JP5602093B2 - 単結晶の製造方法および製造装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る単結晶製造装置の構造を説明するための図であり、当該装置の坩堝の断面を示している。坩堝1はグラファイトで構成されており、SiCの原料2を収納するための原料収納容器1aと、種結晶を原料2に対向するように取り付けることができる台座7を有する蓋1bとから成る。また原料収納容器1aの内側面には、その一端が原料収納容器1aの内壁に接し、原料2が昇華したガスを台座7へと導くガイド3が設けられている。図1においては、台座7に取り付けられた種結晶4、並びにその表面に成長中のインゴット9も図示している。
図2は本発明の実施の形態2に係る結晶成長装置の坩堝の断面図である。同図において図1に示したものと同様の機能を有する要素には同一符号を付してある。図2に示すように、本実施の形態では、図1に示した坩堝1の蓋1b上に、中央部に穴を有するリング状断熱材8を配設する。
坩堝1の加熱方式が誘導加熱法である場合、誘導加熱用の発振器の出力を上げて、坩堝1の外周部での誘導電流密度を高くしても、坩堝1の径方向温度勾配を大きくすることができる。発振器の出力が上がると誘導加熱用コイルに流れる電流が増加し、坩堝1の外壁での誘導電流密度が増加する。ガイド3は主に、坩堝1からの熱伝導と原料2からの放射熱によって加熱されるが、原料は坩堝外壁からの熱伝導によって加熱されると考えられる。よって坩堝1の外壁の電流密度が増加すると、原料2はその外周部がより高温になり、原料2の外周部からの放射熱が増加してガイド3が高温になるため、坩堝1の径方向温度勾配が大きくなる。
Claims (7)
- (a)坩堝内に単結晶の原料および種基板を対向配置させる工程と、
(b)前記坩堝内に、前記種基板の周囲を囲むタンタル又は炭化タンタルを含むタンタルリングを設置する工程と、
(c)前記坩堝を加熱して前記原料を昇華させることにより、前記種基板上に単結晶を成長させる工程と、
(d)前記工程(c)より前に、一端が前記坩堝の内壁に接し、前記原料が昇華したガスを前記種基板へ導く筒状のガイドを設置する工程と、
(e)前記工程(c)より前に、前記ガイドと前記坩堝の内壁との間に断熱材を設置する工程とを備え、
前記工程(b)において、前記タンタルリングは前記ガイドの他端と前記坩堝の間を覆うように設置され、前記断熱材が配設された空間が、前記坩堝の内壁、前記ガイドおよび前記タンタルリングによって密閉される
単結晶の製造方法。 - (a)坩堝内に単結晶の原料および種基板を対向配置させる工程と、
(b)前記坩堝内に、前記種基板の周囲を囲むタンタル又は炭化タンタルを含むタンタルリングを設置する工程と、
(c)前記坩堝を加熱して前記原料を昇華させることにより、前記種基板上に単結晶を成長させる工程とを備え、
前記工程(c)は複数回行われ、後に行われるものほど前記坩堝内の径方向温度勾配が大きく設定される
単結晶の製造方法。 - 前記工程(c)の後に行われ、前記タンタルリングをタンタル箔で覆って熱処理する工程をさらに備える
請求項1または請求項2記載の単結晶の製造方法。 - 単結晶の原料を収納とすると共に、種基板を前記原料に対向させて設置可能な台座を有する坩堝と、
前記坩堝内に前記台座の周囲を囲むように配設され、タンタル又は炭化タンタルを含むタンタルリングと、
一端が前記坩堝の内壁に接し、前記原料が昇華したガスを前記台座へと導く筒状のガイドと、
前記ガイドと前記坩堝の内壁との間に配設された断熱材とを備え、
前記タンタルリングは、前記ガイドの他端と前記坩堝の間を覆うように配設され、
前記断熱材が配設された空間が、前記坩堝の内壁、前記ガイドおよび前記タンタルリングによって密閉される
単結晶の製造装置。 - 前記タンタルリングは、タンタルを浸炭させた層を含むものである
請求項4記載の単結晶の製造装置。 - 前記ガイドの内壁はタンタル又は炭化タンタルによってコーティングされている
請求項4または請求項5記載の単結晶の製造装置。 - 前記坩堝の上に載置されるリング状の断熱材をさらに備える
請求項4から請求項6のいずれか一項記載の単結晶の製造装置。
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