JP2010138048A - 炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 - Google Patents
炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010138048A JP2010138048A JP2008318193A JP2008318193A JP2010138048A JP 2010138048 A JP2010138048 A JP 2010138048A JP 2008318193 A JP2008318193 A JP 2008318193A JP 2008318193 A JP2008318193 A JP 2008318193A JP 2010138048 A JP2010138048 A JP 2010138048A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lid
- silicon carbide
- seed crystal
- temperature
- crucible body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【解決手段】蓋体5に種結晶6が直接取り付けられる一方で、封止部が、蓋体5と坩堝本体2との隙間を塞ぐ。これにより、蓋体5の熱は種結晶6に直接伝達されるので、蓋体5の温度は種結晶6の温度に近くなり、種結晶6の温度を正確に監視することができ、種結晶6の温度を正確に再結晶温度に維持することができる。そして、昇華した炭化珪素原料10が、封止部7と蓋体5との隙間及び蓋体5と坩堝本体2との隙間を通って外部に漏洩するのを防止するので、気相分布を均一にすることができ、結果として、均一な構造の炭化珪素単結晶を確実に製造することができる。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1の実施形態となる炭化珪素単結晶の製造装置及びその製造方法について説明する。
次に、第2の実施の形態を説明する。図3は、第2の実施の形態に係る製造装置1を示す説明図である。図3に示すように、第2の実施の形態に係る製造装置1は、封止部7を蓋体5と一体形成した他は、第1の実施の形態に係る製造装置1と同様である。
2:坩堝本体
4:段差
5:蓋体
6:種結晶
7:封止部
8:第1小封止部
9:第2小封止部
10:炭化珪素原料
11:石英管
12:支持棒
13:第1加熱コイル
14:第2加熱コイル
15:干渉防止コイル
16、17:温度センサ
Claims (4)
- 開口部を有し、開口部を介して内部に炭化珪素原料を収納可能な坩堝本体と、
炭化珪素の種結晶が取り付けられ、当該種結晶が前記炭化珪素原料に対向した状態で前記坩堝本体の開口部を塞ぐ蓋体と、
前記蓋体が前記坩堝本体の開口部を塞いだ際に、前記蓋体と前記坩堝本体との間の隙間を塞ぐ封止部と、を備えることを特徴とする炭化珪素単結晶の製造装置。 - 前記封止部は、前記蓋体に一体形成されることを特徴とする請求項1記載の炭化珪素単結晶の製造装置。
- 開口部を有する坩堝の内部に炭化珪素原料を供給する工程と、
炭化珪素の種結晶が取り付けられた蓋体により、前記種結晶と前記炭化珪素原料とが対向した状態で、前記坩堝の開口部を塞ぐ工程と、
前記蓋体により前記坩堝本体の開口部が塞がれた際に、前記蓋体と前記坩堝本体との間の隙間を塞ぐ工程と、を有することを特徴とする炭化珪素単結晶の製造方法。 - 前記蓋体により前記坩堝本体の開口部が塞がれた際に、前記蓋体に一体形成される封止部が、前記蓋体と前記坩堝本体との間の隙間を塞ぐことを特徴とする請求項3記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008318193A JP2010138048A (ja) | 2008-12-15 | 2008-12-15 | 炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008318193A JP2010138048A (ja) | 2008-12-15 | 2008-12-15 | 炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010138048A true JP2010138048A (ja) | 2010-06-24 |
Family
ID=42348514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008318193A Pending JP2010138048A (ja) | 2008-12-15 | 2008-12-15 | 炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010138048A (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000336000A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-12-05 | Denso Corp | 炭化珪素単結晶の製造方法及び単結晶製造装置 |
JP2002255693A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-11 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素単結晶並びにその製造方法及び製造装置 |
JP2002537209A (ja) * | 1999-02-19 | 2002-11-05 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | α‐SiC塊状単結晶の成長方法 |
JP2004224663A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 単結晶成長装置 |
JP2006290685A (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素単結晶の製造方法 |
WO2008089181A2 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Ii-Vi Incorporated | Guided diameter sic sublimation growth with multi-layer growth guide |
-
2008
- 2008-12-15 JP JP2008318193A patent/JP2010138048A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002537209A (ja) * | 1999-02-19 | 2002-11-05 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | α‐SiC塊状単結晶の成長方法 |
JP2000336000A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-12-05 | Denso Corp | 炭化珪素単結晶の製造方法及び単結晶製造装置 |
JP2002255693A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-11 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素単結晶並びにその製造方法及び製造装置 |
JP2004224663A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 単結晶成長装置 |
JP2006290685A (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素単結晶の製造方法 |
WO2008089181A2 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Ii-Vi Incorporated | Guided diameter sic sublimation growth with multi-layer growth guide |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5271601B2 (ja) | 単結晶の製造装置及び製造方法 | |
JP4547031B2 (ja) | 炭化珪素単結晶製造用坩堝、並びに炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 | |
JP5146418B2 (ja) | 炭化珪素単結晶製造用坩堝及び炭化珪素単結晶の製造方法 | |
US20120304916A1 (en) | Method of producing silicon carbide single crystal | |
JP2008074662A (ja) | 炭化珪素単結晶製造装置 | |
US20120325150A1 (en) | Apparatus for producing silicon carbide single crystal | |
JP5240100B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の製造装置 | |
JP5012655B2 (ja) | 単結晶成長装置 | |
JP2009051701A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造装置およびその製造方法 | |
JP5517123B2 (ja) | 窒化アルミニウム単結晶とその製造方法および製造装置 | |
JP5602093B2 (ja) | 単結晶の製造方法および製造装置 | |
JP5516167B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の製造装置 | |
JP5397503B2 (ja) | 単結晶成長装置 | |
KR101747685B1 (ko) | 단결정 성장 용기 및 이를 이용한 단결정 성장 방법 | |
JP2010138048A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造装置及び製造方法 | |
JP2009051702A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP2008280206A (ja) | 単結晶成長装置 | |
JP4924289B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP2012206875A (ja) | SiC成長装置 | |
JP6861557B2 (ja) | 炭化珪素単結晶インゴットの製造装置及び炭化珪素単結晶インゴットの製造方法 | |
JP2008074665A (ja) | 蓋付き黒鉛坩堝及び炭化珪素単結晶成長装置 | |
JP2017154953A (ja) | 炭化珪素単結晶製造装置 | |
JP5573753B2 (ja) | SiC成長装置 | |
JP2009078929A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法および製造装置 | |
JPWO2010050362A1 (ja) | 炭化ケイ素単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20121026 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121219 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130507 |