KR20130081253A - 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법 - Google Patents

티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물에 관한 것으로, 특히 몰드의 곡율반경이 큰 고돗수 렌즈에서도 표면 링 불량 현상이 나타나지 않는 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 비스(2-메르캅토에틸)술피드를 포함하는 공중합체 조성물과 이를 중합한 광학렌즈 및 그 제조방법이 제공된다. 본 발명의 공중합체 조성물과 이를 중합한 광학렌즈는 고돗수렌즈(약 -6.00 도수 이상)에서도 렌즈표면의 표면 링 불량이 매우 적었고, 면 정밀도가 우수하였으며, 또한 높은 수율로 렌즈를 제조할 수 있었다. 본 발명에 따르면 고굴절의 고돗수 렌즈에서도 렌즈표면의 링 불량이 매우 적고 면 정밀도가 우수한 티오에폭시계 광학재료를 높은 렌즈수율로 제조할 수 있다. 본 발명에 따라 제조된 광학렌즈는 기존 광학렌즈를 대체하여 안경 렌즈, 편광렌즈, 카메라 렌즈 등의 다양한 분야에서 이용될 수 있다.

Description

티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법 {Copolymerizable composition for high refractive optical lens comprising thioepoxy, polyisocyanate and polythiol compounds, and method of preparing the optical lens}
본 발명은 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물에 관한 것으로, 특히 몰드의 곡율반경이 큰 고돗수 렌즈에서도 표면 링 불량 현상이 나타나지 않는 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법에 관한 것이다.
대한민국 특허공고공보 1993-0006918호 및 1992-0005708호 등에서는 폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시킨 티오우레탄계 렌즈를 제안하고 있다. 대한민국 등록특허공보 10-0681218호에는 티오에폭시계 플라스틱 렌즈를 제안하고 있다. 티오우레탄계 렌즈는 고굴절이고 충격강도가 우수한 장점이 있으나 렌즈 표면이 무르다는 단점과 중심함몰 등의 문제가 있고, 또한 굴절율이 높아지면서 아베수가 급격히 낮아지는 문제점이 있다. 티오에폭시계 렌즈는 고굴절률이면서도 고아베수를 갖는 장점이 있으나 렌즈가 깨지기 쉽고 염색이 잘되지 않는 등의 문제점이 있다.
티오우레탄계 렌즈와 티오에폭시계 렌즈가 갖는 문제점을 해결하기 위하여, 이들 두 종류의 서로 다른 성질의 수지를 공중합 하는 방법, 즉 티오에폭시 화합물과 폴리티올 화합물 및 폴리이소시아네이트 화합물을 공중합하는 방법이 대한민국 등록특허공보 10-0417985호, 일본 특허공개공보 특개평 11-292950 및 특개평 11-352302 등에서 제안되었다.
그러나, 티오에폭시 화합물과 폴리티올 화합물 및 폴리이소시아네이트 화합물을 공중합하는 공중합체 렌즈에서는, 몰드의 곡률반경이 큰 고돗수 렌즈((약 -6.00 도수 이상)의 제조 시 탈형전 미리 이형분리 등이 일어나면서 표면에 링 불량 현상이 나타나는 문제가 있다. 이러한 링불량 현상은, 여러 광학적 장점을 지닌 공중합체 렌즈의 품질을 저하시켜 안경렌즈로서의 적합성을 떨어뜨리고, 렌즈 수율을 저하시켜 생산비를 상승시키는 요인이 된다.
대한민국 등록특허공보 10-0417985 일본 공개특허공보 특개평 11-292950 일본 공개특허공보 특개평 11-352302
본 발명에서는, 티오에폭시 화합물, 폴리티올 화합물 및 폴리이소시아네이트 화합물을 공중합시켜 만든 고굴절 광학렌즈, 특히 몰드의 곡율반경이 큰 고돗수 렌즈(약 -6.00 도수 이상)에서 나타나는 표면 링 불량 현상을 해결하고자 한다. 본 발명의 목적은 표면 링 불량 현상을 최소화하고, 우수한 면 정밀도를 가진 공중합체 광학렌즈와 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 티오에폭시 화합물과 이소시아네이트 화합물 및 티올 화합물로부터 주형중합에 의해 공중합체를 형성하는 방법에 있어서 문제가 되는 표면 링 불량 현상을 집중 연구한 결과, 종래 폴리우레탄계 광학수지용 조성물에 주로 사용되어온 3개 이상의 티올기를 갖는 폴리티올 화합물을 사용하는 경우와 달리 2개의 티올기를 갖는 비스(2-메르캅토에틸)술피드를 사용한 경우에는 표면 링 불량 현상이 거의 나타나지 않는 것을 예기치 않게 알게 되었다. 이렇게 하여 얻어진 렌즈는 고돗수 렌즈에서도 표면 링 불량 현상이 거의 나타나지 않았으며 면 정밀도가 매우 우수한 것으로 확인되었다.
본 발명에서는,
티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 비스(2-메르캅토에틸)술피드를 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물이 제공된다. 본 발명의 공중합체 조성물은, 바람직하게는 내부이형제로 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르 화합물을 더 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 공중합체 조성물은 상기 비스(2-메르캅토에틸)술피드 외의 다른 폴리티올 화합물을 더 포함할 수 있으며, 반응성 수지개질제로 올레핀 화합물을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 상기 공중합체 조성물을 주형 중합시켜 얻어지는 고굴절 광학렌즈가 제공된다. 상기 광학렌즈는 특히 안경렌즈 또는 편광렌즈를 포함한다.
또한, 본 발명에서는, 상기 공중합체 조성물을 주형 중합시키는 고굴절 광학렌즈의 제조방법이 제공된다.
본 발명에서"고굴절" 또는 "고굴절률"은 특별히 한정하지 않는 한 고굴절과 1.67 이상의 초고굴절을 모두 포함하는 의미이다.
본 발명의 공중합체 조성물을 중합시킨 고굴절 광학렌즈는 고돗수 렌즈(약 -6.00 도수 이상)에서도 렌즈표면의 링 불량이 매우 적고, 면 정밀도가 우수하며, 높은 수율로 제조할 수 있다.
본 발명의 공중합체 조성물에서 티오에폭시 화합물은, 티오에폭시기를 갖는 에피술피드계의 화합물이다. 예를 들면, 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)술피드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 비스[4-(β-에피티오프로 필티오)시클로헥실]메탄, 2,2-비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]프로판, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]술피드 등의 지환족골격을 갖는 에피술피드 화합물; 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]술피드, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]술핀, 4,4-비스(β-에피티오프로필티오)비페닐등 방향족골격을 갖는 에피술피드 화합물; 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸)-1,4-디티안, 2,3,5-트리(β-에피티오프로필티오에틸)-1,4-디티안 등의 디티안사슬 골격을 갖는 에피술피드 화합물; 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-β-에피티오프로필티오에틸)티오]-3-(β-에피티오프로필티오)프로판, 테트라키스(β-에피티오프로필티오메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에피티오프로필티오메틸)프로판, 비스(β-에피티오프로필)설파이드, 비스(β-에피티오프로필)디설파이드 등의 지방족 골격을 갖는 에피술피드 화합물 등이다. 이외에도 티오에폭시 화합물로 에피술피드기를 가진 화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 폴리티올과의 프리폴리머형 변성체 등도 사용 가능하다.
티오에폭시 화합물로, 바람직하게는, 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)디술피드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 및 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판 중 1종 이상을 사용할 수 있다.
본 발명의 공중합체 조성물에서 폴리이소시아네이트 화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 이소시아소네이트 기 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이 사용될 수 있다. 예를 들어, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르 등의 지방족 이소시아네이트 화합물; 이소포론디이소시아네이트, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트 화합물; 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 디페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 비벤질-4,4'-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3'-디메톡시비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토에틸)술피드, 비스(이소시아네이토프로필)술피드, 비스(이소시아네이토헥실)술피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디술피드, 비스(이소시아네이토프로필)디술피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸- 3-티아펜탄 등의 함황 지방족 이소시아네이트 화합물; 디페닐술피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐술피드-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시-4,4'-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)술피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디술피드-4,4'-디이소시아네이트, 2,2'-디메틸디페닐디술피드-5,5'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐디술피드-5,5'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐디술피드-6,6'-디이소시아네이트, 4,4'-디메틸디페닐디술피드-5,5'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시디페닐디술피드-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디메톡시디페닐디술피드-3,3'-디이소시아네이트 등의 함황 방향족 이소시아네이트 화합물; 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등의 함황 복소환 이소시아네이트 화합물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물이 사용될 수 있다. 이외에도 최소한 1개 이상의 이소네이트 기 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합 사용할 수 있으며, 또한 이들 이소시아네이트 화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나, 다가 알코올 혹은 티올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체 혹은 다이머화, 트라이머화 반응 생성물 등도 사용 가능하다. 폴리이소시아네이트 화합물로, 바람직하게는, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트(H12MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄 중에서 선택된 1종 이상을 사용한다.
본 발명의 공중합체 조성물에는 폴리티올 화합물로 2개의 티올기를 갖는 비스(2-메르캅토에틸)술피드가 포함된다. 공중합체 수지에서 폴리티올로 종래에 주로 사용되어 3개 이상의 티올기를 갖는 폴리티올 화합물과 달리, 2개의 티올기를 갖는 비스(2-메르캅토에틸)술피드를 사용하여 공중합한 수지에서는 표면 링 불량 현상이 거의 나타나지 않았다. 또한, 본 발명의 공중합체 조성물은 비스(2-메르캅토에틸)술피드를 주요 폴리티올로 포함하면서 다른 폴리티올 화합물을 추가로 더 포함하는 것도 가능하다. 다른 폴리티올 화합물로는, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)술피드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디술피드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)디술피드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2 -비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올,(S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안 등을 사용할 수 있다. 이외에도 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한 폴리티올 화합물에 이소시아네이트나 티오에폭시 화합물, 티에탄 화합물 또는 수지개질제로 불포화 결합을 가진 화합물과의 예비중합에서 얻어진 중합 변성체도 사용이 가능하다.
본 발명의 공중합체 조성물은 특히 바람직하게는 내부이형제로 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르 화합물을 포함한다. 표면 링 불량 현상이 나타나는 주요 요인 중 하나는 중합 시 탈형전 미리 이형분리가 일어나면서 표면에 자국이 남아 링이 형성되는 것이다. 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르 화합물을 내부이형제로 사용할 경우 이렇게 미리 이형분리가 일어나는 문제를 해소할 수 있어 표면 링 불량 현상이 최소화된다. 내부이형제로, 바람직하게는 4-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PENPP[폴리옥시에틸렌 노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르 포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)], 4-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PPNPP[폴리옥시프로필렌 노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)] 및 Zelec UNTM 중에서 선택된 1종 이상을 사용한다. 이러한 인산에스테르 화합물의 할로겐 화합물 치환체를 비롯한 각종 치환체들도 같은 목적으로 사용이 가능하다.
본 발명의 공중합체 조성물은, 공중합체 광학수지의 광학적인 물성을 향상시키기 위해, 내충격성, 비중 및 모노머 점도 등을 조절하기 위한 목적으로 올레핀 화합물을 반응성 수지개질제로서 더 포함할 수 있다. 수지개질제로서 첨가할 수 있는 올레핀 화합물로는, 예를 들어, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시메틸메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시메틸메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 페녹시 에틸아크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜아크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 2,2-비스(4-아크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-아크록시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)프로판, 비스페놀 F 디아크릴레이트, 비스페놀 F 디메타크릴레이트, 1,1-비스(4-아크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-아크록시디에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)메탄, 디메티롤트리시클로데칸디아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리메타크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 메틸티오아크릴레이트, 메틸티오메타크릴레이트, 페닐티오아크릴레이트, 벤질티오메타크릴레이트, 크실리렌디티올디아크릴레이트, 크실리렌디티올디메타크릴레이트, 메르캅토에틸술피드디아크릴레이트, 메르캅토에틸술피드디메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트 화합물; 알릴글리시딜에테르, 디알릴프탈레이트, 디알릴테레프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 디알릴카보네이트, 디에틸렌글리콜비스알릴카보네이트 등의 알릴 화합물; 그리고 스티렌, 클로로스티렌, 메틸스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 디비닐벤젠, 3,9-디비닐스피로비(m-디옥산) 등의 비닐 화합물 등이 있다. 그러나 사용 가능한 화합물이 이들 예시 화합물로 제한되는 것은 아니다. 이들 올레핀 화합물은 단독, 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
본 발명의 공중합체 광학렌즈는 주형 중합을 통해 얻게 된다. 즉, 개스켓 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드 사이에, 본 발명의 공중합체 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 플라스틱 렌즈에 요구되는 물성에 따라, 또 필요에 따라, 감압 하에서의 탈포처리나 가압, 감압 등의 여과처리 등을 실시하는 것이 바람직한 경우가 많다. 중합은, 공중합체 조성물, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 의해 조건이 크게 달라지게 되므로, 한정되는 것은 아니지만 약 -50~150℃의 온도에서 1~50시간에 걸쳐 실시된다. 경우에 따라서는, 10~150℃의 온도범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 1~48 시간에서 경화시키는 것이 바람직하다.
경화로 얻어진 티오에폭시 화합물과 이소시아네이트 화합물 및 티올 화합물 공중합체는, 필요에 따라, 어닐링 등의 처리를 실시해도 좋다. 처리 온도는 통상 50~150℃의 사이에서 행해지며, 90~140℃에서 실시하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물은 바람직하게는, 내부이형제로 인산에스테르 화합물을 첨가하여 주형 중합시킨다. 인산에스테르 화합물에 대한 설명은 위와 동일하다. 또한, 중합 시 목적에 따라 공지의 성형법과 마찬가지로 쇄연장제, 가교제, 광안정제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 착색방지제, 유용염료, 충전제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 첨가제를 가해도 좋다. 특히 사용되는 촉매가 중요한 역활을 하는데, 촉매의 종류는 에폭시 경화제들이 주로 사용되나, 강한 아민류는 이소시아네이트 반응을 격렬하게 하므로 그 사용에 주의를 요한다. 본 발명에서는 주로 아민의산염류, 포스포늄염류, 포스핀류 및 전자흡인기를 지니지 않는 3차아민류, 루이스산류, 라디칼개시제등이 주로 사용되며, 촉매의 종류와 량은 경우에 따라 달라질 수 있다.
본 발명의 공중합체 수지는, 주형 중합 시의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지 형상의 성형체로 얻을 수 있어, 안경 렌즈, 편광렌즈, 카메라 렌즈 등의 각종 광학렌즈로 사용하는 것이 가능하다.
본 발명의 공중합체 수지를 사용한 플라스틱 렌즈는 필요에 따라, 단면 또는 양면에 코팅층을 실시하여 사용해도 좋다. 코팅층으로서는, 프라이머층, 하드코트층, 반사방지막층, 방담코트막층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 형성하거나 복수의 코팅층을 다층으로 형성하여 사용해도 좋다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 실시해도, 상이한 코팅층을 실시해도 좋다.
본 발명에 따라 얻어진 티오에폭시 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 주형중합하여 얻은 광학렌즈는 렌즈표면의 표면 링 불량이 매우 적고 면 정밀도가 우수하며, 또한 높은 수율로 용이하게 제조할 수 있다.
[실시예]
이하 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
시험 및 평가방법
표면 링 불량 : 이형 분리시 미리 분리되어 있지 않고, 표면상태가 USHIO USH-102D인 수은 아크 램프(Mercury Arc Lamp)를 조사하여 렌즈 중심부를 중심으로 링 모양의 불량 현상이 없으면 '○'(표면 링 불량 없음), 반대로 이형 분리시 미리 떨어져 있거나 표면상태가 USHIO USH-102D인 수은 아크 램프(Mercury Arc Lamp)를 조사하여 렌즈 중심부를 중심으로 링 모양의 불량 현상이 있으면 '×'(표면 링 불량 있음)로 표시하였다.
굴절율(nE), 아베수 : Atago 사의 IT 및 DR-M4 모델인 아베굴절계를 이용하여 20℃에서 측정하였다.
[실시예 1]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)술피드 89g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 5g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 6g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.2g, 트리페닐포스핀 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 만들었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.697, 아베수 35 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면 링 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, -7.00 도수 이상의 고돗수에서도 안정한 품질의 수지가 얻어졌다.
[실시예 2]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드 89g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 5g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 6g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.2g, 트리페닐포스핀 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 만들었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.738, 아베수 34 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면 링 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, -7.00 도수 이상의 고돗수에서도 안정한 품질의 수지가 얻어졌다.
[실시예 3]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)술피드 60g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 20g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 20g, 내부이형제로 인산에스테르인 Zelec UNTM 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.05g, 트리페닐포스핀 0.05g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 만들었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.666, 아베수 36 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면 링 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, -7.00 도수 이상의 고돗수에서도 안정한 품질의 수지가 얻어졌다.
[실시예 4]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드 60g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 20g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 20g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.05g, 트리페닐포스핀 0.05g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 만들었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.692, 아베수 35 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면 링 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, -7.00 도수 이상의 고돗수에서도 안정한 품질의 수지가 얻어졌다.
[실시예 5]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드 89g, 이소시아네이트 화합물로서 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트(H12MDI) 5g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 6g, 내부이형제로 인산에스테르인 12-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.05g, 트리페닐포스핀 0.05g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 만들었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.695, 아베수 35 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면 링 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, -7.00 도수 이상의 고돗수에서도 안정한 품질의 수지가 얻어졌다.
[실시예 6]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)술피드 89g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 5g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 5g 및 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 1g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.2g, 트리페닐포스핀 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 만들었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.702, 아베수 35 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면 링 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, -7.00 도수 이상의 고돗수에서도 안정한 품질의 수지가 얻어졌다.
[비교예 1]
티오에폭시 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)술피드 89g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 5g, 티올 화합물로서 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판 6g를 사용하는 공중합체 조성물인 것외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호하였으나 -7.00돗수 이상의 고돗수에서 탈형전 미리 분리가 되어 있었으며, 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.697, 아베수 35로 비슷하였으나, 아닐링 후에도 표면 링 불량 현상이 사라지지 않았다. 고돗수렌즈에서는 안정한 품질의 렌즈를 얻어지지 않았다.
[비교예 2~4]
아래 표 1의 조성과 같이 사용하는 것 외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호하였으나 -7.00돗수 이상의 고돗수에서 미리 분리가 되어 있었으며, 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 그러나, 아닐링 후에도 표면 링 불량 현상이 사라지지 않았다. 고돗수렌즈에서는 안정한 품질의 렌즈를 얻어지지 않았다.
상기 실시예 및 비교예의 수지 조성 및 결과를 아래 표 1에 정리하였다.
Figure pat00001
약어
HOPBT:2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 (2-(2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl)-2H-benzotriazole)
HTQA: 1-히드록시-4-(p-톨루딘)-엔트로퀴논 (1-hydroxy-4-(p-toluidine)anthraquinone
PRD: 퍼리논 염료(perinone dye)
EPDS: 비스(2,3-에피티오프로필)술피드
EDPDS: 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드
IPDI : 이소포론디이소시아네이트
BMES : 비스(2-메르캅토에틸)술피드
DMTMP: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올
8-PENPP: 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)
12-PENPP: 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)
8-PPNPP: 폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)
Zelec UNTM: Srepan 사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물로 상품명 Zelec UNTM
DOP: 디옥틸산포스페이트
본 발명에 따르면 고굴절의 고돗수 렌즈에서도 렌즈표면의 링 불량이 매우 적고 면 정밀도가 우수한 티오에폭시계 광학재료를 높은 렌즈수율로 제조할 수 있다. 본 발명에 따라 제조된 광학렌즈는 기존 광학렌즈를 대체하여 다양한 분야에서 널리 이용될 수 있으며, 구체적으로 안경 렌즈, 편광렌즈, 카메라 렌즈 등으로 이용될 수 있다.

Claims (11)

  1. 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 비스(2-메르캅토에틸)술피드를 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 4-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르 포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)], 4-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PPNPP[폴리옥시프로필렌 노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)] 및 Zelec UNTM으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상의 인산에스테르 화합물을 내부이형제로 더 포함하는 공중합체 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 티오에폭시 화합물이 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, (2,3-에피티오프로필)(2,3-에피티오프로필)술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)디술피드, 1,3- 및 1,4-비스(β에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3- 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 및 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 공중합체 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리이소시아네이트 화합물이 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 공중합체 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 비스(2-메르캅토에틸)술피드 외의 다른 폴리티올 화합물을 더 포함하는 공중합체 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 상기 다른 폴리티올 화합물이, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)술피드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디술피드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)디술피드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2 -비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올,(S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 공중합체 조성물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응성 수지개질제로 올레핀 화합물을 더 포함하는 공중합체 조성물.
  8. 제1항 또는 제2항의 공중합체 조성물을 주형 중합시켜 얻어지는 고굴절 광학렌즈.
  9. 제8항에서 있어서, 상기 광학렌즈는 안경렌즈 또는 편광렌즈인 고굴절 광학렌즈.
  10. 제1항 또는 제2항의 공중합체 조성물을 주형 중합시키는 고굴절 광학렌즈의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 공중합체 조성물에 내부이형제로 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르 화합물을 첨가하여 주형 중합시키며,
    상기 인산에스테르 화합물은, 4-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PENPP[폴리옥시에티렌노닐페놀에테프소프페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PENPP폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%), 20-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)], 4-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PPNPP[폴리옥시프로필렌 노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)] 및 Zelec UNTM 으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절 광학렌즈의 제조방법.
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