JP2013219248A5 - - Google Patents
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Description
本発明の好ましい態様は、前記処理部は、前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点での膜厚と所定の目標膜厚との差から求められた第１の検出誤差範囲と、前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点での膜厚と前記所定の目標膜厚との差から求められた第２の検出誤差範囲とを記憶しており、前記第１の検出誤差範囲および前記第２の検出誤差範囲は、前記ウェハと同種のウェハの過去の研磨テータから予め取得された検出誤差範囲であり、前記第２の検出誤差範囲が前記第１の検出誤差範囲に重なるように前記所定のしきい値が設定されることを特徴とする。
Claims (8)
- 膜が形成されたウェハを研磨する研磨装置において、
研磨パッドを支持する研磨テーブルと、
前記研磨テーブルを回転させるテーブルモータと、
ウェハを前記研磨パッドに押し付けるトップリングと、
前記ウェハに光を当て、前記ウェハからの反射光の強度を計測する光学式センサと、
前記反射光の強度から、前記膜の厚さに従って変化する研磨指標値を生成する処理部とを備え、
前記処理部は、前記テーブルモータのトルク電流値および前記研磨指標値を監視し、前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点および前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点のうち、いずれか早い方に基づいて研磨終点を決定することを特徴とする研磨装置。 - 前記処理部は、前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点での膜厚と所定の目標膜厚との差から求められた第１の検出誤差範囲と、前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点での膜厚と前記所定の目標膜厚との差から求められた第２の検出誤差範囲とを記憶しており、
前記第１の検出誤差範囲および前記第２の検出誤差範囲は、前記ウェハと同種のウェハの過去の研磨テータから予め取得された検出誤差範囲であり、
前記第２の検出誤差範囲が前記第１の検出誤差範囲に重なるように前記所定のしきい値が設定されることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。 - 前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点および前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点のうち、いずれか早い方が前記研磨終点と決定されることを特徴とする請求項１または２に記載の研磨装置。
- 前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点および前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点のうち、いずれか早い方の時点から所定の時間が経過した時点が前記研磨終点と決定されることを特徴とする請求項１または２に記載の研磨装置。
- 膜が形成されたウェハを研磨する研磨方法において、
研磨パッドを支持する研磨テーブルをテーブルモータにより回転させ、
トップリングによりウェハを前記研磨パッドに押し付け、
前記ウェハに光を当て、前記ウェハからの反射光の強度を計測し、
前記反射光の強度から、前記膜の厚さに従って変化する研磨指標値を生成し、
前記テーブルモータのトルク電流値および前記研磨指標値を監視し、
前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点および前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点のうち、いずれか早い方に基づいて研磨終点を決定することを特徴とする研磨方法。 - 前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点での膜厚と所定の目標膜厚との差から求められた第２の検出誤差範囲が、前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点での膜厚と前記所定の目標膜厚との差から求められた第１の検出誤差範囲に重なるように前記所定のしきい値が設定され、
前記第１の検出誤差範囲および前記第２の検出誤差範囲は、前記ウェハと同種のウェハの過去の研磨テータから予め取得された検出誤差範囲であることを特徴とする請求項５に記載の研磨方法。 - 前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点および前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点のうち、いずれか早い方が前記研磨終点と決定されることを特徴とする請求項５または６に記載の研磨方法。
- 前記トルク電流値が所定のしきい値に達した時点および前記研磨指標値の所定の特徴点が現れた時点のうち、いずれか早い方の時点から所定の時間が経過した時点が前記研磨終点と決定されることを特徴とする請求項５または６に記載の研磨方法。
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