JP2010145038A - オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置 - Google Patents

オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010145038A
JP2010145038A JP2008323980A JP2008323980A JP2010145038A JP 2010145038 A JP2010145038 A JP 2010145038A JP 2008323980 A JP2008323980 A JP 2008323980A JP 2008323980 A JP2008323980 A JP 2008323980A JP 2010145038 A JP2010145038 A JP 2010145038A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ice
ultraviolet rays
ozone
light
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008323980A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5147674B2 (ja
Inventor
Yasunori Hamano
靖徳 濱野
Junichi Okuyama
純一 奥山
Takahiro Matsuo
貴寛 松尾
Yuka Suzuki
有香 鈴木
Hajime Kuwabara
一 桑原
Nobuhiko Kubota
伸彦 久保田
Kazuo Uematsu
和夫 上松
Koichiro Wazumi
光一郎 和住
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
IHI Plant Construction Co Ltd
Original Assignee
IHI Corp
IHI Plant Construction Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Corp, IHI Plant Construction Co Ltd filed Critical IHI Corp
Priority to JP2008323980A priority Critical patent/JP5147674B2/ja
Publication of JP2010145038A publication Critical patent/JP2010145038A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5147674B2 publication Critical patent/JP5147674B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Storage Of Fruits Or Vegetables (AREA)

Abstract

【課題】紫外線照射時に氷が融けにくいオゾン氷製造方法を提供する。
【解決手段】酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する方法であって、前記氷に紫外線を照射する光源3として、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザを用い、前記氷に紫外線のみを照射するようにした。
【選択図】図1

Description

本発明は、氷中にオゾンガスを含むオゾン氷の製造方法及びオゾン氷製造装置に関するものである。
近年、鮮魚、野菜などの生鮮食料品を始めとする生ものを冷蔵すると共に、殺菌、消毒、消臭するために、氷中にオゾンガスを気泡として含むオゾン氷が使用されている。ここでオゾンガスは、自己分解して酸素となり2次汚染の心配がないことから、塩素系殺菌剤など他の殺菌剤の代替として注目を集めている。
従来のオゾン氷製造方法としては、例えば、オゾン水を冷却凍結することにより、オゾン氷を製造する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかし、この方法では、水中へのオゾン溶解度が低いことから、氷に含ませるオゾン濃度に限界がある。
また、オゾンガスを気泡として含む水を冷却凍結するか、あるいは氷粉体にオゾンガスを供給しながら圧縮することにより、オゾンガスを気泡として含むオゾン氷を製造する方法も提案されている。しかし、オゾンガスはより安定な酸素ガスへと分解するため、製造直後から時間の経過と共にオゾン濃度が低下してしまい、長距離輸送性、貯蔵安定性の観点から問題があった。
特許第3969610号公報
そこで、本発明者らは、図5に示すように、酸素ガスを気泡として含む氷51を製造しておき、その氷51に紫外線ランプ(例えば水銀灯)52から紫外線(UV;UltraViolet)を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する方法を提案している。
これにより、使用直前に氷51に紫外線を照射してオゾン氷を製造することができるため、時間の経過に伴うオゾン濃度の低下を抑制でき、長距離輸送性や貯蔵安定性を大幅に改善することが可能となる。また、オゾン氷を製造した後でも、使用に際して紫外線を照射することで、酸素ガスに分解したオゾンを再生することも可能となる。
しかしながら、上述のオゾン氷製造方法では、紫外線ランプ52が照射する光に含まれる赤外線(IR;InfraRed)や可視光(VIS;Visible light)の影響で、紫外線ランプ52から紫外線を照射する際に氷51が融けてしまうことがあった。
氷51が融けてしまうのを抑制するために、氷51への紫外線の照射を低温環境下で行うことも考えられるが、そのためには高価な冷却システムを導入する必要があり、コストの観点から好ましくない。
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、紫外線照射時に氷が融けにくいオゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するために創案されたものであり、酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する方法であって、前記氷に紫外線を照射する光源として、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザを用い、前記氷に紫外線のみを照射するようにしたオゾン氷製造方法である。
また、本発明は、酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する方法であって、前記氷と紫外線を含む光を出射する光源との間に、前記光源からの光のうち紫外線のみを反射する反射ミラー、あるいは前記光源からの光のうち紫外線のみを透過するフィルタを設け、前記氷に、前記反射ミラーで反射された、あるいは前記フィルタを透過した紫外線のみを照射するようにしたオゾン氷製造方法である。
前記氷に照射される紫外線の波長が130〜242nmであるとよい。
本発明は、酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する装置であって、前記氷に紫外線を照射する光源が、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザであるオゾン氷製造装置である。
本発明は、酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する装置であって、紫外線を含む光を出射する光源と、該光源からの光のうち紫外線のみを反射して前記氷に照射する反射ミラー、あるいは前記光源から出射された光のうち紫外線のみを透過して前記氷に照射するフィルタとを備えるオゾン氷製造装置である。
本発明によれば、紫外線照射時に氷が融けてしまうのを抑制できる。
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面にしたがって説明する。
図1は、第1の実施形態に係るオゾン氷製造装置の概略図である。
図1に示すように、オゾン氷製造装置1は、酸素ガスを気泡aとして含む気泡含有氷2に光源3から紫外線(UV;UltraViolet)を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する装置である。
気泡含有氷2は、例えば、酸素ガスのマイクロバブルを混合した気泡含有水を冷却・凍結させるか、あるいは、氷粉体を密閉容器内に収容して該密閉容器内を減圧し、氷粉体に酸素ガス(あるいは酸素を含むガス)を供給しつつ圧縮することで、氷粉体を焼結させて形成される。
ここで、マイクロバブルとは、直径100μm以下の微細な気泡である。このマイクロバブルを含む気泡含有水は、例えば、マイクロバブル発生器にて渦流(毎秒400〜600回転程度)に酸素ガスを巻き込み、これをファンなどにより切断・粉砕することで得られる。また、電解セルで水の電気分解を行うことにより、電解セルの陽極で酸素ガスのマイクロバブルを発生させて、気泡含有水を得るようにしてもよい。
マイクロバブルは浮力が小さいために上昇速度が遅く、長い間水中に滞留する。その結果、この気泡含有水を冷却・凍結することで、多くの気泡aを含んだ気泡含有氷2を形成することができる。
また、気泡含有氷2の密度ρは、550〜910kg/m3、好ましくは830〜870kg/m3であるとよい。550kg/m3kg以上となると氷粒子の充填と併せて空隙が閉じる(孤立した気泡が存在する)ようになるが、830kg/m3未満では空隙が残る。一方、870kg/m3を超えると気泡が少なすぎ、氷中の酸素ガスが少なくなるからである。
さて、第1の実施形態では、光源3として、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザを用いる。図1は、光源3として重水素ランプを用いた場合を示す。光源3には、光源3から出射された紫外線のうち、気泡含有氷2が配置された側と反対方向に出射された光を、気泡含有氷2側に反射する反射板4が設けられる。
光源3が気泡含有氷2に照射する紫外線の波長は、130〜242nm、好ましくは180〜220nmであるとよい。
光源3が気泡含有氷2に照射する紫外線の波長は、1)酸素分子が酸素原子に解離すること、2)生成したオゾンガスが酸素ガスに分解しにくいこと、そして3)氷による吸収が小さいことの主に3点を考慮して決定する。
1)については、242nmよりも短い波長の紫外線が酸素分子に照射されると、酸素原子へと解離する。
2)については、図3(出典:杉光英俊、“オゾンの基礎と応用”株式会社光琳出版、平成8年)に示すように、オゾンガス(O3)は波長220〜300nmにハートレー吸収帯という強い吸収帯を有するため、この波長範囲の光がオゾンガスに照射されると、オゾンガスの分解が卓越して生じる。つまり、紫外線照射によるオゾンガスの生成は、オゾンガスの分解との競合反応である。なお、波長200nm以下では酸素分子の吸収係数が急激に増大し、特に140〜170nmの波長領域では酸素分子による紫外線吸収がオゾンガスによる紫外線吸収を上回る。
3)については、図4(出典:V.F.Petrenko and R.W.Whitworth、“Physics of Ice”、Oxford Uni.Press、1999年)に示すように、氷は波長200nm付近に吸収端があり、180nmで吸収係数は100m-1程度となる。これよりも長い波長で吸収係数が小さいので氷による光の吸収の影響が小さい。
1)〜3)を考慮すると、酸素分子を酸素原子に解離し、生成したオゾンガスの分解を抑制する波長帯域、そして氷による紫外線の吸収が小さい波長である180〜220nmの紫外線を気泡含有氷2に照射することが実用上は好ましい。
光源3として重水素ランプを用いる場合、130〜242nm、好ましくは180〜220nmの波長範囲以外の紫外線を除去すべく、光源3と気泡含有氷2との間に当該波長の紫外線のみを反射する反射ミラー、あるいは当該波長の紫外線のみを透過するフィルタを設け、反射ミラーで反射された、あるいはフィルタを透過した紫外線のみを気泡含有氷2に照射するようにすることが好ましい。
光源3としてレーザを用いる場合、出射光の波長が130〜242nm、好ましくは180〜220nmの範囲であるレーザ、例えば、ArFレーザ(波長193nm)などを用いるとよい。
第1の実施形態の作用を説明する。
第1の実施形態では、光源3として、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザを用い、気泡含有氷2に紫外線のみを照射してオゾン氷を製造している。
これにより、そもそも光源3から赤外線や可視光が出射されることがなくなるため、気泡含有氷2に紫外線を照射する際に、気泡含有氷2に赤外線や可視光が吸収されて気泡含有氷2が融けてしまうことを抑制できる。
また、第1の実施形態では、気泡含有氷2に照射する紫外線の波長を130〜242nm、好ましくは180〜220nmとしている。これにより、照射した紫外線がオゾンや氷に吸収されることが抑制され、気泡含有氷2中の酸素を効率よくオゾン化することができる。
次に、第2の実施形態を説明する。
図2に示すように、第2の実施形態に係るオゾン氷製造装置21は、光源22と、光源22から出射した光のうち、紫外線(UV)のみを反射して気泡含有氷2に照射する反射ミラー23とを備える。
光源22は、紫外線を含む光を出射するものであり、例えば、水銀灯である。光源22から出射される光には、赤外線(IR;InfraRed)や可視光(VIS;Visible light)が含まれていてもよい。
反射ミラー23としては、光源22からの光のうち130〜242nm、好ましくは180〜220nmの波長の紫外線のみを反射するものを用いるとよい。
反射ミラー23としては、例えば、波長193nmの紫外線のみを反射する多層膜反射ミラーを用いるとよい。多層膜反射ミラーは、例えば、基板上にTiO2やZnO2等の高屈折率材料の薄膜層とSiO2等の低屈折率材料の薄膜層が交互に積層されて成る、特定の波長の光に対してのみ高い反射率が得られる光学素子である。
第2の実施形態では、光源22から出射された光のうち紫外線のみを反射ミラー23で反射し、反射ミラー23で反射した紫外線のみを気泡含有氷2に照射するようにしている。
これにより、光源22から出射される赤外線や可視光の影響を除去して、紫外線のみを気泡含有氷2に照射することができるため、気泡含有氷2が融けてしまうのを抑制できる。
第2の実施形態では、光源22と気泡含有氷2との間に反射ミラー23を設けて、反射ミラー23で反射した紫外線を気泡含有氷2に照射するようにしたが、光源22と気泡含有氷2との間に紫外線のみを透過するフィルタを設けて、フィルタを通過した紫外線を気泡含有氷2に照射するようにしてもよい。この場合、フィルタとしては、光源22からの光のうち130〜242nm、好ましくは180〜220nmの波長の紫外線のみを透過するフィルタ(バンドパスフィルタなど)を用いるのが好ましい。
また、気泡含有氷2を透過した紫外線を反射ミラーにより反射させ、再度、気泡含有氷2に照射して、紫外線の利用効率を高めることもよい。
上記実施形態では、酸素ガスを気泡として含む気泡含有氷2に紫外線を照射する場合を説明したが、酸素ガスを含むガス(例えば、空気など)を気泡として含む気泡含有氷に紫外線を照射するようにしてもよい。
本発明の一実施形態に係るオゾン氷製造装置を示す概略図である。 本発明の一実施形態に係るオゾン氷製造装置を示す概略図である。 オゾンと酸素の吸収スペクトルを示す図である。 氷の吸収スペクトルを示す図である。 従来のオゾン氷製造装置を示す概略図である。
符号の説明
1 オゾン氷製造装置
2 気泡含有氷
3 光源
4 反射板
a 気泡

Claims (5)

  1. 酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する方法であって、
    前記氷に紫外線を照射する光源として、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザを用い、前記氷に紫外線のみを照射するようにしたことを特徴とするオゾン氷製造方法。
  2. 酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する方法であって、
    前記氷と紫外線を含む光を出射する光源との間に、前記光源からの光のうち紫外線のみを反射する反射ミラー、あるいは前記光源からの光のうち紫外線のみを透過するフィルタを設け、前記氷に、前記反射ミラーで反射された、あるいは前記フィルタを透過した紫外線のみを照射するようにしたことを特徴とするオゾン氷製造方法。
  3. 前記氷に照射される紫外線の波長が130〜242nmである請求項1または2記載のオゾン氷製造方法。
  4. 酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する装置であって、
    前記氷に紫外線を照射する光源が、紫外線のみを出射する重水素ランプ、あるいは単一波長の紫外線を出射するレーザであることを特徴とするオゾン氷製造装置。
  5. 酸素ガスを気泡として含む氷に紫外線を照射し、氷中の酸素ガスをオゾン化してオゾン氷を製造する装置であって、
    紫外線を含む光を出射する光源と、該光源からの光のうち紫外線のみを反射して前記氷に照射する反射ミラー、あるいは前記光源から出射された光のうち紫外線のみを透過して前記氷に照射するフィルタとを備えることを特徴とするオゾン氷製造装置。
JP2008323980A 2008-12-19 2008-12-19 オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置 Expired - Fee Related JP5147674B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008323980A JP5147674B2 (ja) 2008-12-19 2008-12-19 オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008323980A JP5147674B2 (ja) 2008-12-19 2008-12-19 オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010145038A true JP2010145038A (ja) 2010-07-01
JP5147674B2 JP5147674B2 (ja) 2013-02-20

Family

ID=42565647

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008323980A Expired - Fee Related JP5147674B2 (ja) 2008-12-19 2008-12-19 オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5147674B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011080671A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Ihi Plant Construction Co Ltd オゾン含有氷の製造方法及びその装置

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211643A (en) * 1975-07-17 1977-01-28 Oak Seisakusho:Kk Method of treating colloidal resin waste fluid
JPH0547736A (ja) * 1991-08-20 1993-02-26 Tadahiro Omi ガス乾燥装置
JPH11179349A (ja) * 1997-12-24 1999-07-06 Masamichi Kikuchi 殺菌方法及び海水の殺菌製氷装置
JPH11254540A (ja) * 1998-03-09 1999-09-21 Sony Disc Technology:Kk 紫外線照射装置
JP2000238195A (ja) * 1999-02-24 2000-09-05 Nippon Polyolefin Kk 積層体およびその製造方法
JP2004121577A (ja) * 2002-10-03 2004-04-22 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 紫外線殺菌装置
JP2005164431A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho プラスチック類の識別方法及び装置
JP2006046813A (ja) * 2004-08-05 2006-02-16 Toshiba Corp 冷蔵庫
JP3969610B2 (ja) * 1997-11-06 2007-09-05 財団法人食品産業センター オゾン氷製造装置
JP2007225127A (ja) * 2006-01-30 2007-09-06 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 気体含有氷の製造方法及び製造装置並びに気体含有氷
JP2007283180A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Ozotech:Kk オゾン水生成装置およびオゾン水生成方法
JP2010101561A (ja) * 2008-10-23 2010-05-06 Ihi Corp オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置
JP4995173B2 (ja) * 2008-10-23 2012-08-08 株式会社Ihi オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211643A (en) * 1975-07-17 1977-01-28 Oak Seisakusho:Kk Method of treating colloidal resin waste fluid
JPH0547736A (ja) * 1991-08-20 1993-02-26 Tadahiro Omi ガス乾燥装置
JP3969610B2 (ja) * 1997-11-06 2007-09-05 財団法人食品産業センター オゾン氷製造装置
JPH11179349A (ja) * 1997-12-24 1999-07-06 Masamichi Kikuchi 殺菌方法及び海水の殺菌製氷装置
JPH11254540A (ja) * 1998-03-09 1999-09-21 Sony Disc Technology:Kk 紫外線照射装置
JP2000238195A (ja) * 1999-02-24 2000-09-05 Nippon Polyolefin Kk 積層体およびその製造方法
JP2004121577A (ja) * 2002-10-03 2004-04-22 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 紫外線殺菌装置
JP2005164431A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho プラスチック類の識別方法及び装置
JP2006046813A (ja) * 2004-08-05 2006-02-16 Toshiba Corp 冷蔵庫
JP2007225127A (ja) * 2006-01-30 2007-09-06 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 気体含有氷の製造方法及び製造装置並びに気体含有氷
JP2007283180A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Ozotech:Kk オゾン水生成装置およびオゾン水生成方法
JP2010101561A (ja) * 2008-10-23 2010-05-06 Ihi Corp オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置
JP4995173B2 (ja) * 2008-10-23 2012-08-08 株式会社Ihi オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5147674B2 (ja) 2013-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4995173B2 (ja) オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置
JP5083318B2 (ja) 基板洗浄装置および基板洗浄方法
JP2018113116A (ja) 紫外線放射装置
JP5147674B2 (ja) オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置
JP2010195645A (ja) オゾンハイドレートカプセル及びその利用方法
JP6047699B2 (ja) オゾン含有水溶液の製造方法、製造装置およびオゾン含有水溶液
JP5280796B2 (ja) オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置
US20100025226A1 (en) Configurations for Chlorine Dioxide Production
JP4284260B2 (ja) オゾン発生装置
JPH08759A (ja) ポリ塩化ビフェニルの光分解装置およびその方法
JP2009057279A (ja) オゾン発生装置
JP2623497B2 (ja) オゾン水活性化装置
JPH01228592A (ja) オゾン水製造装置
KR101269386B1 (ko) Led-uv 램프와 광촉매를 이용한 수처리 장치
JP2007216100A (ja) ガス中の二酸化炭素の乾式固定化除去方法
JP2007151466A (ja) 水滴又は氷粒の生成方法
JP2006296212A (ja) 卵殺菌装置
JP6102842B2 (ja) デスミア処理方法およびデスミア処理装置
JP3778210B2 (ja) 誘電体バリヤ放電ランプを使用した処理方法
JP2010075916A (ja) オゾン分解装置及びプロセスシステム
JP5720122B2 (ja) 超純水製造システム
JP4082419B2 (ja) 誘電体バリヤ放電ランプを使用した処理方法
JPH01228591A (ja) 活性酸素水製造装置
JP2004244241A (ja) 水素発生方法
JPH01226702A (ja) 活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110823

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121030

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121127

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5147674

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees