JP2010156553A - 試験装置の制御方法 - Google Patents

試験装置の制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010156553A
JP2010156553A JP2008333509A JP2008333509A JP2010156553A JP 2010156553 A JP2010156553 A JP 2010156553A JP 2008333509 A JP2008333509 A JP 2008333509A JP 2008333509 A JP2008333509 A JP 2008333509A JP 2010156553 A JP2010156553 A JP 2010156553A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
station
test
inspection
standard
under
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008333509A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5425462B2 (ja
Inventor
Haruyoshi Ono
晴義 小野
Isao Baba
功 馬場
Makoto Sugiyama
誠 杉山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Device Innovations Inc
Original Assignee
Sumitomo Electric Device Innovations Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Device Innovations Inc filed Critical Sumitomo Electric Device Innovations Inc
Priority to JP2008333509A priority Critical patent/JP5425462B2/ja
Priority to PCT/JP2009/070681 priority patent/WO2010073919A1/ja
Publication of JP2010156553A publication Critical patent/JP2010156553A/ja
Priority to US13/168,726 priority patent/US20110252860A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5425462B2 publication Critical patent/JP5425462B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/0014Measuring characteristics or properties thereof
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/01Subjecting similar articles in turn to test, e.g. "go/no-go" tests in mass production; Testing objects at points as they pass through a testing station

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

【課題】 複数の測定ステーションのいずれを用いても正常に点検を実施することができる、試験装置の制御方法を提供する。
【解決手段】 試験装置の制御方法は、複数の被試験デバイスステーションと、同じ項目を測定可能な複数の測定部と、複数の被試験デバイスステーションと複数の測定部との接続組合せを変更可能なマトリクススイッチと、を備える試験装置において、複数の測定部を用いて標準デバイスを測定することによって測定部の点検を行う測定部点検ステップを複数の測定部に対して行う第1ステップと、被試験デバイスステーションに標準サンプルを搭載し標準サンプルが搭載された被試験デバイスステーションと接続された測定部を用いて標準サンプルの点検を行う被試験デバイスステーション点検ステップを複数の被試験デバイスステーションに対して行う第2ステップと、を含む。
【選択図】 図3

Description

本発明は、試験装置の制御方法に関する。
ネットワーク型試験装置は、複数の被試験デバイスステーションと、複数の測定器とが接続部によって接続された構造を有している。このネットワーク型試験装置においては、複数の測定ステーションによって、標準サンプルが搭載された被試験デバイスステーションの点検が行われる(例えば、特許文献1参照)。
特開2007−271588号公報
ネットワーク型試験装置の点検作業については、これまでのところ提唱されていない。ここで、点検作業とは、被試験デバイスステーションに標準デバイスを搭載し、この標準デバイスの特性を測定ステーションで測定し、期待値が得られることを確認する作業のことをいう。
通常の試験装置では、被試験デバイスステーションと測定ステーションとが1対1で接続されている。このため、標準デバイスを被試験デバイスステーションに搭載しこれを測定ステーションで測定して期待値が得られれば、試験装置の点検は完了する。
しかしながら、ネットワーク型試験装置には、同じ項目を測定可能な測定ステーションが複数搭載されている。これらのうちいずれが被試験デバイスステーションと接続されるかは不定である。
このため、ネットワーク型試験装置において被試験デバイスステーションの1つに標準デバイスを搭載して点検作業を行った場合、複数の同じ測定ステーションのうち1つとしか接続が成立しないため、その他の測定ステーションと接続した場合の点検ができない。もちろん、この点検作業を他の被試験デバイスステーションに対して実施しても、すべての測定ステーションが点検に供される保証はない。
本発明の目的は、複数の測定ステーションのいずれを用いても正常に点検を実施することができる、試験装置の制御方法を提供することを目的とする。
本発明に係る試験装置の制御方法は、複数の被試験デバイスステーションと、同じ項目を測定可能な複数の測定部と、複数の被試験デバイスステーションと複数の測定部との接続組合せを変更可能なマトリクススイッチと、を備える試験装置において、複数の測定部を用いて標準デバイスを測定することによって測定部の点検を行う測定部点検ステップを複数の測定部に対して行う第1ステップと、被試験デバイスステーションに標準サンプルを搭載し標準サンプルが搭載された被試験デバイスステーションと接続された測定部を用いて標準サンプルの点検を行う被試験デバイスステーション点検ステップを複数の被試験デバイスステーションに対して行う第2ステップと、を含むことを特徴とするものである。
本発明に係る試験装置の制御方法においては、測定部点検ステップと被試験デバイスステーション点検ステップとを分けて実施することによって、点検済みの複数の測定部を用いて被試験デバイスステーションの点検を実施することができる。この場合、点検対象となる被試験デバイスステーションが点検済みのいずれの測定部と接続されても、正常に点検を実施することができる。
第2ステップは、第1ステップ後に実施されてもよい。この場合、点検済みの測定部を用いて被試験デバイスステーションの点検を実施することができる。それにより、被試験デバイスステーションの点検精度が向上する。
複数の測定部のうち一部に対して測定部点検ステップを実施し、残りの測定部については第2ステップと同時または第2ステップ後に測定部点検ステップを実施してもよい。この場合、被試験デバイスステーション点検ステップが完了するまでの時間が短縮化される。
第1ステップは、第2ステップ後に実施されてもよい。また、複数の被試験デバイスステーションのうち一部に対して被試験デバイスステーション点検ステップを実施し、残りの被試験デバイスステーションについては第1ステップと同時または第1ステップ後に被試験デバイスステーション点検ステップを実施してもよい。
測定部点検ステップは、被試験デバイスステーションに標準デバイスを搭載して測定部と接続することによって実施されてもよい。この場合、標準デバイスを搭載するためのステーションを新たに設ける必要がない。それにより、試験装置が簡略化される。
試験装置は、被試験デバイスステーションとは別に、標準デバイスと標準デバイスを駆動する駆動部とが搭載された標準ステーションを備え、測定部点検ステップは、標準ステーションに搭載された標準デバイスを測定するステップであってもよい。この場合、標準デバイスを搭載するための専用のステーションが配置される。それにより、標準デバイスを搭載するための工数を削減することができる。
本発明に係る方法は、第1ステップまたは第2ステップを実施する間、点検に供されない測定部と被試験デバイスステーションとの組を利用して被試験デバイスステーション点検ステップを実施する、第3ステップをさらに含んでいてもよい。この場合、点検効率が向上する。
本発明によれば、複数の測定器のいずれを用いても正常に点検を実施することができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
図1および図2(a)〜図2(c)を参照しつつ、実施例1に係る試験装置100について説明する。図1は、実施例1に係る試験装置100の全体構成を示す模式図である。図2(a)は、後述する被試験デバイスステーション30の詳細図である。図2(b)は、後述する測定ステーション20の詳細図である。図2(c)は、後述する標準ステーション50の詳細図である。
図1を参照して、試験装置100は、外部コントローラ10、複数の測定ステーション20、複数の被試験デバイスステーション30、マトリクススイッチ40、標準ステーション50等を備える。なお、マトリクススイッチ40には、コントローラ41が設けられている。
外部コントローラ10およびコントローラ41は、CPU(中央演算処理装置)、ROM(リードオンリメモリ)、RAM(ランダムアクセスメモリ)等から構成される。外部コントローラ10は、測定ステーション20、被試験デバイスステーション30、コントローラ41および標準ステーション50を制御する。
コントローラ41は、外部コントローラ10の指示に従って、マトリクススイッチ40を制御する。マトリクススイッチ40は、コントローラ41の指示に従って、各測定ステーション20と、各被試験デバイスステーション30および標準ステーション50との接続組合せを変更する。この場合、各測定ステーション20は、複数の被試験デバイスステーション30および標準ステーション50のうちいずれか1つと接続される。
図2(a)を参照して、各被試験デバイスステーション30は、デバイスを搭載可能な搭載部31、ドライバ32およびコントローラ33を備える。コントローラ33は、CPU、ROM、RAM等から構成され、ドライバ32の動作を制御する。ドライバ32は、コントローラ33の指示に従って、搭載部31に搭載されたデバイスを駆動する。本実施例においては、搭載部31には、一例として半導体レーザが搭載される。
図2(b)を参照して、各測定ステーション20は、測定器21およびコントローラ22を備える。コントローラ22は、CPU、ROM、RAM等から構成され、測定器21の動作を制御する。測定器21は、マトリクススイッチ40を介して接続された被試験デバイスステーション30または標準ステーション50に搭載されるデバイスの特性を、コントローラ22の指示に従って測定する装置である。各測定器21は、同じ特性を測定可能である。また、測定ステーション20は、例えば、光オシロスコープ、パワーメータ、波長計、BER測定器、スペクトラム測定器等のいずれかを測定器21として用いて測定することができる。なお、上記各測定器は、単体もしくは複数の測定機器から構成されていてもよい。また、測定ステーション20は、上記の各測定器21を複数用いた組を複数備えていてもよい。
図2(c)を参照して、標準ステーション50は、1以上の標準光源部51、コントローラ52および光スイッチ53を備える、各標準光源部51は、標準デバイス54およびドライバ55を備える。コントローラ52は、CPU、ROM、RAM等から構成され、各ドライバ55および光スイッチ53の動作を制御する。各ドライバ55は、コントローラ52の指示に従って、標準デバイス54を駆動する。標準デバイス54は、あらかじめ所定の特性を実現することが確認されたデバイスである。本実施例においては、標準デバイス54として、半導体レーザを用いる。光スイッチ53は、コントローラ52の指示に従って、いずれの標準デバイス54を光源として出力するか切り替えるスイッチである。
続いて、試験装置100の制御方法について説明する。図3は、外部コントローラ10によって実行される、試験装置100の制御方法の一例を示すフローチャートである。まず、外部コントローラ10は、変数「n」に「1」を代入する(ステップS1)。
次に、外部コントローラ10は、標準ステーション50の標準デバイス54を用いて、n番目の測定ステーション20の点検を実施する(ステップS2)。この場合、外部コントローラ10は、標準デバイス54とn番目の測定ステーションとが接続されるように、コントローラ41を介してマトリクススイッチ40を制御する。ステップS2の実行によって、n番目の測定ステーション20が正常に動作しているか否かが確認されるとともに、測定ステーション20からマトリクススイッチ40までの経路が正常であるか否かが確認される。
次いで、外部コントローラ10は、すべての測定ステーション20の点検が完了したか否かを判定する(ステップS3)。ステップS3において点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、変数「n」に「n+1」を代入する(ステップS4)。その後、外部コントローラ10は、ステップS2を再度実行する。
ステップS3において点検が完了したと判定された場合、外部コントローラ10は、未点検の被試験デバイスステーション30の搭載部31に標準サンプルが搭載されるまで待機する(ステップS5)。ここで、標準サンプルは、標準デバイスと同じ種類のデバイスであり、あらかじめ所定の特性を実現することが確認されたデバイスである。本実施例においては、標準サンプルは、半導体レーザである。
未点検の被試験デバイスステーション30の搭載部31に標準サンプルが搭載された後、外部コントローラ10は、点検済みの測定ステーション20を用いて、この標準サンプルを測定する(ステップS6)。この場合、外部コントローラ10は、標準デバイスサンプルと点検済みの測定ステーション20とが接続されるように、コントローラ41を介してマトリクススイッチ40を制御する。ステップS6の実行によって、被試験デバイスステーション30、ならびに、被試験デバイスステーション30からマトリクススイッチ40までの機器、経路等に不具合が生じていないか否かを検出することができる。
次に、外部コントローラ10は、すべての被試験デバイスステーションの点検が完了したか否かを判定する(ステップS7)。ステップS7において点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、ステップS5を再度実行する。ステップS7において点検が完了したと判定された場合、外部コントローラ10は、フローチャートの実行を終了する。
なお、被試験デバイスステーションおよび測定ステーションの点検頻度は同じでもよく、異なっていてもよい。例えば、測定ステーションの点検頻度を被試験デバイスステーションの点検頻度よりも高めておくことで、被試験デバイスステーションの点検時には、いずれの測定ステーションにおいても点検保証が十分確保された状態にできる。このことは、被試験デバイスステーションの点検時に、測定ステーションの点検待ち時間を解消する効果を有する。
本実施例によれば、測定ステーション20の点検ステップと被試験デバイスステーション30の点検ステップとを分けて実施することによって、点検済みの測定ステーション20を用いて被試験デバイスステーション30の点検を実施することができる。この場合、点検対象となる被試験デバイスステーション30が点検済みのいずれの測定ステーション20と接続されても、正常に点検を実施することができる。なお、被試験デバイスステーションと測定ステーションとが1対1で接続される一般の試験装置においては、被試験デバイスステーションと測定ステーションとの組が固定されるため、測定ステーションの点検ステップと被試験デバイスステーションの点検ステップとを分けて実施する必要はない。
また、本実施例によれば、標準デバイスを搭載するための専用の標準ステーション50が配置される。この場合、被試験デバイスステーション30に標準デバイスを搭載するための工数を削減することができる。一般に、被試験デバイスステーションは、型格ごとにデバイス接続のための治具が異なる。したがって、各治具の交換作業を含めると、工数が増大してしまう。しかしながら、標準ステーションを設ければ、専用の標準デバイスを標準ステーション50に内蔵しておくことができる。したがって、各治具の交換作業に要する工数を削減することができる。
また、標準ステーションを使用すれば、被試験デバイスステーションの治具部分に標準デバイスを脱着することによる特性への影響を抑制することができる。なお、本発明に関する点検のうち、特に測定ステーションの点検は、標準ステーションを使用すれば、全自動で実施することができる。したがって、実試験が行われない夜間などに測定ステーションの点検を行うことができるので、測定ステーションの点検が実試験の稼動を阻害することを防止できる効果が得られる。
一部の測定ステーション20の点検が終了した後に、被試験デバイスステーション30の点検を開始してもよい。図4は、この場合の試験装置100の制御方法の一例を示すフローチャートである。図4のステップS11およびS12は、図3のステップS1およびS2と同様のため、説明を省略する。ステップS12の実行後、外部コントローラ10は、すべての測定ステーション20の点検が完了したか否かを判定する(ステップS13)。それと同時に、外部コントローラ10は、変数「n」がしきい値「m(<n)」を上回った否かを判定する(ステップS15)。しきい値「m」は、任意であるが、例えばn/2程度の値とすることができる。
ステップS13においてすべての測定ステーション20の点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、変数「n」に「n+1」を代入する(ステップS14)。その後、外部コントローラ10は、ステップS12を再度実行する。ステップS13において測定ステーション20の点検が完了したと判定された場合、測定ステーション20の点検は終了する。
ステップS15において変数「n」がしきい値「m」を上回ったと判定されなかった場合、外部コントローラ10は待機する。ステップS15において変数「n」がしきい値「m」を上回ったと判定された場合、外部コントローラ10は、未点検の被試験デバイスステーション30の搭載部31に標準サンプルが搭載されるまで待機する(ステップS16)。なお、この場合、外部コントローラ10は、すべての測定ステーション20の点検が完了するまで測定ステーション20の点検を平行して実施する。ステップS17およびS18は、図3のステップS6およびS7と同様のため、説明を省略する。
本実施例によれば、すべての測定ステーション20の点検が完了する前に被試験デバイスステーション30の点検を開始することができる。この場合、被試験デバイスステーション30の点検が完了するまでの時間を短縮することができる。また、被試験デバイスステーション30の点検が1つ以上完了することで、測定ステーション20の点検が完了している組で先行して実試験を開始することができる。
測定ステーション20の点検前に被試験デバイスステーション30の点検を開始してもよい。図5は、この場合の試験装置100の制御方法の一例を示すフローチャートである。まず、外部コントローラ10は、未点検の被試験デバイスステーション30の搭載部31に標準サンプルが搭載されるまで待機する(ステップS21)。
未点検の被試験デバイスステーション30の搭載部31に標準サンプルが搭載された後、外部コントローラ10は、いずれかの測定器21を用いて、この標準サンプルを測定する(ステップS22)。次に、外部コントローラ10は、すべての被試験デバイスステーションの点検が完了したか否かを判定する(ステップS23)。ステップS23において点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、ステップS21を再度実行する。
ステップS23において点検が完了したと判定された場合、外部コントローラ10は、変数「n」に「1」を代入する(ステップS24)。
次に、外部コントローラ10は、標準ステーション50の標準デバイス54を用いて、n番目の測定ステーション20の測定器21の点検を実施する(ステップS25)。次いで、外部コントローラ10は、すべての測定ステーション20の点検が完了したか否かを判定する(ステップS26)。ステップS26において点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、変数「n」に「n+1」を代入する(ステップS27)。その後、外部コントローラ10は、ステップS25を再度実行する。
ステップS26において点検が完了したと判定された場合、外部コントローラ10は、フローチャートの実行を終了する。
本実施例によれば、測定ステーション20の点検に先行して被試験デバイスステーション30の点検を実施することができる。例えば、測定ステーション20の信頼性が比較的高い場合に有効な点検方法である。
一部の被試験デバイスステーション30の点検が終了した後に、測定ステーション20の点検を開始してもよい。図6は、この場合の試験装置100の制御方法の一例を示すフローチャートである。図6のステップS31およびS32は、図5のステップS21およびS22と同様のため、説明を省略する。ステップS32の実行後、外部コントローラ10は、すべての被試験デバイスステーション30の点検が完了したか否かを判定する(ステップS33)と同時に、所定数の被試験デバイスステーション30の点検が完了したか否かを判定する(ステップS34)。
ステップS33においてすべての被試験デバイスステーション30の点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、ステップS31を再度実行する。ステップS33においてすべての被試験デバイスステーション30の点検が完了したと判定された場合、被試験デバイスステーション30の点検が終了する。
ステップS34において所定数の被試験デバイスステーション30の点検が完了したと判定されなかった場合、外部コントローラ10は、待機する。ステップS34において所定数の被試験デバイスステーション30の点検が完了したと判定された場合、外部コントローラ10は、ステップS35を実行する。なお、ステップS35〜ステップS38は、図5のステップS24〜ステップS27と同様のため、説明を省略する。
本実施例によれば、すべての被試験デバイスステーション30の点検が完了する前に測定器21の点検を開始することができる。この場合、測定器21の点検が完了するまでの時間を短縮することができる。
標準ステーション50は必ずしも備わっていなくてもよい。図7は、実施例5に係る試験装置100aの全体構成を示す模式図である。図7に示すように、試験装置100aは、標準ステーション50を備えていない。この場合、いずれかの被試験デバイスステーション30に標準デバイスを搭載し、この標準デバイスを複数の測定ステーション20を用いて測定することによって、各測定ステーション20を点検することができる。
なお、上記各実施例においては同じ特性を測定可能な1種類の測定ステーション20が備わっているが、それに限られない。他の特性を測定可能な測定ステーションが複数備わっていれば、各種類の測定ステーション群に対して、図3〜図6のフローチャートと同様に測定ステーションの点検ステップと被試験デバイスステーションの点検ステップとを分けて実施すればよい。他の特性を測定可能な測定ステーションが1台しか備わっていない場合には、この1台の測定ステーションを用いて複数の被試験デバイスステーションの点検を実施すればよい。
また、上記各実施例においては外部コントローラ10を用いて試験装置100を制御したが、それに限られない。コントローラ11,22,33,52のいずれかが外部コントローラ10を代用してもよい。
なお、外部コントローラ10は、測定ステーション20および被試験デバイスステーション30の各々の点検履歴、点検実施の状態等を管理するためのテーブルを備えていてもよい。本発明の点検においては、外部コントローラ10は、このテーブルを参照して、点検要否あるいは点検中における通常試験のリクエストの拒否などのコントロールを実施してもよい。
また、上記各実施例において、測定器点検ステップに供されていない測定器21と被試験デバイスステーション点検行程に供されていない被試験デバイスステーション30とを用いて、1対1接続の通常の点検を実施してもよい。この場合、点検効率が向上する。
実施例1に係る試験装置の全体構成を示す模式図である。 (a)は後述する被試験デバイスステーションの詳細図であり、(b)は後述する測定ステーションの詳細図であり、(c)は後述する標準ステーションの詳細図である。 外部コントローラによって実行される、試験装置の制御方法の一例を示すフローチャートである。 試験装置の制御方法の他の例を示すフローチャートである。 試験装置の制御方法の他の例を示すフローチャートである。 試験装置の制御方法の他の例を示すフローチャートである。 実施例5に係る試験装置の全体構成を示す模式図である。
符号の説明
10 外部コントローラ
20 測定ステーション
21 測定器
22 コントローラ
30 被試験デバイスステーション
31 搭載部
32 ドライバ
33 コントローラ
40 マトリクススイッチ
41 コントローラ
50 標準ステーション
51 標準光源部
52 コントローラ
53 光スイッチ
54 標準デバイス
55 ドライバ
100 試験装置

Claims (8)

  1. 複数の被試験デバイスステーションと、同じ項目を測定可能な複数の測定部と、前記複数の被試験デバイスステーションと前記複数の測定部との接続組合せを変更可能なマトリクススイッチと、を備える試験装置において、
    標準デバイスを測定することによって前記測定部の点検を行う測定部点検ステップを、前記複数の測定部に対して行う第1ステップと、
    前記被試験デバイスステーションに標準サンプルを搭載し、前記標準サンプルが搭載された前記被試験デバイスステーションと接続された測定部を用いて前記標準サンプルの点検を行う被試験デバイスステーション点検ステップを、前記複数の被試験デバイスステーションに対して行う第2ステップと、を含むことを特徴とする試験装置の制御方法。
  2. 前記第2ステップは、前記第1ステップ後に実施されることを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
  3. 前記複数の測定部のうち一部に対して前記測定部点検ステップを実施し、残りの測定部については前記第2ステップと同時または前記第2ステップ後に前記測定部点検ステップを実施することを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
  4. 前記第1ステップは、前記第2ステップ後に実施されることを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
  5. 前記複数の被試験デバイスステーションのうち一部に対して前記被試験デバイスステーション点検ステップを実施し、残りの被試験デバイスステーションについては前記第1ステップと同時または前記第1ステップ後に前記被試験デバイスステーション点検ステップを実施することを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
  6. 前記測定部点検ステップは、前記被試験デバイスステーションに前記標準デバイスを搭載して前記測定部と接続することによって実施されることを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
  7. 前記試験装置は、前記被試験デバイスステーションとは別に、標準デバイスと前記標準デバイスを駆動する駆動部とが搭載された標準ステーションを備え、
    前記測定部点検ステップは、前記標準ステーションに搭載された前記標準デバイスを測定するステップであることを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
  8. 前記第1ステップまたは前記第2ステップを実施する間、点検に供されない前記測定部と前記被試験デバイスステーションとの組を利用して前記被試験デバイスステーション点検ステップを実施する、第3ステップをさらに含むことを特徴とする請求項1記載の試験装置の制御方法。
JP2008333509A 2008-12-26 2008-12-26 試験装置の制御方法 Active JP5425462B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008333509A JP5425462B2 (ja) 2008-12-26 2008-12-26 試験装置の制御方法
PCT/JP2009/070681 WO2010073919A1 (ja) 2008-12-26 2009-12-10 試験装置の制御方法
US13/168,726 US20110252860A1 (en) 2008-12-26 2011-06-24 Method for controlling testing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008333509A JP5425462B2 (ja) 2008-12-26 2008-12-26 試験装置の制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010156553A true JP2010156553A (ja) 2010-07-15
JP5425462B2 JP5425462B2 (ja) 2014-02-26

Family

ID=42287535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008333509A Active JP5425462B2 (ja) 2008-12-26 2008-12-26 試験装置の制御方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20110252860A1 (ja)
JP (1) JP5425462B2 (ja)
WO (1) WO2010073919A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015040795A (ja) * 2013-08-22 2015-03-02 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 試験装置
JP2015049106A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 試験装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6966039B2 (ja) * 2017-10-25 2021-11-10 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 試験装置
CN113252095B (zh) * 2021-04-30 2022-08-12 联合汽车电子有限公司 一种利用标准工件对并行工位进行校验的方法及装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63298073A (ja) * 1987-05-29 1988-12-05 Asia Electron Kk Dcパラメ−タテストシステム
JP2004101461A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Daitron Technology Co Ltd 電子素子の動作特性測定装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4921347A (en) * 1988-01-25 1990-05-01 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for calibrating a lightwave component measurement system
JPH09264765A (ja) * 1996-03-29 1997-10-07 Hitachi Ltd 計測器精度管理システム
TW524969B (en) * 2002-07-25 2003-03-21 Faztec Optronics Corp Rapid testing system for optical transmission module and the testing method
US7474851B2 (en) * 2004-09-24 2009-01-06 Intel Corporation Optical transceiver tester
JP4571093B2 (ja) * 2006-03-31 2010-10-27 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 試験システム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63298073A (ja) * 1987-05-29 1988-12-05 Asia Electron Kk Dcパラメ−タテストシステム
JP2004101461A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Daitron Technology Co Ltd 電子素子の動作特性測定装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015040795A (ja) * 2013-08-22 2015-03-02 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 試験装置
JP2015049106A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 試験装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2010073919A1 (ja) 2010-07-01
US20110252860A1 (en) 2011-10-20
JP5425462B2 (ja) 2014-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5425462B2 (ja) 試験装置の制御方法
JP6104578B2 (ja) 検査装置および検査方法
TW201901167A (zh) 元件之檢查方法
CN110824338A (zh) 一种自动测试芯片的方法及系统
JP2008002900A (ja) 半導体装置のスクリーニング方法と装置並びにプログラム
JP5215148B2 (ja) 絶縁検査装置および絶縁検査方法
JP2009270903A (ja) 半導体装置の試験装置および試験方法
TW552424B (en) Screening of semiconductor integrated circuit devices
KR101599459B1 (ko) 반도체 소자 테스트 시스템 및 방법
KR100750397B1 (ko) 웨이퍼 검사장치의 멀티 테스트 구현시스템
JP2010002315A (ja) 半導体試験装置とそのdc特性試験方法
KR101336345B1 (ko) 반도체 테스트 시스템에서의 모듈 단위 테스트 이벤트 신호 제어 장치
JP2009288064A (ja) 半導体試験装置及び方法
CN104101855A (zh) 监控探针卡漏电的方法及探针卡漏电监控系统
JP2004163194A (ja) Icテスタ及び試験モジュール
JP2010165819A (ja) 半導体集積回路の試験装置、試験方法
JP5496599B2 (ja) 絶縁検査装置および絶縁検査方法
US9791506B1 (en) Cross-platform device testing through low level drivers
JP2010014597A (ja) 可動式コンタクト検査装置
JP2002131372A (ja) 半導体デバイスの検査方法及び検査装置
KR100738956B1 (ko) 웨이퍼 레벨 번인 테스트 장치
KR20080102827A (ko) 모니터 번인 시스템
Titu-Marius Environmental Stress Screening and Burn-in.
US20120179943A1 (en) Method for information transfer in a voltage-driven intelligent characterization bench for semiconductor
Băjenescu Environmental Stress Screening and Burn-in

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130305

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130424

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131126

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131127

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5425462

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250