JP2010109390A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 放射線のビームを提供するように構成された照明システムと、
   放射線の前記ビームの経路に配置される物品を支持するように構成された物品支持構造と、
   前記物品が前記物品支持構造にて支持される際に、バックフィルガス圧力にて前記物品の背面にバックフィルガスを供給する目的に前記物品支持構造に配備されたバックフィルガス供給部と、
   投影の間、前記物品支持構造に前記物品をクランプするように構成された静電クランプと、
   前記バックフィルガス圧力を用いることにより前記物品を前記物品支持構造から放すために、前記クランプ及び前記バックフィルガス圧力を調整するように構成されたコントローラと、を有し、
   前記コントローラは、前記バックフィルガス圧力を減じる前に該クランプを解除することを特徴とする
   リソグラフィ装置。
2. 前記物品支持構造上の前記物品の存在を検知するように構成された存在検知器をさらに具備しており、前記コントローラは、前記存在検知器により計測された存在検知に対してバックフィルガス圧力を調整することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記存在検知器は、前記静電クランプに連結された静電クランプ容量検知器を含んでいることを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記物品支持構造に対して前記物品が配置もしくは取り外しされる間、前記物品を取り扱うように構成された物品取扱い部をさらに備え、該物品取扱い部は、取り扱う前記物品を前記物品支持構造から放す解放力をもたらすように構成されており、
   前記コントローラは、変位センサにより計測がなされる前記物品の計測された位置ずれと、フォースセンサにより計測がなされる前記物品取扱い部の解放力の少なくとも一方に対して前記バックフィルガス圧力を調整するように構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
5. 前記バックフィルガス圧力は１−１５ｍｂａｒの範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6. 前記静電クランプは１５μｍ未満のバックフィルガスギャップを画成することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
7. 前記物品支持構造はパターニングデバイスを支持するように構成されており、前記パターニングデバイスは、放射線の前記ビームの断面にパターンを与える役割を果たすことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8. 前記物品支持構造は、パターン化ビームによってその目標部分にパターン形成がなされる基板を保持する基板テーブルであることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9. 基板を提供し、
   放射線のビームを提供し、
   パターニングデバイスを用いて放射線ビームの断面にパターンを与え、
   物品支持部を提供して前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方をクランプし、
   前記放射線のパターン化ビームを前記基板の目標部分に投影し、
   圧力にて物品支持部にバックフィルガスを供給し、そして
   バックフィルガス圧力を減じる前に該クランプを解除して、前記バックフィルガス圧力により前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方を前記物品支持部から取り外す、
   ことを含むデバイス製造方法。
10. パターン化ビームの投影の間、前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方をクランプするクランプ力を与え、
    投影に先立ち前記バックフィルガス圧力を供給して前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方と前記物品支持部間の熱伝導を改善し、
    投影後、クランプ力を解除して、前記バックフィルガス圧力を用いることによって前記物品支持部から前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方を取り外す、ことをさらに含む請求項９に記載の方法。
11. 前記バックフィルガス圧力の供給後、およびクランプ力解除の前に、物品取扱い部により前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方を押圧し、そして
    クランプ力解除の後に前記物品取扱い部によって前記基板および前記パターニングデバイスの少なくとも一方を持ち上げる、ことをさらに含む請求項１０に記載の方法。
12. 放射線のビームを供給する手段と、
    放射線のビームの経路に配置される物品を支持する手段と、
    前記物品が前記支持手段によって支持される際にバックフィルガス圧力にて物品の背面にバックフィルガスを供給する手段と、
    投影の間、前記支持手段に前記物品をクランプする手段と、
    バックフィルガス圧力を用いることによって前記物品を前記支持手段から放すために、前記クランプ手段及び前記バックフィルガス供給手段を調整するコントロール手段と、を含み、
    前記コントロール手段は、バックフィルガス圧力を減じる前に該クランプを解除することを特徴とする
    リソグラフィ装置。
13. 物品が物品支持構造により支持される際にバックフィルガス圧力にて前記物品の背面にバックフィルガスを供給すること、
    前記物品への像投影の間、前記物品支持構造に前記物品をクランプすること、
    前記バックフィルガス圧力を減じる前に該クランプを解除して、前記バックフィルガス圧力により前記物品支持構造から該物品を放すこと、を含むリソグラフィ工程中に物品を支持する方法。
14. 放射線のビームを提供するように構成された照明システムと、
    放射線の前記ビームの経路に配置される物品を支持するように構成された物品支持構造と、
    前記物品が前記物品支持構造にて支持される際に、バックフィルガス圧力にて前記物品の背面にバックフィルガスを供給する目的に前記物品支持構造に配備されたバックフィルガス供給部と、
    投影の間、前記物品支持構造に前記物品をクランプするように構成された静電クランプと、
    前記バックフィルガス圧力を用いることにより前記物品を前記物品支持構造から放すために、前記クランプと前記バックフィルガス圧力の少なくとも一方を調整するように構成されたコントローラと、により構成されるリソグラフィ装置。