JP2010155795A - アミンアランの精製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】不純物としてハロゲンを含有するアランのアミン付加化合物(アミンアラン:一般式AlH3(NR1R2R3)n[n=1または2]で表され、R1、R2、R3がアルキル基である)と金属水素化物(特にアルカリ金属の水素化物が好ましい)とを接触させることで、アミンアランを精製する。
【選択図】なし
Description
1)MAlH4+R1R2R3N・HX → AlH3(NR1R2R3)+H2↑+MX↓ (反応式1)
(非特許文献1および特許文献1) 。
2)MAlH4+HX+NR1R2R3 → AlH3(NR1R2R3)+H2↑+MX↓ (反応式2)
(特許文献2)
3)3MAlH4+AlX3+4NR1R2R3 → 4AlH3(NR1R2R3)+3MX (反応式3)
(特許文献3および4)
4)3MH+AlX3+→ AlH3+3MX↓
AlH3+NR1R2R3 → AlH3(NR1R2R3) (反応式4)
(特許文献5)
1)塩化水素、臭化水素等のハロゲン化水素が発生し、配管内部等の腐食の原因となる、
2)アミンとハロゲン化水素が反応し、固体のアミン・ハロゲン化水素塩となり配管が詰まる原因となる。
3)得られた膜にもハロゲンが残留する可能性がある。
以上のとおり、ハロゲン不純物の少ないアミンアランを製造することが望まれているところ、本発明の目的は、不純物としてハロゲンを含むアミンアランからハロゲンを除去する方法を提供することにある。
本方法で精製したアミンアランは、配管内部等の腐食・詰まりといった問題を起こしにくくCVD等での利用に適している。
本発明における不純物としてハロゲンを含むアミンアランとは、ハロゲンを含む原料から合成されたアミンアランのことを指す。好ましくは、上記反応式1〜4に基づき調製されたアミンアランである。ここで、アミンアランは単離されていなくても良く、反応後の反応溶液そのもの、もしくは濾過により固形物を除いた後の反応溶液であっても良い。
AlH3(NR1R2R3)n (1)
で表すことができる。
(1) アミンアランに含まれる塩素量定量
グローブボックス内でアミンアラン0.1mLをスクリュー管にとり、天秤にて0.1mgの桁まで秤量した。上記アミンアランにヘプタン1mLを加えた後、グローブボックス外で一晩静置した。一晩静置後、アミンアランのヘプタン溶液に、メタノールを2〜3滴滴下し、アミンアランを完全に分解させた。そこにイオン交換水10.0mLを加え、5分超音波処理した後、1時間静置した。以上の操作により、溶液はヘプタン層と白沈を含む水層に分かれる。水層を、イオンクロマト用溶離液にて500倍に希釈し、希釈液を濾過した後、イオンクロマトにて塩素イオン濃度の定量を行った。500倍希釈では塩素のピークが弱く検出できなかった時は、新たに50倍希釈液を調製しイオンクロマトによる塩素濃度定量を行った。イオン濃度定量は、関東化学製イオン混合標準液(陰イオンI)を測定し得られるピーク面積を基準に絶対検量線法に従って行った。
イオンクロマト装置:
ポンプ、Shimadzu LC−6A;
カラムヒーター、Shimadzu CTO−6A;
電気伝導度検出器、Shodex CD−4;
システムコントローラー、Shimadzu SCL−6B;
レコーダー、Shimadzu C−R5A;
カラム Shodex I−524A。
流量、1mL/min;
カラム温度、40℃;
溶離液、2.5mMフタル酸水溶液。
アミンアランの例としてトリエチルアミンアランAlH3(NEt3)を調製した。
金属水素化物として水素化リチウム(LiH)を用いた。LiHのMTBE懸濁液に、アミンアラン粗製物(実施例1および2)をグローブボックス内で滴下した。この際、用いたアミンアラン粗製物、溶媒、および添加物の量は表1の通りである。この混合液を4〜7日グローブボックス内で静置した後、濾過により沈澱を除き、得た濾液を真空に引き溶媒を留去させた。残留物を再び濾過し、無色透明液体を回収した。この無色透明液体についてイオンクロマトにより塩素濃度を定量した。
塩素定量結果を表2に示す。
本発明により提供される方法によって、ハロゲン不純物含有の少ないアミンアランを得ることができる
本発明の方法で精製したアミンアランは、配管内部等の腐食・詰まりといった問題を起こしにくく、得られる膜にもハロゲンが残留する可能性が非常に低くなるため、CVD等での利用に適している。
また、本発明の方法により精製したアミンアランは、半導体産業においてCVD、ALD、塗布法等を用いたアルミニウム製膜に用いることができる。
Claims (4)
- 不純物としてハロゲンを含有するアランのアミン付加化合物(アミンアラン)と金属水素化物とを接触させることを特徴とするアミンアランの精製方法。
- 前記金属水素化物が、アルカリ金属の水素化物である請求項1に記載のアミンアランの精製方法
- 前記金属水素化物が、水素化リチウムである請求項1に記載のアミンアランの精製方法。
- 前記アミンアランが、一般式AlH3(NR1R2R3)n [n=1または2]で表され、R1、R2、R3がアルキル基である請求項1〜3のいずれかに記載のアミンアランの精製方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116284096A (zh) * | 2023-05-19 | 2023-06-23 | 研峰科技(北京)有限公司 | 一种超低氯离子含量的三(叔丁氧基)硅烷醇的合成方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63159215A (ja) * | 1986-11-04 | 1988-07-02 | エチル、コーポレーション | シランおよびアミンアランの調製 |
JPS63190890A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-08-08 | エシル コーポレーション | アミンアランの製造方法 |
JPS63307887A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-12-15 | アルベマール・コーポレーシヨン | アミンアランの安定化 |
JPH03183615A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-08-09 | Ethyl Corp | シランおよびアミンアランの製造 |
JPH06220069A (ja) * | 1991-11-25 | 1994-08-09 | Japan Energy Corp | タンタルアルコキシドの精製方法、及び高純度タンタルアルコキシド並びにこれを用いた気相成長法 |
JP2000239189A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-05 | Ebara Corp | 有機塩素化合物の混入した有機溶剤の処理方法 |
JP2002080630A (ja) * | 2000-07-03 | 2002-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ハロゲンを含む難燃性樹脂組成物の脱ハロゲン化処理方法 |
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2008
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63159215A (ja) * | 1986-11-04 | 1988-07-02 | エチル、コーポレーション | シランおよびアミンアランの調製 |
JPS63190890A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-08-08 | エシル コーポレーション | アミンアランの製造方法 |
JPS63307887A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-12-15 | アルベマール・コーポレーシヨン | アミンアランの安定化 |
JPH03183615A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-08-09 | Ethyl Corp | シランおよびアミンアランの製造 |
JPH06220069A (ja) * | 1991-11-25 | 1994-08-09 | Japan Energy Corp | タンタルアルコキシドの精製方法、及び高純度タンタルアルコキシド並びにこれを用いた気相成長法 |
JP2000239189A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-05 | Ebara Corp | 有機塩素化合物の混入した有機溶剤の処理方法 |
JP2002080630A (ja) * | 2000-07-03 | 2002-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ハロゲンを含む難燃性樹脂組成物の脱ハロゲン化処理方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116284096A (zh) * | 2023-05-19 | 2023-06-23 | 研峰科技(北京)有限公司 | 一种超低氯离子含量的三(叔丁氧基)硅烷醇的合成方法 |
CN116284096B (zh) * | 2023-05-19 | 2023-09-19 | 研峰科技(北京)有限公司 | 一种超低氯离子含量的三(叔丁氧基)硅烷醇的合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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