JPS63190890A - アミンアランの製造方法 - Google Patents
アミンアランの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアミンアラン/’i H3NR3の製造に関す
る。
る。
この物質は化学中間体として有用である。例えば、これ
は81Cj4またはSiF4のようなハofン化ケイ素
と反応してシランを生成することかできろ。
は81Cj4またはSiF4のようなハofン化ケイ素
と反応してシランを生成することかできろ。
米国特許第4,474.743号を参照する。これは四
フッ化ケイ素とアミンアランよりシランとフッ化アルミ
ニウムの製造に関する。′!!た米国特許第4.006
.095号を参照する。これは、なかんず(,81Cj
、がジメチルエーテルまたは安定性アミン’&ffむA
lH3のトルエン溶液と反応することを教示する。
フッ化ケイ素とアミンアランよりシランとフッ化アルミ
ニウムの製造に関する。′!!た米国特許第4.006
.095号を参照する。これは、なかんず(,81Cj
、がジメチルエーテルまたは安定性アミン’&ffむA
lH3のトルエン溶液と反応することを教示する。
上記の米国特許第4.474.745号は米国籍許第4
.006.095号への引用なさむ。それはまたアミン
アランの製造に関するその他の従来の技術についても述
べている。例えば、それはアミンプランを製造するため
の次の一般的方法を記載している。
.006.095号への引用なさむ。それはまたアミン
アランの製造に関するその他の従来の技術についても述
べている。例えば、それはアミンプランを製造するため
の次の一般的方法を記載している。
米国特許第4.474,743号はfだ久のように述べ
ている。
ている。
[アラン、丁なわち三水素化アルミニウムまたはAlH
3、は過去においてエーテル中でのLiAlH4とA1
.C13の反応より製造されていた。またN a MH
4を触媒としてジメチルエーテル中でのLiHとA!c
i3の反応によるアランのジメチルエーテル浴液の製造
も知られている。
3、は過去においてエーテル中でのLiAlH4とA1
.C13の反応より製造されていた。またN a MH
4を触媒としてジメチルエーテル中でのLiHとA!c
i3の反応によるアランのジメチルエーテル浴液の製造
も知られている。
アミンがアミンアランを製造するために、それに続く台
底過程に使用される。例えば、LiAj4H4をトリア
ルキルアミン・HCJ錯体と反応させて、Li(Jを沈
殿させかつAlH3・NR3を生成させるc前式中Rは
アルキルである)。」 反応方程式峨3)により示される反応は特に興味ある。
底過程に使用される。例えば、LiAj4H4をトリア
ルキルアミン・HCJ錯体と反応させて、Li(Jを沈
殿させかつAlH3・NR3を生成させるc前式中Rは
アルキルである)。」 反応方程式峨3)により示される反応は特に興味ある。
その方程式により説明されるよ5 Vc%アミン塩坂塩
は水素化アルミニウムナトリウムと反応してアミンプラ
ン、塩化ナトリウム、および水を生成することかできる
。この反応はRuffらによる論文、J、Nn、ohe
m、soc、 82 pp 2141−2144(19
60ン、に報告されているLiAiHaを便用する反応
に似ている。
は水素化アルミニウムナトリウムと反応してアミンプラ
ン、塩化ナトリウム、および水を生成することかできる
。この反応はRuffらによる論文、J、Nn、ohe
m、soc、 82 pp 2141−2144(19
60ン、に報告されているLiAiHaを便用する反応
に似ている。
本発明は、(+)Hユ、またはHBr 、または類似の
物質、(il)錯生成第三級アミン、および(+ii)
アルカリ金属アルミニウム水素化物、MA1H4(上式
中MはLi、NaまたはKであるン、を反応させること
によりアミンアランを生成する方法から成る。
物質、(il)錯生成第三級アミン、および(+ii)
アルカリ金属アルミニウム水素化物、MA1H4(上式
中MはLi、NaまたはKであるン、を反応させること
によりアミンアランを生成する方法から成る。
本発明により製造されるアミンアランは、例えば、前記
に引用された米国特許第4.474.743号の方法を
用いて、反応によりシランを生成することかできる。シ
ランは重要な商業的製品である。それは半導体装置の製
造に使用される。それはまたポリシリコンの形成のため
の中間体としても使用される。この物質もまた半導体の
製造に用いられる。
に引用された米国特許第4.474.743号の方法を
用いて、反応によりシランを生成することかできる。シ
ランは重要な商業的製品である。それは半導体装置の製
造に使用される。それはまたポリシリコンの形成のため
の中間体としても使用される。この物質もまた半導体の
製造に用いられる。
本発明の方法は前もって形成されたアミン塩酸塩を使用
しないので、方程式(3)の方法と異なる。
しないので、方程式(3)の方法と異なる。
本発明の方法は、アミンとハロrン化水素(例えば、H
Cj)を結合されていない形で錯体金属アルミニウム水
素化物と反応のために一緒にすることを言んでいる。し
たがって、例えば、本発明の方法を、アルカリ金属アル
ミニウム水素化物とアミンの混合物を作ってから、久に
7% eiデン化水素を前記の混合物に加えることによ
り実施することができる。またはその代りに、本発明の
方法を、アルカリ金属アルミニウム水素化物(ガえばN
a JV!H4)を反応帯域に加えてから、次に同時に
(または実質的に同時に)好みのアミンと710rン化
水素をその錯体金属水素化物に加え、それにより最初に
卯見られた原料を反応させて、本発明の製品を生成させ
ることにより実施することができる。
Cj)を結合されていない形で錯体金属アルミニウム水
素化物と反応のために一緒にすることを言んでいる。し
たがって、例えば、本発明の方法を、アルカリ金属アル
ミニウム水素化物とアミンの混合物を作ってから、久に
7% eiデン化水素を前記の混合物に加えることによ
り実施することができる。またはその代りに、本発明の
方法を、アルカリ金属アルミニウム水素化物(ガえばN
a JV!H4)を反応帯域に加えてから、次に同時に
(または実質的に同時に)好みのアミンと710rン化
水素をその錯体金属水素化物に加え、それにより最初に
卯見られた原料を反応させて、本発明の製品を生成させ
ることにより実施することができる。
本発明の方法は従来の技術から自明のものではない。実
際に、それは従来の技術の示唆するものと反対である。
際に、それは従来の技術の示唆するものと反対である。
前記のRuffらは熟練した当菓者に、前もって作られ
たアミン塩酸を変用することが必要であると示唆してい
る。Ashby”1’hθはプロトン性およびハロダン
坂はLiAj、H4と激しく反応し℃水系を発生するこ
とを教示する。地方Li At H4のTH1F溶液に
IJOえると水系を発生し℃、水素化アルミニウムの浴
液を生成することができると報告している。しかし、い
ずれの場合においても〜 )9エンのような不活性溶媒
中の錯体水素化アルミニウムのlII!濁液Vc#lを
8口えるとき何が起るかについて何も明示していない。
たアミン塩酸を変用することが必要であると示唆してい
る。Ashby”1’hθはプロトン性およびハロダン
坂はLiAj、H4と激しく反応し℃水系を発生するこ
とを教示する。地方Li At H4のTH1F溶液に
IJOえると水系を発生し℃、水素化アルミニウムの浴
液を生成することができると報告している。しかし、い
ずれの場合においても〜 )9エンのような不活性溶媒
中の錯体水素化アルミニウムのlII!濁液Vc#lを
8口えるとき何が起るかについて何も明示していない。
Huffらおよ(j Ashbyの文献を組合せること
により、熟練した当業者は、錯体金属水素化物とハロゲ
ン化水素とは有害な仕方で相互に作用して、本発明の方
εに従って反応させるためには両者共使用できなくさせ
る可能性があるから、本発明の方法はうま(ゆかないで
あろうと結論したであろう。
により、熟練した当業者は、錯体金属水素化物とハロゲ
ン化水素とは有害な仕方で相互に作用して、本発明の方
εに従って反応させるためには両者共使用できなくさせ
る可能性があるから、本発明の方法はうま(ゆかないで
あろうと結論したであろう。
本発明の方法は反応条件の下に反応物を接触させること
により行なわれる。その上、前記のように、そnは従来
の方法に使用される前もって作られたアミン塩#l塩を
必要としない。したがって、一つの態様において、本発
明は錯体金属水素化物、アミン、および塩化水5ttI
y、応させるための方法から成る。この方法は添DOさ
れた前もつ℃作られたアミン塩酸塩の実質的不在におい
1行なわれる。
により行なわれる。その上、前記のように、そnは従来
の方法に使用される前もって作られたアミン塩#l塩を
必要としない。したがって、一つの態様において、本発
明は錯体金属水素化物、アミン、および塩化水5ttI
y、応させるための方法から成る。この方法は添DOさ
れた前もつ℃作られたアミン塩酸塩の実質的不在におい
1行なわれる。
本発明の方法は、Ruffらにより便用されたエーテル
反応媒体を必要としない。本発明の方法はエーテルの存
在で実施されることができるけれども、それはエーテル
類の実質的不在において行なわれることがより好ましい
。
反応媒体を必要としない。本発明の方法はエーテルの存
在で実施されることができるけれども、それはエーテル
類の実質的不在において行なわれることがより好ましい
。
いかなる理論によっても束縛されないが、本発明の方法
は次の方程式により説明されろことができると信じられ
る。この方程式において四水素化アルミニウムナトリウ
ムとトリエチルアミンがHCjと反応させられる。
は次の方程式により説明されろことができると信じられ
る。この方程式において四水素化アルミニウムナトリウ
ムとトリエチルアミンがHCjと反応させられる。
(51NauH4+HCL十(C!2H5)3NAi)
13・N(C!2H5)3 +NaCj +H2この方
法は液体反応媒体の存在で行なわれることか好ましい。
13・N(C!2H5)3 +NaCj +H2この方
法は液体反応媒体の存在で行なわれることか好ましい。
過剰の第三級アミンと炭化水素は適当な液媒体の例であ
る。トルエンは好まれる炭化水素反応媒体である。
る。トルエンは好まれる炭化水素反応媒体である。
上記の教示のように、本発明は錯体金属アルミニウム水
素化物を反応させることから成る。上に示したように、
好まれる錯体は式MAZH4を百する。
素化物を反応させることから成る。上に示したように、
好まれる錯体は式MAZH4を百する。
前式中Mはアルカリ金属である。丁べて3種のアルカリ
金属ノ化合物、LiAlH4,NaA1H4オよひKA
lH41ft便用することができる。市場では、KM■
4は塊在容易に入手できない。したかつ℃LiAjH4
とN a AU H4が好まれる。ナトリウム化合物は
リチウム類似体LiAjH4よりもはるかに安価である
ので、したかつてN a l’J H4の便用がより多
く好まれる。そのナトリウム化合物は炭化水素と混合し
て使用することができる。さらに、N ’ 3 A−I
H6なる化合物もN a kl H4と同様に本発明
において使用することができる。したがって、そのハロ
ゲン化水素(例えば、HCj ) 、および第三級アミ
ン(例えば、トリエチルアミン)との反応(水素、塩化
ナトリウムおよびアミンアランを生成する)は本発明の
一つの態様と考えられる。
金属ノ化合物、LiAlH4,NaA1H4オよひKA
lH41ft便用することができる。市場では、KM■
4は塊在容易に入手できない。したかつ℃LiAjH4
とN a AU H4が好まれる。ナトリウム化合物は
リチウム類似体LiAjH4よりもはるかに安価である
ので、したかつてN a l’J H4の便用がより多
く好まれる。そのナトリウム化合物は炭化水素と混合し
て使用することができる。さらに、N ’ 3 A−I
H6なる化合物もN a kl H4と同様に本発明
において使用することができる。したがって、そのハロ
ゲン化水素(例えば、HCj ) 、および第三級アミ
ン(例えば、トリエチルアミン)との反応(水素、塩化
ナトリウムおよびアミンアランを生成する)は本発明の
一つの態様と考えられる。
方程式(5)により説明される本発明の方法において、
HCJが便用される。その他の物質、例えば、HF%H
Br 、およびHlなど、もfた本発明の方法において
便用することができる。
HCJが便用される。その他の物質、例えば、HF%H
Br 、およびHlなど、もfた本発明の方法において
便用することができる。
不発に!Aは、水素化アルミニウムkLH5と錯体な生
成することによりアミンアランを形成する第三級アミン
アランして実施される。本発明を説明する目的のため、
このように使用されるアミンはここでは「錯生成第三級
アミン」と呼ばれる。不発明において便用されることの
できる適当な錯生成第三級アミンは液体または低融点の
固体であり、第三級アリール、環式、アルキル、アルケ
ニルおよびアラルキルアミンを言み、そしてモノアミン
、シアミンおよびトリアミンな言む。代表的には、本発
明のアミンは、テトラメチルエチレンジアミン、ジフェ
ニルメチルアミン、トリエチレンジアミン、フェニルメ
チルエチルアミン、トリシクロヘキシルアミン、または
それらの混合物、および類似の化合物であってよい。本
発明において使用のためより好まれる種類のアミンは指
切族第三級アミンであって、それらはトリアルキルアミ
ンとトリアルケニルアミンを富む。さらに、これらのア
ミンは一般に夫々約60までの炭素原子を冨むことがで
きるが、好ましくは1〜100尖索原子を夫々有するア
ルキルおよびアルケニル基を言むアミ/である。したが
って、この種類の有用なアミンはトリーn−ブチルアミ
ン、トリー8−ブチルアミン、ジブチルペンチルアミン
、n−ブチル−オクチル−〇−ブチルアミン、トリペン
チルアミノ、トリヘキシルアミン、トリへキセニルアミ
ン、トリオクタデシルアミン、およびジブセニルペンチ
ルアミン、並びにそれらの混合物である。
成することによりアミンアランを形成する第三級アミン
アランして実施される。本発明を説明する目的のため、
このように使用されるアミンはここでは「錯生成第三級
アミン」と呼ばれる。不発明において便用されることの
できる適当な錯生成第三級アミンは液体または低融点の
固体であり、第三級アリール、環式、アルキル、アルケ
ニルおよびアラルキルアミンを言み、そしてモノアミン
、シアミンおよびトリアミンな言む。代表的には、本発
明のアミンは、テトラメチルエチレンジアミン、ジフェ
ニルメチルアミン、トリエチレンジアミン、フェニルメ
チルエチルアミン、トリシクロヘキシルアミン、または
それらの混合物、および類似の化合物であってよい。本
発明において使用のためより好まれる種類のアミンは指
切族第三級アミンであって、それらはトリアルキルアミ
ンとトリアルケニルアミンを富む。さらに、これらのア
ミンは一般に夫々約60までの炭素原子を冨むことがで
きるが、好ましくは1〜100尖索原子を夫々有するア
ルキルおよびアルケニル基を言むアミ/である。したが
って、この種類の有用なアミンはトリーn−ブチルアミ
ン、トリー8−ブチルアミン、ジブチルペンチルアミン
、n−ブチル−オクチル−〇−ブチルアミン、トリペン
チルアミノ、トリヘキシルアミン、トリへキセニルアミ
ン、トリオクタデシルアミン、およびジブセニルペンチ
ルアミン、並びにそれらの混合物である。
アルケニルアミン中の若干の不飽和は反応中に発生する
水素により還元されることがある。本発明における使用
に最も好まれる種類のアミンは低級アルキルアミンであ
り、例えば、トリメチルアミン、トリインプロピルアミ
ン、ソシて4![)IJエチルアミンである。「低級」
という用語は、アルキル基か夫々6またはそれより少な
い炭素原子を有することを意味する。上記の化合物は当
業者に周知の方法により容易に製造され得るものである
。
水素により還元されることがある。本発明における使用
に最も好まれる種類のアミンは低級アルキルアミンであ
り、例えば、トリメチルアミン、トリインプロピルアミ
ン、ソシて4![)IJエチルアミンである。「低級」
という用語は、アルキル基か夫々6またはそれより少な
い炭素原子を有することを意味する。上記の化合物は当
業者に周知の方法により容易に製造され得るものである
。
本発明の製品は水素化アルミニウムと錯体を生成したこ
れらのアミンである。
れらのアミンである。
有用な錯生成アミンはまた第三級ポリアミンであり、列
えば、N、N、N’、IJ’−テトラメチルエチレンジ
アミンおよび1,4−ジアゾビシクロC2,2,2)オ
クタンである。その他の第三級モノ−およびポリアミン
も過当であり、例えば、)リーn−プロピルアミン、ト
リインプロピルアミン、エチルジメチルアミン、ジエチ
ルメチルアきン、トリエチルアミノ、ジメチルプロピル
アミン、N、 N、 N’、 N’−テトラメチルシア
ミノメタン、キヌクリジン、およびメチル−1,4−ジ
アゾビシクロC2,2,2)オクタンなどである。
えば、N、N、N’、IJ’−テトラメチルエチレンジ
アミンおよび1,4−ジアゾビシクロC2,2,2)オ
クタンである。その他の第三級モノ−およびポリアミン
も過当であり、例えば、)リーn−プロピルアミン、ト
リインプロピルアミン、エチルジメチルアミン、ジエチ
ルメチルアきン、トリエチルアミノ、ジメチルプロピル
アミン、N、 N、 N’、 N’−テトラメチルシア
ミノメタン、キヌクリジン、およびメチル−1,4−ジ
アゾビシクロC2,2,2)オクタンなどである。
低級アルキルアミンの中で、トリエチルアミンは最も好
まれる錯生成第三級アミンである。なぜならトリメチル
アミンは室温において気体であるからであり、またそれ
故に若干のアミンアランの製造に使用するためには比較
的細しいからである。
まれる錯生成第三級アミンである。なぜならトリメチル
アミンは室温において気体であるからであり、またそれ
故に若干のアミンアランの製造に使用するためには比較
的細しいからである。
本発明の方法において反応する出発物質は前記の方程式
(5)に示されるように等モル歓で化合する。
(5)に示されるように等モル歓で化合する。
熟練した当業者は、本発明の方法を正確な等モル皺を用
いて行なうことが必要でないことを容易に理解するであ
ろう。例えば、この方法はほぼこの址に近づけて実施さ
れることができる。またはその代りに、一つまたは数棟
の反応物のかなりの遇刺皺を用いることもある。例えば
、過剰量のアミンを、もしもそのアミンが液体であるな
らば、反応媒体とし℃用いることができる。
いて行なうことが必要でないことを容易に理解するであ
ろう。例えば、この方法はほぼこの址に近づけて実施さ
れることができる。またはその代りに、一つまたは数棟
の反応物のかなりの遇刺皺を用いることもある。例えば
、過剰量のアミンを、もしもそのアミンが液体であるな
らば、反応媒体とし℃用いることができる。
本発明において、液体の反応媒体の便用が通常好まれる
。液体の媒体は反応物の接触を容易にする。また液体は
、反応物がその液媒体に著しく溶解しない場合でさえも
、反応物の混合と接触を助ける。炭化水素とアミンは、
本発明において液体反応媒体として使用できる物質の典
型を示している。適当なアミンの例は前記のよ5VCあ
げられている。
。液体の媒体は反応物の接触を容易にする。また液体は
、反応物がその液媒体に著しく溶解しない場合でさえも
、反応物の混合と接触を助ける。炭化水素とアミンは、
本発明において液体反応媒体として使用できる物質の典
型を示している。適当なアミンの例は前記のよ5VCあ
げられている。
広範な種類の液体炭化水素を本発明において反応媒体と
して便用でざる。芳香族炭化水素は好まれる種類の液体
反応媒体であり、トルエンは非常に好まれる。
して便用でざる。芳香族炭化水素は好まれる種類の液体
反応媒体であり、トルエンは非常に好まれる。
その他の有用な芳香族炭化水素はベンゼン、エチルベン
ゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン、メタキシレ
ン、バラキシレン、オルトキシレン、1.2−ジエチル
ベンゼン、1.3−Pエチルベンゼン、1.4−ジエチ
ルベンゼン、1.3−ジプロピルベンゼン、5−fクビ
ルトルエン、4−エチルトルエン、4−fロビルトルエ
ン、4−ブチルトルエン、トリメチルベンゼン、および
一般にトリアルキルベンゼンである。また液体の多環式
芳香族炭化水素、例えば、1−メチルナフタレンおよび
テトラヒドロナフタレン、も適当である。
ゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン、メタキシレ
ン、バラキシレン、オルトキシレン、1.2−ジエチル
ベンゼン、1.3−Pエチルベンゼン、1.4−ジエチ
ルベンゼン、1.3−ジプロピルベンゼン、5−fクビ
ルトルエン、4−エチルトルエン、4−fロビルトルエ
ン、4−ブチルトルエン、トリメチルベンゼン、および
一般にトリアルキルベンゼンである。また液体の多環式
芳香族炭化水素、例えば、1−メチルナフタレンおよび
テトラヒドロナフタレン、も適当である。
本発明に使用できる他の一つの種類の炭化水素反応媒体
は、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン
、デカン、ウンデカンおよびドデカンのようなアルカン
類をfftr。
は、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン
、デカン、ウンデカンおよびドデカンのようなアルカン
類をfftr。
アミンアランを製造するためK NtLNH4が使用さ
れるとき、比較的純粋な原料が望ましく、殊に痕跡の金
楓が存在する場合に望ましい。飼えば、もしNaA1H
4がチタンを宮む(列えば、1900ppmのチタン)
アルミニウムから製造される場合には、そのN akl
H4を再結晶することが滋fしい。
れるとき、比較的純粋な原料が望ましく、殊に痕跡の金
楓が存在する場合に望ましい。飼えば、もしNaA1H
4がチタンを宮む(列えば、1900ppmのチタン)
アルミニウムから製造される場合には、そのN akl
H4を再結晶することが滋fしい。
そうでないと、アランの粗製混合物が卯熱されるかまた
は長期間放置される場合にアランの接触自己分解が起る
ことかある。粗製のN a kl H4は、もしkl
H3・NR3の生成物溶液が副生成物の塩およびその池
の不純物から濾別されるならば、使用されて成功するこ
とができる。
は長期間放置される場合にアランの接触自己分解が起る
ことかある。粗製のN a kl H4は、もしkl
H3・NR3の生成物溶液が副生成物の塩およびその池
の不純物から濾別されるならば、使用されて成功するこ
とができる。
反応条件、温度、圧力、および反応時間はN要であるが
、しかし本発明の決定的に重要な面ではない。一般に、
熟練した当業者は、適度な反応時間で満足な収緻を、望
ましからぬ皺の副反応なしに、与える一組の反応条件を
選定するであろう。
、しかし本発明の決定的に重要な面ではない。一般に、
熟練した当業者は、適度な反応時間で満足な収緻を、望
ましからぬ皺の副反応なしに、与える一組の反応条件を
選定するであろう。
かくして選定された加工条件は、便用される取分によっ
て何らかの影響を受ける。飼えば、もしトリメチルアミ
ンが反応物として便用されるならば、このアミンの反応
混合物中で池の物質との接触を促進するためにいく分高
い圧力で反応が行なわれることがある。もし出発物質が
いく分@度に敏感であるならば、低温または高くない温
度がその敏感な物質の分解を少なくする助けになること
ができる。もし反応速度が遅いならば、より長い反応時
間を、反応収率な上げるために便用することがある。
て何らかの影響を受ける。飼えば、もしトリメチルアミ
ンが反応物として便用されるならば、このアミンの反応
混合物中で池の物質との接触を促進するためにいく分高
い圧力で反応が行なわれることがある。もし出発物質が
いく分@度に敏感であるならば、低温または高くない温
度がその敏感な物質の分解を少なくする助けになること
ができる。もし反応速度が遅いならば、より長い反応時
間を、反応収率な上げるために便用することがある。
それらの使用される反応条件の組合せは、熟練した当業
者によればその技術の熟練とこの明細書の範囲内の教示
を用いて不当な麓の実rs、ft要せずに選定されるこ
とができる。
者によればその技術の熟練とこの明細書の範囲内の教示
を用いて不当な麓の実rs、ft要せずに選定されるこ
とができる。
本発明の方法は広い範囲の温度に亘って実施することが
できる。適当な温度範囲は5℃〜50°Cであり、そし
て好ましい範囲は10℃〜35°Cである。本発明の方
法は常圧、常圧以下、または常圧以上の圧力下に実施す
ることができる。一般に反応@度において固体または液
体である反応物を便用する場合には常圧が適当である。
できる。適当な温度範囲は5℃〜50°Cであり、そし
て好ましい範囲は10℃〜35°Cである。本発明の方
法は常圧、常圧以下、または常圧以上の圧力下に実施す
ることができる。一般に反応@度において固体または液
体である反応物を便用する場合には常圧が適当である。
好まれる圧力範囲は1〜100気圧、より好ましくは1
〜20気圧である。反応時間は真の独立変数でなくて、
使用される他の反応条件に少なくともある程度関係する
。一般に、本発明の方法は0.25〜24時間、好まし
くは1〜8時間の反応時間を用いて行なわれる。
〜20気圧である。反応時間は真の独立変数でなくて、
使用される他の反応条件に少なくともある程度関係する
。一般に、本発明の方法は0.25〜24時間、好まし
くは1〜8時間の反応時間を用いて行なわれる。
次の実施例は本発明の方法を股間するためのもであるか
、それを限定するものではない。
、それを限定するものではない。
実施ガ1
100−の、三頚丸底フラスコVc欠の材料を入れた。
72 M Naug、 、x、2リー、トルエン中
(74,4%固体、〜85%。
(74,4%固体、〜85%。
〜0.084モル)
37.7.9 )ルエン
8.18.9 トリエチルアミン(gt3N> (9
9%。
9%。
0.080モル)
HJlfス発生装置が、100−の、三頚丸底7ラスコ
に磁気攪拌機、生成する水をトラップするドライアイス
#縮器、および窒素パージにより洗い流される針設分配
漏斗を取り付けて組立てられた。その100−フラスコ
に4−68 g I/) Na(j(c,080モル)
を入れ、そして前記の漏斗に40.0 yの濃1jl[
を入れた。
に磁気攪拌機、生成する水をトラップするドライアイス
#縮器、および窒素パージにより洗い流される針設分配
漏斗を取り付けて組立てられた。その100−フラスコ
に4−68 g I/) Na(j(c,080モル)
を入れ、そして前記の漏斗に40.0 yの濃1jl[
を入れた。
N aAiH4の入ったフラスコを水浴の中で冷し、そ
して誠酸をNaごlの中へ滴下した。Hツが発生し、セ
してN2の洗い流しにより、短いタイコ97(T7gO
n )管を経由して% N’MH4/ トルエン/アミ
ン水準の下に入口の付いた供給配管へと導かれた。
して誠酸をNaごlの中へ滴下した。Hツが発生し、セ
してN2の洗い流しにより、短いタイコ97(T7gO
n )管を経由して% N’MH4/ トルエン/アミ
ン水準の下に入口の付いた供給配管へと導かれた。
)1(Jガスを、反応温度を1−6℃に保ちなから約5
分間に亘って導入した。綿くずのような物質の生成が最
初の約20分に認められた。夾*に入つて約55分後に
、反応器のは度は徐々に上昇することを許された。95
分間に亘り、温度は21”Cまで上り、そこで反応を停
止させた。この反応経過の間に、さらに綿くず状の物質
が認められた。
分間に亘って導入した。綿くずのような物質の生成が最
初の約20分に認められた。夾*に入つて約55分後に
、反応器のは度は徐々に上昇することを許された。95
分間に亘り、温度は21”Cまで上り、そこで反応を停
止させた。この反応経過の間に、さらに綿くず状の物質
が認められた。
反応混合物を濾過すると、後に約1.0cIILX3.
0αの濾過ケークが残った。分析により、綿くずはトリ
エチルアミン塩酸塩であることが判った。濾液(39,
1、? )の分析(#性加水分解により生成した水素の
測定による)はトリエチルアミンアラン(Et3N−A
lH3)の収率は71チであることを示した。濾液は6
.26%のMを含んでおり、そしてこれはアミンアラン
製品の収率が71.7%であることt示した。
0αの濾過ケークが残った。分析により、綿くずはトリ
エチルアミン塩酸塩であることが判った。濾液(39,
1、? )の分析(#性加水分解により生成した水素の
測定による)はトリエチルアミンアラン(Et3N−A
lH3)の収率は71チであることを示した。濾液は6
.26%のMを含んでおり、そしてこれはアミンアラン
製品の収率が71.7%であることt示した。
この列の操作子+mft反応@襄5〜50 ’Cを用い
、そして使用されたNILAIH40代りにL i A
j H4またはKAfH4を用いて繰返丁ことができる
。同様な結果が得られる。
、そして使用されたNILAIH40代りにL i A
j H4またはKAfH4を用いて繰返丁ことができる
。同様な結果が得られる。
上記の列の操作手順はまた、トリエチルアミンの代りに
、)リメチルアミン、トリーn−プロピルアミン、トリ
ーn−ブチルアミン、N、N、N。
、)リメチルアミン、トリーn−プロピルアミン、トリ
ーn−ブチルアミン、N、N、N。
N′−テトラメチルエチレンジアミンを使用して繰返し
行なうこともできる。
行なうこともできる。
前記の例の方法に従って反応させることのできるその他
のアミンに次のものがある。
のアミンに次のものがある。
トリエチレンジアミン(Dabco)
N、 N、 N’、 N’−テトラメチルジアミノメタ
ン N−メチルピロリジン 2−メチルトリエチレンジアミン、およびキヌクリジン
。
ン N−メチルピロリジン 2−メチルトリエチレンジアミン、およびキヌクリジン
。
実施列■
この例の操作手順は前記の列の手順と同様である。今回
は、少さなH2SO4スクラバーが、 HCj発生過程
において生成するN20をトラップするために、H’J
発生器とNaAlH47ラスコとの間に置かれた。fた
、N aMH4フラスコにアダプターが取り付けられ℃
、生成するトリエチルアミン塩酸塩を気相中でトラップ
したので、それは反応混合物中へ流し戻された。
は、少さなH2SO4スクラバーが、 HCj発生過程
において生成するN20をトラップするために、H’J
発生器とNaAlH47ラスコとの間に置かれた。fた
、N aMH4フラスコにアダプターが取り付けられ℃
、生成するトリエチルアミン塩酸塩を気相中でトラップ
したので、それは反応混合物中へ流し戻された。
反応フラスコに次の材料を入れた。
5、Q Q i NaAlH4(9Q、4%、乾燥、
0.0837モルまたは〜5%過剰) 40.0.9 トルエン 8.60& トリエチルアミン(Fit3N) (9
9係、 0.084モル、5%過5!!II )H(J
発生器K 4.68.9のNa(jを、そL”Cm斗I
C40,0gの1m H2SO4(22m ) ’k
入しrc。反応ハ、H2SO4の添加開始と生成するH
CJのNaAlH47ラスコ中への流し込みにより始ま
り、後者のフラスコは初め10℃の温度であった。その
@度はHclの添710の間に15゛Cまで徐々に上昇
した。H2So4添加時間は約58分であった。実験に
入ってから約23分で、 NaAjH4フラスコ内にr
ルの形成か認められた。
0.0837モルまたは〜5%過剰) 40.0.9 トルエン 8.60& トリエチルアミン(Fit3N) (9
9係、 0.084モル、5%過5!!II )H(J
発生器K 4.68.9のNa(jを、そL”Cm斗I
C40,0gの1m H2SO4(22m ) ’k
入しrc。反応ハ、H2SO4の添加開始と生成するH
CJのNaAlH47ラスコ中への流し込みにより始ま
り、後者のフラスコは初め10℃の温度であった。その
@度はHclの添710の間に15゛Cまで徐々に上昇
した。H2So4添加時間は約58分であった。実験に
入ってから約23分で、 NaAjH4フラスコ内にr
ルの形成か認められた。
上記のような58分間の後に、冷水浴を1taAiJ(
。
。
フラスコの周りから取りはずしたので、温度はさらに3
5分子fllc21℃まで上った。そのとき、rルは分
解し、そしてトラップされたトリエチルアミン塩酸塩は
反応混合物中に流し込まれた。反応混合物を、アミン塩
酸塩がフラスコへ流し込まれた後2時間と15分の関2
1−23℃に維持した。
5分子fllc21℃まで上った。そのとき、rルは分
解し、そしてトラップされたトリエチルアミン塩酸塩は
反応混合物中に流し込まれた。反応混合物を、アミン塩
酸塩がフラスコへ流し込まれた後2時間と15分の関2
1−23℃に維持した。
それから、反応混合物をドライボックスへ取り出されて
、濾過された。
、濾過された。
その濾液は45.84.9あった。トリエチルアミンア
ラン生成物の収率は、ガス発生分析により、87.1%
であり、またアルミニウム分析によれば、88.1%で
あった。
ラン生成物の収率は、ガス発生分析により、87.1%
であり、またアルミニウム分析によれば、88.1%で
あった。
実施列■
この例の操作手順は前の各列における手順と同様であっ
た。今回は、 H2SO,スクラバーの説にドライアイ
ストラップを置いて、H2日o4エアロ1戸ルまたは湿
気の水素物反応器に入ることを防いだ。
た。今回は、 H2SO,スクラバーの説にドライアイ
ストラップを置いて、H2日o4エアロ1戸ルまたは湿
気の水素物反応器に入ることを防いだ。
100−の、三娘丸底フラスコに次の材料を入れ1こ。
7−11 jl NaAlH4トk Z 7中スラ
リー(〜75%固体、〜851は1 〜0.084モル) 33−71 トルエン 10.12& )リエチルアミン(Kt3N)(c,
100モル、25%過剰) HCj発生器VC4,68,9のNaCjを入れ、そし
て漏斗に40.Oj!の濃H2SO4を入れた。
リー(〜75%固体、〜851は1 〜0.084モル) 33−71 トルエン 10.12& )リエチルアミン(Kt3N)(c,
100モル、25%過剰) HCj発生器VC4,68,9のNaCjを入れ、そし
て漏斗に40.Oj!の濃H2SO4を入れた。
Na(jへのH2SO4の添加は1時間で完了した。
生成したHコ1は、反応混合物の@度を15−18°C
に保ちながら、反応フラスコの中へN2と共に流し込ま
れた。反応@度は、H2SO4の添加か完了した後2時
間に亘って25℃まで上昇することを許された。
に保ちながら、反応フラスコの中へN2と共に流し込ま
れた。反応@度は、H2SO4の添加か完了した後2時
間に亘って25℃まで上昇することを許された。
濾過の後、42.88.Vの濾液が回収された。分析は
トリエチルアミンアランの収率が次の遡りであることを
示した。
トリエチルアミンアランの収率が次の遡りであることを
示した。
90.8%(ガス発生分析ン
96.6%CM分析ン
明らかに、過剰のアミンは蒸発損失の補償またはその他
の機構により反応収率を増710させた。
の機構により反応収率を増710させた。
実施列IV
この例の操作手順において、トリメチルアミンを錯生成
アミンとして便用した。そのアミンを水素化物反応フラ
スコに、 Na/1tfH,/ )ルエン混合物の表面
の下に、HCLが導入される*=と反対圓のフラスコの
内側のある場所で、添加した。反応プラス′5IVcド
ライアイスの、コールドフィンガー凝縮器を取り付けて
、蒸発するトリメチルアミン(M83N)をトラップし
、かつMo2N−H(Jか逃げるのを防いだ。そこでは
次の材料が使用された。
アミンとして便用した。そのアミンを水素化物反応フラ
スコに、 Na/1tfH,/ )ルエン混合物の表面
の下に、HCLが導入される*=と反対圓のフラスコの
内側のある場所で、添加した。反応プラス′5IVcド
ライアイスの、コールドフィンガー凝縮器を取り付けて
、蒸発するトリメチルアミン(M83N)をトラップし
、かつMo2N−H(Jか逃げるのを防いだ。そこでは
次の材料が使用された。
7.11p NaAjH4)ルzy中スラリーC〜7
5%固体、〜85%純度、 〜0.084モルフ 37.9.? )ルエン 5.61 )リメチルアミン(M83N)(c,0
95モルフ HCj発生器に前記の例と同じ投入音のNaCjとH2
SO,を入れた。反応物を加えている間、反応器全体の
@度を15−17℃に維持した。トリメチルアミンを6
2分間に亘り、またH2SO,を45分間に亘り添加し
た。(両反応物の添υ口を同時に開始した。ン全部のH
2SO4を加えてしまった後、N2の流れを維持し、そ
してH2SO4の添加が完了した後約1時間に、液の水
準の上に生成した若干のトリメチルアミン塩酸塩を打ち
破つ℃反応フラスコの中へ戻した。また、合計の経過1
時間(反応開始からンのtl−ic 、温度の緩やかな
上昇を許した。
5%固体、〜85%純度、 〜0.084モルフ 37.9.? )ルエン 5.61 )リメチルアミン(M83N)(c,0
95モルフ HCj発生器に前記の例と同じ投入音のNaCjとH2
SO,を入れた。反応物を加えている間、反応器全体の
@度を15−17℃に維持した。トリメチルアミンを6
2分間に亘り、またH2SO,を45分間に亘り添加し
た。(両反応物の添υ口を同時に開始した。ン全部のH
2SO4を加えてしまった後、N2の流れを維持し、そ
してH2SO4の添加が完了した後約1時間に、液の水
準の上に生成した若干のトリメチルアミン塩酸塩を打ち
破つ℃反応フラスコの中へ戻した。また、合計の経過1
時間(反応開始からンのtl−ic 、温度の緩やかな
上昇を許した。
合計2時間の終りに、反応を停止させた。
濾液は42.62 、?であった。分析はトリメチルア
ミンアランの収率が次の通りであることを示した。
ミンアランの収率が次の通りであることを示した。
77.2%(ガス発生分析による)
74.3%(アルミニウム分析による)この列の操作手
順を、0℃〜50°Cの反応温度を用い、かつ使用さt
したNa/14H4の代りにL1厄H4またはK kt
H4な使用し℃繰返し行なうことができる。四様な結縦
か得られろ。
順を、0℃〜50°Cの反応温度を用い、かつ使用さt
したNa/14H4の代りにL1厄H4またはK kt
H4な使用し℃繰返し行なうことができる。四様な結縦
か得られろ。
実施列V
この列では、トリメチルアミンを水素化アルミニウムナ
トリウムとトルエンVcllえた。そのアミンを投入し
た後に、HCLの添710を開始した。そのIHJは前
列と同様にNaCjとH2SO,とから発生された。そ
こでは次の材料か使用された。
トリウムとトルエンVcllえた。そのアミンを投入し
た後に、HCLの添710を開始した。そのIHJは前
列と同様にNaCjとH2SO,とから発生された。そ
こでは次の材料か使用された。
7.11 j! NaAAH4トルx y中スラリー
(−75%固体、〜85%純度、 〜0.084モル) 37.9.!11 トルエン 5.9.? トリメチルアミン(c,100モル
)4.68.9 Na(J(c,080モル)40.
0.9 濃H2SO4 アミンを16分間に亘って加えてから、次にH2SO、
の添加を開始し、それを45分間続けた。
(−75%固体、〜85%純度、 〜0.084モル) 37.9.!11 トルエン 5.9.? トリメチルアミン(c,100モル
)4.68.9 Na(J(c,080モル)40.
0.9 濃H2SO4 アミンを16分間に亘って加えてから、次にH2SO、
の添加を開始し、それを45分間続けた。
合計経過2時間の後に水浴を取り去り、そして1時間後
に反応を停止させた。
に反応を停止させた。
反応混合物を濾過した。その濾液の重緻は41.73&
あった。アルミニウム分析はトリメチルアミンアランの
収率か59.4%であることを示した。
あった。アルミニウム分析はトリメチルアミンアランの
収率か59.4%であることを示した。
好ましい実施態様を上に述べたが、本発明の態様は別記
の特許請求の範囲に定義されるような本発明の範囲と精
神を逸脱することなく様々に変更されることかできる。
の特許請求の範囲に定義されるような本発明の範囲と精
神を逸脱することなく様々に変更されることかできる。
Claims (6)
- (1)第三級アミンアランの製造方法であつて、(a)
式MAlH_4のアルカリ金属アルミニウム四水素化物
(上式中Mはリチウム、ナトリウムおよびカリウムから
成る群より選択されるアルカリ金属である)、 (b)ハロゲン化水素、および (c)錯生成第三級アミン を反応させることを特徴とする第三級アミンアランの製
造方法。 - (2)ほぼ等モル量の(a)、(b)および(c)を反
応させることを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記
載の方法。 - (3)炭化水素の反応媒体の存在で行なわれる、特許請
求の範囲第1項または第2項に記載の方法。 - (4)四水素化物が四水素化アルミニウムナトリウムN
aAlH_4である、特許請求の範囲第1項、第2項ま
たは第3項に記載の方法。 - (5)(a)はNaAlH_4であり、(b)はHCl
であり、そして(c)は(C_2H_5)_3Nである
、特許請求の範囲第1項、第2項または第3項に記載の
方法。 - (6)液体反応媒体としてトルエンの存在で、かつ5℃
〜50℃の温度で行なわれることをさらに特徴とする、
特許請求の範囲第5項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/945,286 US4748260A (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | Preparation of amine alanes |
US945286 | 1986-12-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63190890A true JPS63190890A (ja) | 1988-08-08 |
JPH0224277B2 JPH0224277B2 (ja) | 1990-05-29 |
Family
ID=25482916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62325110A Granted JPS63190890A (ja) | 1986-12-22 | 1987-12-22 | アミンアランの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4748260A (ja) |
EP (1) | EP0273229B1 (ja) |
JP (1) | JPS63190890A (ja) |
KR (1) | KR900005183B1 (ja) |
CA (1) | CA1276941C (ja) |
DE (2) | DE3780933T2 (ja) |
ES (1) | ES2003072A4 (ja) |
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JP2010155795A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Air Water Inc | アミンアランの精製方法 |
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