JP2014017428A5 - - Google Patents

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上述した目的を達成するために、本発明の一態様は、研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、弾性膜で構成された基板保持面および圧力室を有し、該基板保持面で基板を保持して前記圧力室内の圧力により前記基板を前記研磨パッドに押圧する基板保持装置と、前記圧力室内の前記圧力の変化に基づいて前記基板の前記基板保持面からの離脱を検出する基板離脱検出部とを備えたことを特徴とする研磨装置である。
本発明の好ましい態様は、前記基板離脱検出部は、前記圧力室内の圧力の最小点を検出することにより、前記基板保持面からの離脱を検出することを特徴とする。
本発明の他の態様は、弾性膜で構成された基板保持面および圧力室を有する基板保持装置を用いて基板を研磨する方法であって、前記圧力室内の圧力により前記基板を研磨パッドに押圧し、前記基板と前記研磨パッドとを相対運動をさせながら前記基板の研磨を行い、研磨後の基板を前記基板保持面上に保持し、前記基板を基板受け渡し装置に受け渡す際、前記圧力室内の前記圧力の変化を監視し、前記圧力室内の前記圧力の変化に基づいて前記基板の前記基板保持面からの離脱を検出することを特徴とする研磨方法である。
本発明の好ましい態様は、前記圧力室内の圧力の最小点を検出することにより、前記基板保持面からの離脱を検出することを特徴とする。

Claims (4)

  1. 研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、
    弾性膜で構成された基板保持面および圧力室を有し、該基板保持面で基板を保持して前記圧力室内の圧力により前記基板を前記研磨パッドに押圧する基板保持装置と、
    前記圧力室内の前記圧力の変化に基づいて前記基板の前記基板保持面からの離脱を検出する基板離脱検出部とを備えたことを特徴とする研磨装置。
  2. 前記基板離脱検出部は、前記圧力室内の圧力の最小点を検出することにより、前記基板保持面からの離脱を検出することを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
  3. 弾性膜で構成された基板保持面および圧力室を有する基板保持装置を用いて基板を研磨する方法であって、
    前記圧力室内の圧力により前記基板を研磨パッドに押圧し、前記基板と前記研磨パッドとを相対運動をさせながら前記基板の研磨を行い、
    研磨後の基板を前記基板保持面上に保持し、
    前記基板を基板受け渡し装置に受け渡す際、前記圧力室内の前記圧力の変化を監視し、前記圧力室内の前記圧力の変化に基づいて前記基板の前記基板保持面からの離脱を検出することを特徴とする研磨方法。
  4. 前記圧力室内の圧力の最小点を検出することにより、前記基板保持面からの離脱を検出することを特徴とする請求項3に記載の研磨方法。
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