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法、電子材料製造用薬液、容器、及び、品質検査方法
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JP6902832B2
(ja)
*
|
2016-06-28 |
2021-07-14 |
東京応化工業株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
|
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KR20190099428A
(ko)
|
2016-12-28 |
2019-08-27 |
제이에스알 가부시끼가이샤 |
감방사선성 조성물, 패턴 형성 방법 그리고 금속 함유 수지 및 그의 제조 방법
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KR20220041860A
(ko)
*
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2019-07-30 |
2022-04-01 |
주식회사 다이셀 |
단량체, 포토레지스트용 수지, 포토레지스트용 수지 조성물 및 패턴 형성 방법
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