JP2010083773A - チオール化合物、これを含む重合性組成物、チオール化合物の製造方法 - Google Patents
チオール化合物、これを含む重合性組成物、チオール化合物の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
たとえば、特許文献1,2には、特定のポリチオールと、硫黄とを反応させて、レンズ原料用ポリチオールオリゴマーを得ることが開示されている。
[1]式(1)で示される化合物と、メタンジチオールと、酸化剤とを反応させて得られるチオール化合物。
(上記式(2)中、R1は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、あるいは、炭素数2以上、6以下のアシル基を示す。)
(上記式(2)中、R1は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、あるいは、炭素数2以上、6以下のアシル基を示す。)
[6][5]に記載の重合性組成物において、メルカプト基と、前記イソシアナート化合物のイソシアナト基のモル比(SH基/NCO基)が1.0より大きく1.5以下である重合性組成物。
[7][5]または[6]に記載の重合性組成物において、前記イソシアナート化合物が芳香環を有するイソシアナート化合物である重合性組成物。
[8][7]に記載の重合性組成物において、前記芳香環を有するイソシアナート化合物が、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、4,4′―ジフェニルメタンジイソシアネート、およびトリフェニルメタントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアナートよりなる群から選択される1種以上である重合性組成物。
[9][1]または[2]に記載のチオール化合物あるいは、請求項3または4に記載の組成物と、エピチオ化合物とを含む重合性組成物。
[10][5]乃至[9]いずれかに記載の重合性組成物を注型重合して樹脂を得る工程を含む、樹脂の製造方法。
[11][5]乃至[9]いずれかに記載の重合性組成物を重合して得られる樹脂。
[12][11]に記載の樹脂からなる光学部品。
[13]式(1)で示される化合物と、メタンジチオールと、酸化剤とを反応させてチオール化合物を得るチオール化合物の製造方法。
(上記式(2)中、R1は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、あるいは、炭素数2以上、6以下のアシル基を示す。)
本発明のチオール化合物は、以下の(I)あるいは(II)の方法で得られるものである。
メタンジチオールと、
酸化剤とを反応させる。
R1−S−CH2−SH(2)
で示されるメタンジチオール誘導体と、
酸化剤とを反応させて得られる化合物を、アルコール分解あるいは加水分解する。
(上記式(2)中、R1は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、あるいは、炭素数2以上、6以下のアシル基を示す。)
なお、酸化剤として硫黄を用いた場合は、それより得られる樹脂が、不均一、着色、濁り等の問題を生じる場合があるので、硫黄を除く酸化剤を使用することが好ましい。
(I)の製造方法では、式(1)で示される化合物の1つ〜4つのメルカプト基(SH基)に対し、メタンジチオールが酸化付加した化合物や式(1)で示される化合物の2量体等が混合物として生成すると考えられる。それらの中でも、式(5)で示される化合物が主として生成すると考えられる。
(II)の製造方法では、式(1)で示される化合物の1つ〜4つのSH基に対し、メタンジチオール誘導体が酸化付加した化合物や式(1)で示される化合物の2量体等が混合物として生成すると考えられる。それらの中でも、式(6)で示される化合物が主として生成すると考えられる。
ここで、式(2)で示される化合物は、R1が炭素数1以上、6以下のアルキル基、あるいは、炭素数2以上、6以下のアシル基であればよい。なかでも、取扱い性、入手の容易さ、式(5)で示される化合物への変換反応における反応性の観点から、R1はアセチル基であることが好ましい。
また、酸化剤としては、(I)の製造方法で使用されるものを使用することができる。
(III)式(1)で示される化合物および、式(3)、式(4)で示される化合物の少なくともいずれか一方とを含む組成物と、
メタンジチオールと、
酸化剤とを反応させる。
R1−S−CH2−SH(2)
で示されるメタンジチオール誘導体と、
酸化剤とを反応させて得られる組成物を、アルコール分解あるいは加水分解する。
(上記式(2)中、R1は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、あるいは、炭素数2以上、6以下のアシル基を示す。)
(III)、(IV)の製造方法における酸化剤、反応温度は、(I)の場合と同様である。
また、(IV)の製造方法における(2)で示される化合物は、(II)の場合と同様である。
(III)、(IV)の製造方法では、上記式(5)に加え、以下の式(7)、(8)の少なくともいずれか一方のチオール化合物を含む組成物を得ることができると考えられる。
次に、重合性組成物について説明する。本実施形態の重合性組成物は製造方法(I)、(II)で得られる化合物、あるいは、製造方法(III)、(IV)で得られる組成物を含む。
重合性組成物中に含まれる重合性化合物の総重量に占める、チオール化合物の含有量は、特に限定するものではないが、屈折率、機械物性の観点から、50重量%以上、70重量%以下であることが好ましい。
また、重合性組成物は、エピチオ化合物を含有していてもよい。エピチオ化合物を有することで、重合性組成物を重合して得られる樹脂の屈折率、アッベ数をさらに向上させることができる。
(イソシアナート化合物)
本発明において使用されるイソシアナート化合物は、分子内に1つ以上のイソシアナト基(NCO基)を含有する化合物である。イソシアナート化合物を加えることにより機械物性等がさらに改良される場合がある。
ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2−ジメチルペンタンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ブテンジイソシアネート、1,3−ブタジエン−1,4−ジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,6,11−ウンデカトリイソシアネート、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、1,8−ジイソシアナト−4−イソシアナトメチルオクタン、o−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)ナフタリン、ビス(イソシアナトエチル)カーボネート、ビス(イソシアナトエチル)エーテル、リジンジイソシアナトメチルエステル、リジントリイソシアネート、等の脂肪族ポリイソシアナート化合物及び
イソホロンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジメチルメタンイソシアネート、2,2−ジメチルジシクロヘキシルメタンイソシアネート、2,5−ビス(イソシアナトメチル)ビシクロ−[2,2,1]−ヘプタン、2,6−ビス(イソシアナトメチル)ビシクロ−[2,2,1]−ヘプタン、3,8−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン、3,9−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン、4,8−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン、4,9−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン等の脂環族ポリイソシアナート化合物、
及び
フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、エチルフェニレンジイソシアネート、イソプロピルフェニレンジイソシアネート、ジメチルフェニレンジイソシアネート、ジエチルフェニレンジイソシアネート、ジイソプロピルフェニレンジイソシアネート、トリメチルベンゼントリイソシアネート、ベンゼントリイソシアネート、ビフェニルジイソシアネート、トルイジンジイソシアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3−ジメチルジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート、ビベンジル−4,4−ジイソシアネート、ビス(イソシアナトフェニル)エチレン、3,3−ジメトキシビフェニル−4,4−ジイソシアネート、フェニルイソシアナトエチルイソシアネート、ヘキサヒドロベンゼンジイソシアネート、ヘキサヒドロジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアナート化合物、及び
ビス(イソシアナトエチル)スルフィド、ビス(イソシアナトプロピル)スルフィド、ビス(イソシアナトヘキシル)スルフィド、ビス(イソシアナトメチル)スルホン、ビス(イソシアナトメチル)ジスルフィド、ビス(イソシアナトプロピル)ジスルフィド、ビス(イソシアナトメチルチオ)メタン、ビス(イソシアナトエチルチオ)メタン、ビス(イソシアナトエチルチオ)エタン、ビス(イソシアナトメチルチオ)エタン、1,5−ジイソシアナト−2−イソシアナトメチル−3−チアペンタン等の含硫脂肪族ポリイソシアナート化合物、及び
ジフェニルスルフィド−2,4−ジイソシアネート、ジフェニルスルフィド−4,4−ジイソシアネート、3,3−ジメトキシ−4,4−ジイソシアナトジベンジルチオエーテル、ビス(4−イソシアナトメチルベンゼン)スルフィド、4,4−メトキシベンゼンチオエチレングリコール−3,3−ジイソシアネート、ジフェニルジスルフィド−4,4−ジイソシアネート、2,2−ジメチルジフェニルジスルフィド−5,5−ジイソシアネート、3,3−ジメチルジフェニルジスルフィド−5,5−ジイソシアネート、3,3−ジメチルジフェニルジスルフィド−6,6−ジイソシアネート、4,4−ジメチルジフェニルジスルフィド−5,5−ジイソシアネート、3,3−ジメトキシジフェニルジスルフィド−4,4−ジイソシアネート、4,4−ジメトキシジフェニルジスルフィド−3,3−ジイソシアネート等の含硫芳香族ポリイソシアナート化合物、及び
2,5−ジイソシアナトチオフェン、2,5−ビス(イソシアナトメチル)チオフェン、2,5−ジイソシアナトテトラヒドロチオフェン、2,5−ビス(イソシアナトメチル)テトラヒドロチオフェン、3,4−ビス(イソシアナトメチル)テトラヒドロチオフェン、2,5−ジイソシアナト−1,4−ジチアン、2,5−ビス(イソシアナトメチル)−1,4−ジチアン、4,5−ジイソシアナト−1,3−ジチオラン、4,5−ビス(イソシアナトメチル)−1,3−ジチオラン、4,5−ビス(イソシアナトメチル)−2−メチル−1,3−ジチオラン等の含硫複素環ポリイソシアナート化合物等を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
なお、樹脂の屈折率を高める観点から、フェニレンジイソシアネートがより好ましく、さらに樹脂の透明性を高めるため、フェニレンジイソシアネートは、m−フェニレンジイソシアネートを含んでいることが好ましい。
好ましくは、前記モル比は、1.05以上、1.3以下である。
メルカプト基とイソシアナト基のモル比(SH基/NCO基)とは、本発明の重合性組成物を構成するイソシアナート化合物に含まれるイソシアナト基の総モル数と、本発明の重合性組成物を構成するチオール化合物に含まれるメルカプト基の総モル数との比である。
なお、2種以上のイソシアナート化合物を含む場合には、2種以上のイソシアナート化合物が有するイソシアナト基のモル数を加算する。また、上述した(I)〜(IV)の製造方法により得られるチオール化合物および組成物以外の「他の(ポリ)チオール類」を含む場合には、重合性組成物に含まれる総メルカプト基の総モル数をいう。
ポリチオール化合物が、混合物である場合には、公知の滴定によって求められるチオール類1g中のメルカプト基のミリ等量数(meq/g、以下SHV値という)で求めることができる。
エピチオ化合物として、具体的には、ビス(1,2−エピチオエチル)スルフィド、ビス(1,2−エピチオエチル)ジスルフィド、ビス(エピチオエチルチオ)メタン、ビス(エピチオエチルチオ)ベンゼン、ビス[4−(エピチオエチルチオ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(エピチオエチルチオ)フェニル]メタン等のエピチオエチルチオ化合物;
ビス(2,3−エピチオプロピル)スルフィド、ビス(2,3−エピチオプロピル)ジスルフィド、ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)エタン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2−メチルプロパン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ブタン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2−メチルブタン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ブタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ペンタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2−メチルペンタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−3−チアペンタン、1,6−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ヘキサン、1,6−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2−メチルヘキサン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−3,6−ジチアオクタン、1,2,3−トリス(2,3−エピチオプロピルチオ)プロパン、2,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)プロパン、2,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−1−(2,3−エピチオプロピルチオ)ブタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2−(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタン、1−(2,3−エピチオプロピルチオ)−2,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−4−チアヘキサン、1,5,6−トリス(2,3−エピチオプロピルチオ)−4−(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアヘキサン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−4−(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−4,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−4,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−2,4,5−トリス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,1,1−トリス[[2−(2,3−エピチオプロピルチオ)エチル]チオメチル]−2−(2,3−エピチオプロピルチオ)エタン、1,1,2,2−テトラキス[[2−(2,3−エピチオプロピルチオ)エチル]チオメチル]エタン、1,11−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−4,8−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−4,7−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−5,7−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン等の鎖状脂肪族の2,3−エピチオプロピルチオ化合物;
1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)シクロヘキサン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)シクロヘキサン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキサン、2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス[[2−(2,3−エピチオプロピルチオ)エチル]チオメチル]−1,4−ジチアン、2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−2,5−ジメチル−1,4−ジチアン等の環状脂肪族の2,3−エピチオプロピルチオ化合物;
1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ベンゼン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、ビス[4−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル]メタン、2,2−ビス[4−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル]プロパン、ビス[4−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル]スルホン、4,4'−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ビフェニル等の芳香族の2,3−エピチオプロピルチオ化合物;
エチレンスルフィド、プロピレンスルフィド、メルカプトプロピレンスルフィド、メルカプトブテンスルフィド、エピチオクロルヒドリン等のエピチオ基を1つ有する化合物;
ビス(2,3−エピチオプロピル)エーテル、ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)メタン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)エタン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)プロパン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)プロパン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2−メチルプロパン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ブタン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2−メチルブタン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ブタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ペンタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2−メチルペンタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−3−チアペンタン、1,6−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ヘキサン、1,6−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2−メチルヘキサン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−3,6−ジチアオクタン、1,2,3−トリス(2,3−エピチオプロピルオキシ)プロパン、2,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)プロパン、2,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−1−(2,3−エピチオプロピルオキシ)ブタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2−(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3−チアペンタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3−チアペンタン、1−(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−4−チアヘキサン、1,5,6−トリス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−4−(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3−チアヘキサン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−4−(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−4,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−4,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−2,4,5−トリス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,1,1−トリス[[2−(2,3−エピチオプロピルオキシ)エチル]チオメチル]−2−(2,3−エピチオプロピルオキシ)エタン、1,1,2,2−テトラキス[[2−(2,3−エピチオプロピルオキシ)エチル]チオメチル]エタン、1,11−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−4,8−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−4,7−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)−5,7−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン等の鎖状脂肪族の2,3−エピチオプロピルオキシ化合物;
1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)シクロヘキサン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)シクロヘキサン、2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス[[2−(2,3−エピチオプロピルオキシ)エチル]チオメチル]−1,4−ジチアン、2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)−2,5−ジメチル−1,4−ジチアン等の環状脂肪族の2,3−エピチオプロピルオキシ化合物;および、
1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ベンゼン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)ベンゼン、1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)ベンゼン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシメチル)ベンゼン、ビス[4−(2,3−エピチオプロピルオキシ)フェニル]メタン、2,2−ビス[4−(2,3−エピチオプロピルオキシ)フェニル]プロパン、ビス[4−(2,3−エピチオプロピルオキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(2,3−エピチオプロピルオキシ)フェニル]スルホン、4,4'−ビス(2,3−エピチオプロピルオキシ)ビフェニル等の芳香族の2,3−エピチオプロピルオキシ化合物等を挙げることができるが、例示化合物のみに限定されるものではない。
ここで、重合性組成物において、エピチオ化合物の総重量と、チオール化合物の総重量(上述した(I)〜(IV)の製造方法により得られるチオール化合物および組成物以外の「他の(ポリ)チオール類」を含む場合には他の(ポリ)チオール類」を含む総重量)とを合わせた値を100とした場合、高屈折率化の観点から、チオール化合物の含有量(重量%)は、1.0%以上、30%以下であり、好ましくは、2.0%以上、20%以下、さらに好ましくは5.0%以上、15%以下である。前記範囲であれば、耐熱性、色相を確実に良好とすることができる。
また、化合物の構造の観点からは、アントラキノン系染料が好ましい。
発光ダイオード(LED)用封止材;
光導波路;
光学レンズや光導波路の接合に用いる光学用接着剤;
光学レンズなどに用いる反射防止膜;
基板、導光板、フィルム、シートなどの液晶表示装置部材に用いる透明性コーティングまたは透明性基板などが挙げられる。
・屈折率(ne),アッベ数(νe):プルフリッヒ屈折計を用い、20℃で測定した。
・耐熱性 : TMAペネトレーション法(50 g荷重、ピン先0.5mmφ、昇温速度10℃/min)により測定した。熱膨張時のTMA曲線の接線と落込み時のTMA曲線の接線との交点の温度を熱変形開始温度とした。
・曲げ試験:島津製作所製AUTOGRAPH AGS-Jにより測定した。厚さ3.0mm、長さ75mm、幅25.0mmの樹脂試験片を用いて、試験片中央に下降速度1.2mm/minにて荷重を負荷させた時の最大点応力(N/mm2)を測定した。
・引張り強度試験(穴開け引っ張り試験):島津製作所製AUTOGRAPH AGS-Jを用いて、レンズ径45mm、厚さ2.5mmに調整された樹脂平板に、ツーポイントフレーム加工を想定して、ドリルにて2箇所に直径1.6mmの穴をあけ、1.6mmの金属製シャフトを穴に通し、サンプルの両端を固定治具に取り付けた後、5mm/minの速度で引張り、最大点の試験力を測定し、得られた最大点試験力を樹脂厚で割った値(kgf/mm)を算出した。
・ SHV : 化合物1g当たりに含まれるメルカプト基のミリ当量数(meq/g)
特開2004-2820号公報の製造例2記載の方法に準拠して、1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパンを主成分として含むポリチオール組成物Aを合成した。
攪拌羽根、温度計、蒸留塔、窒素導入用キャピラリーを設置した2リットル底抜きコック付きフラスコに、1,1,3,3-テトラメトキシプロパン164.2 g(1 mol)、アセチルチオメチルチオール488.8 g(4 mol)およびパラトルエンスルホン酸7.6 g(0.04 mol)を加え、1kPa以下の真空度を保ち且つ攪拌しながら40℃に加熱した。メタノールの留出が停止するまで18時間程加熱を続けた。冷却後、真空を解除し、蒸留塔の代わりにコンデンサーを取り付けた後、メタノール400mlとクロロホルム400mlおよび36%塩酸200mlを加え、60℃に加熱してアルコリシスを行い、目的化合物である1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパンを主成分として含むポリチオール組成物Aを合成した。
適量の水およびクロロホルムを加えて分液させ、クロロホルム層を数回水洗した。脱溶媒してクロロホルムおよび低沸分を除いた後、3μmテフロン(登録商標)フィルターで濾過後340.0 gのポリチオール組成物Aを得た。1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパンの分析結果は以下の通りである。さらに、ポリチオール組成物AのLC分析により、ポチオール化合物成分が2成分検出された(クロマトグラム面積比でそれぞれ9.8%、9.8%)。これらの成分を分取LCによって精製し分析したところ、それぞれ4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアン、2-(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)-1,3-ジチエタンであった。以下に分析結果を示す。
また、ポリチオール組成物A(上記副生物2成分を含む)のSHVを以下の方法により測定した。ポリチオール組成物A 95.1 mgのクロロホルム30ml、メタノール30ml混合溶媒溶液に0.05mol/Lヨウ素溶液を徐々に滴下した。9.7mlを滴下した時点で、滴下したヨウ素の褐色が消失しなくなり、この点を当量点としてポリチオール組成物Aに含まれるSH基の量を算出した結果、9.64meq/gであった。
i)1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン
1H-NMR δ(CDCl3) : 2.18(t, 4H)、2.49(t, 2H)、3.78-3.90(m, 8H)、4.64(t, 2H)
13C-NMR δ(CDCl3) : 26.7, 41.3, 48.7
FT-IR : 538cm-1
MS : m/z=356(M+)
ii)4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアン
1H-NMR δ(CDCl3) : 2.02(t, 2H)、2.56(t, 2H)、3.77-3.91(m, 8H)、3.97(s, 2H)、4.66(t, 2H)
13C-NMR δ(CDCl3) : 27.1, 28.8, 38.1, 44.6
FT-IR : 2538cm-1
MS : m/z=276(M+)
iii)2-(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)-1,3-ジチエタン
1H-NMR δ(CDCl3) : 2.03(t, 2H)、2.13-2.21(m, 1H)、2.75-2.80(m, 1H)、3.79-3.84(m, 1H)、3.90-3.96(m, 3H)、4.32-4.35(m, 2H)
13C-NMR δ(CDCl3) : 27.2, 32.3, 38.9, 46.2
FT-IR : 2538cm-1
MS : m/z=276(M+)
製造例1記載の方法にて合成したポリチオール組成物A 102.99 g(SH基含有量1.0mol)とメタンジチオール40.09 g(0.5mol)をクロロホルム1000mlとメタノール100mlの混合溶媒に懸濁した。0.5mol/Lヨウ素水溶液1000ml(ヨウ素含有量0.5mol)を25℃で1時間かけて滴下した後、15分間撹拌した。分液操作により水相を除去し、クロロホルム相を200 gの蒸留水で洗浄した。さらにクロロホルム相を35%塩酸200 gにより洗浄した。引き続き、蒸留水200 gで3回洗浄して、クロロホルム相を無水硫酸マグネシウムにより乾燥脱水した。無水硫酸マグネシウムを濾別して得られた溶液からクロロホルムを減圧留去してポリチオール組成物B(淡黄色微濁粘調液体)123.1 gを得た(収率87%)。SHVは、6.67 meq/gであった。
実施例1では、ポリチオール組成物Aに含まれる各チオール化合物(1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアン、2-(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)-1,3-ジチエタン)それぞれが、メタンジチオールと酸化付加反応して、複数種類のチオール化合物を生成していると推測される。
製造例1記載の方法にて合成したポリチオール組成物A 102.7 g(SH基含有量1.0mol)とメタンジチオール40.09 g(0.5mol)をクロロホルム1000mlとメタノール100mlの混合溶媒に懸濁した。0.5mol/Lヨウ素水溶液1000ml(ヨウ素含有量0.5mol)を25℃で1時間かけて滴下した後、15分間撹拌した。分液操作により水相を除去し、クロロホルム相を200 gの蒸留水で洗浄した。さらにクロロホルム相を35%塩酸200 gにより洗浄した。引き続き、蒸留水200 gで3回洗浄して、クロロホルム相を無水硫酸マグネシウムにより乾燥脱水した。無水硫酸マグネシウムを濾別、クロロホルムを減圧留去後、3μmPTFE製フィルターで濾過を行いポリチオール組成物C(淡黄色粘調液体)100.3 gを得た(収率71%)。SHVは、6.74 meq/gであった。
実施例2では、ポリチオール組成物Aに含まれる各チオール化合物(1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアン、2-(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)-1,3-ジチエタン)それぞれが、メタンジチオールと酸化付加反応して、複数種類のチオール化合物を生成していると推測される。
製造例1記載の方法にて合成したポリチオール組成物A 7.38 g(SH基含有量71.1 mol)とメタンジチオール2.85 g(35.5 mol)をクロロホルム200 mlとメタノール200 mlの混合溶媒に懸濁した。0.5mol/Lヨウ素水溶液71.1 ml(ヨウ素含有量35.5 mmol)を25から30℃の範囲で30分間かけて滴下した後、30分間撹拌した。蒸留水70mlを添加した後、分液操作により水相を除去し、クロロホルム相を100 gの蒸留水で4回洗浄した。続いて、クロロホルム相を無水硫酸マグネシウムにより乾燥脱水した後、無水硫酸マグネシウムを濾別して得られた溶液からクロロホルムを減圧留去してポリチオール組成物D(淡黄色微濁粘調液体)8.43 gを得た(収率83%)。SHVは、5.80 meq/gであった。
実施例3では、ポリチオール組成物Aに含まれる各チオール化合物(1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアン、2-(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)-1,3-ジチエタン)それぞれが、メタンジチオールと酸化付加反応して、複数種類のチオール化合物を生成していると推測される。
トリレン-2,4-ジイソシアネート11.02 g、硬化触媒としてジブチル錫ジクロリド6mgを20℃にて混合溶解させた。続いて、実施例1記載の方法により合成したポリチオール組成物B 18.98 gを添加した。この懸濁液を60℃にて20分加熱撹拌し、均一溶液とした(モノマー混合物中のメルカプト基とイソシアナト基のモル比は、SH/NCO=1.0)。10分間減圧脱気を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入し、60℃〜120℃まで26時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃で4時間アニールを行った。得られた樹脂の物性を表1に示す。
実施例5〜8では、表1記載のモノマー組成およびSH基/NCO基モル比とした以外は、実施例4と同様の方法で樹脂を得た。
具体的には、実施例5では、実施例4と同様のポリチオール組成物Bを使用し、実施例4と同様の方法で樹脂化を行った。
実施例6、7では、ポリチオール組成物Bにかえて実施例2で得られたポリチオール組成物Cを使用した。また、トリレン-2,4-ジイソシアネートにかえて4,4'-シ゛フェニルメタンシ゛イソシアネートを使用し、実施例4と同様の方法で樹脂化を行った。
実施例8では、ポリチオール組成物Bかえて実施例3で製造したポリチオール組成物Dを使用した。また、トリレン-2,4-ジイソシアネートにかえてm-キシリレンシ゛イソシアナートを使用し、実施例4と同様の方法で樹脂化を行った。
樹脂物性を表1に示す。
ビス(2,3-エピチオプロピル)ジスルフィド 9.0 g、紫外線吸収剤(商品名:Tinuvin PS)99 mgを20℃にて混合溶解して均一溶液とした。この溶液に実施例2記載の方法により合成したポリチオール組成物C 0.90 gを添加、混合溶解させた。続いて、この溶液にジシクロヘキシルメチルアミン9.0 mgおよびジメチルシクロヘキシルアミン1.8 mgを添加、混合溶解させ、10分間減圧脱気を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、30℃〜80℃まで21時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂をさらに100℃で3時間アニール処理を行った。得られた樹脂の物性を表1に示す。
トリレン-2,4-ジイソシアネート 18.23 g、製造例1記載の方法にて合成したポリチオール組成物A 21.77 g、硬化触媒としてジブチル錫ジクロリド8mg、内部離型剤(商品名:ZelecUN 、STEPAN社製)20 mg、紫外線吸収剤(商品名:viosorb-583、共同薬品株式会社製)20 mgを混合して、60℃にて10分間加熱撹拌して均一なモノマー混合溶液とした(モノマー混合物中のメルカプト基とイソシアナト基のモル比は、SH/NCO=1.0)。このモノマー混合物を10分間減圧脱気した後、3μmPTFE製フィルターで濾過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入し、60℃〜120℃まで20時間かけて徐々に昇温して重合させた。重合終了後、ガラスモールド型を離型させて樹脂を得た。得られた樹脂をさらに120℃で2時間アニール処理を行った。樹脂物性を表1に示す。
比較例1記載の方法と同様にして、表1記載のモノマー組成およびSH基/NCO基モル比で樹脂化を行なった。
比較例2では、トリレン-2,4-ジイソシアネートと、ポリチオール組成物Aとの含有量を表1に示したようにした点以外は、比較例1と同じである。
比較例3では、トリレン-2,4-ジイソシアネートを使用せずに、4,4'-シ゛フェニルメタンシ゛イソシアネートを使用した。また、4,4'-シ゛フェニルメタンシ゛イソシアネートと、ポリチオール組成物Aとの含有量を表1に示したようにした。他の点は、比較例1と同じである。
樹脂物性を表1に示す。
m-キシリレンジイソシアナート 23.77 gに、ジブチル錫ジクロリド10mg、内部離型剤(商品名:ZelecUN、STEPAN社製)60 mg、紫外線吸収剤(商品名:viosorb-583、共同薬品株式会社製)25 mgを20℃にて混合溶解して均一溶液とした。この均一溶液に、製造例1記載の方法にて合成したポリチオール組成物A 26.23 gを添加し20℃で混合溶解させてモノマー混合溶液とした(モノマー混合物中のメルカプト基とイソシアナト基のモル比は、SH/NCO=1.0)。このモノマー混合物を1時間減圧脱気した後、1μmPTFE製フィルターで濾過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入し、40℃〜100℃まで21時間かけて徐々に昇温して重合させた。重合終了後、ガラスモールドを離型させて樹脂を得た。得られた樹脂をさらに100℃で4時間アニール処理を行った。得られた樹脂物性を表1に示す。
ビス(2,3-エピチオプロピル)ジスルフィド 63.6 g、紫外線吸収剤(商品名:Tinuvin PS)0.7 gを20℃にて混合溶解して均一溶液とした。この溶液にFSH(4,8-ジメルカプトメチル-1,11-ジメルカプト-3,6,9-トリチアウンデカン)6.4 gを添加、混合溶解させた後、3μmPTFE製フィルターで濾過を行なった。続いて、この溶液にジシクロヘキシルメチルアミン64 mgおよびジメチルシクロヘキシルアミン13 mgを添加、混合溶解させた後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、30℃〜80℃まで21時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂をさらに120℃で3時間アニール処理を行った。得られた樹脂の物性を表1に示す。
比較例1、2は、それぞれ実施例4、5に対してチオール化合物を変えた系であるが、屈折率が低下する結果となった。比較例3は、実施例6に対してチオール化合物を変えた系であるが、同様に屈折率が低下する結果となった。比較例4は、実施例8に対してチオール化合物を変えた系であるが、同様に屈折率が低下する結果となった。比較例5は、実施例9に対してチオール化合物を変えた系であるが、同様に屈折率が低下する結果となった。
Claims (14)
- 請求項1または2に記載のチオール化合物あるいは、請求項3または4に記載の組成物と、
イソシアナート化合物とを含む重合性組成物。 - 請求項5に記載の重合性組成物において、
メルカプト基と、
前記イソシアナート化合物のイソシアナト基のモル比(SH基/NCO基)が1.0より大きく1.5以下である重合性組成物。 - 請求項5または6に記載の重合性組成物において、
前記イソシアナート化合物が芳香環を有するイソシアナート化合物である重合性組成物。 - 請求項7に記載の重合性組成物において、
前記芳香環を有するイソシアナート化合物が、
トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、4,4′―ジフェニルメタンジイソシアネート、およびトリフェニルメタントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアナートよりなる群から選択される1種以上である重合性組成物。 - 請求項1または2に記載のチオール化合物あるいは、請求項3または4に記載の組成物と、
エピチオ化合物とを含む重合性組成物。 - 請求項5乃至9いずれかに記載の重合性組成物を注型重合して樹脂を得る工程を含む、樹脂の製造方法。
- 請求項5乃至9いずれかに記載の重合性組成物を重合して得られる樹脂。
- 請求項11に記載の樹脂からなる光学部品。
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---|---|
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012082416A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-04-26 | Hoya Corp | ウレタン系光学部材 |
WO2013027707A1 (ja) | 2011-08-19 | 2013-02-28 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
WO2013187449A1 (ja) | 2012-06-12 | 2013-12-19 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
WO2015159708A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 株式会社ブリヂストン | シート形成体、接着シート及び積層体 |
US20160202391A1 (en) * | 2013-10-15 | 2016-07-14 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Optical material composition and optical material using same |
KR20160127118A (ko) | 2014-03-28 | 2016-11-02 | 호야 렌즈 타일랜드 리미티드 | 광학 부재용 폴리이소시아네이트 모노머 조성물, 광학 부재 및 그 제조 방법 |
JP2017030677A (ja) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | 株式会社ブリヂストン | ゴムクローラの製造方法 |
US10207987B2 (en) | 2014-07-18 | 2019-02-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polythiol composition and method for producing same |
JP2023156222A (ja) * | 2022-04-12 | 2023-10-24 | 益豊新材料股▲ふん▼有限公司 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0551412A (ja) * | 1991-08-28 | 1993-03-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | 有機ガラス |
JP2003238562A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-27 | Hoya Corp | 環状ジスルフィド化合物およびその製造方法 |
JP2003327583A (ja) * | 2002-03-01 | 2003-11-19 | Mitsui Chemicals Inc | 新規含硫環状化合物からなる重合性組成物及び該重合性組成物を硬化させてなる樹脂 |
JP2004002820A (ja) * | 2002-04-19 | 2004-01-08 | Mitsui Chemicals Inc | チオウレタン系光学材料 |
JP2004307459A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-11-04 | Hoya Corp | ジスルフィド化合物、その製造方法およびその前駆体 |
JP2005239554A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Mitsui Chemicals Inc | 鎖状含硫環状化合物からなる重合性組成物 |
WO2006033406A1 (ja) * | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Hoya Corporation | 環状スルフィド化合物及びその中間体の製造方法 |
JP3949498B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2007-07-25 | Hoya株式会社 | 光学材料用重合体の製造方法 |
WO2008026727A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Hoya Corporation | Procédé de fabrication d'une résine de polythiouréthane |
-
2008
- 2008-09-30 JP JP2008252060A patent/JP5225797B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0551412A (ja) * | 1991-08-28 | 1993-03-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | 有機ガラス |
JP3949498B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2007-07-25 | Hoya株式会社 | 光学材料用重合体の製造方法 |
JP2003238562A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-27 | Hoya Corp | 環状ジスルフィド化合物およびその製造方法 |
JP2003327583A (ja) * | 2002-03-01 | 2003-11-19 | Mitsui Chemicals Inc | 新規含硫環状化合物からなる重合性組成物及び該重合性組成物を硬化させてなる樹脂 |
JP2004002820A (ja) * | 2002-04-19 | 2004-01-08 | Mitsui Chemicals Inc | チオウレタン系光学材料 |
JP2004307459A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-11-04 | Hoya Corp | ジスルフィド化合物、その製造方法およびその前駆体 |
JP2005239554A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Mitsui Chemicals Inc | 鎖状含硫環状化合物からなる重合性組成物 |
WO2006033406A1 (ja) * | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Hoya Corporation | 環状スルフィド化合物及びその中間体の製造方法 |
WO2008026727A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Hoya Corporation | Procédé de fabrication d'une résine de polythiouréthane |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016026260A (ja) * | 2010-09-17 | 2016-02-12 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材の製造方法 |
JP2012082416A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-04-26 | Hoya Corp | ウレタン系光学部材 |
KR101923369B1 (ko) * | 2011-08-19 | 2018-11-29 | 호야 가부시키가이샤 | 우레탄계 광학 부재 및 그 제조방법 |
JPWO2013027707A1 (ja) * | 2011-08-19 | 2015-03-19 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
US9193831B2 (en) | 2011-08-19 | 2015-11-24 | Hoya Corporation | Urethane-based optical component and manufacturing process therefor |
WO2013027707A1 (ja) | 2011-08-19 | 2013-02-28 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
JP2013256575A (ja) * | 2012-06-12 | 2013-12-26 | Hoya Corp | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
CN104364285A (zh) * | 2012-06-12 | 2015-02-18 | Hoya株式会社 | 聚氨酯类光学构件及其制造方法 |
KR20150023356A (ko) | 2012-06-12 | 2015-03-05 | 호야 가부시키가이샤 | 우레탄계 광학부재 및 그 제조방법 |
EP2860207A1 (en) | 2012-06-12 | 2015-04-15 | Hoya Corporation | Urethane-based optical member and method for producing same |
KR102130522B1 (ko) * | 2012-06-12 | 2020-07-06 | 호야 가부시키가이샤 | 우레탄계 광학부재 및 그 제조방법 |
US9499656B2 (en) | 2012-06-12 | 2016-11-22 | Hoya Corporation | Urethane-based optical member and method for producing same |
WO2013187449A1 (ja) | 2012-06-12 | 2013-12-19 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
US20160202391A1 (en) * | 2013-10-15 | 2016-07-14 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Optical material composition and optical material using same |
KR20160127118A (ko) | 2014-03-28 | 2016-11-02 | 호야 렌즈 타일랜드 리미티드 | 광학 부재용 폴리이소시아네이트 모노머 조성물, 광학 부재 및 그 제조 방법 |
US10329373B2 (en) | 2014-03-28 | 2019-06-25 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Polyisocyanate monomer composition for optical members, and optical member and production method therefor |
CN106232659A (zh) * | 2014-04-18 | 2016-12-14 | 株式会社普利司通 | 片材形成体、粘接片材和层叠体 |
JP2015205976A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 株式会社ブリヂストン | シート形成体、接着シート及び積層体 |
US10308755B2 (en) | 2014-04-18 | 2019-06-04 | Bridgestone Corporation | Sheet-forming body, adhesive sheet, and laminate |
WO2015159708A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 株式会社ブリヂストン | シート形成体、接着シート及び積層体 |
US10207987B2 (en) | 2014-07-18 | 2019-02-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polythiol composition and method for producing same |
JP2017030677A (ja) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | 株式会社ブリヂストン | ゴムクローラの製造方法 |
JP2023156222A (ja) * | 2022-04-12 | 2023-10-24 | 益豊新材料股▲ふん▼有限公司 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその製造方法 |
JP7454023B2 (ja) | 2022-04-12 | 2024-03-21 | 益豊新材料股▲ふん▼有限公司 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5225797B2 (ja) | 2013-07-03 |
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