KR20160100422A - 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물 - Google Patents

광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20160100422A
KR20160100422A KR1020150021983A KR20150021983A KR20160100422A KR 20160100422 A KR20160100422 A KR 20160100422A KR 1020150021983 A KR1020150021983 A KR 1020150021983A KR 20150021983 A KR20150021983 A KR 20150021983A KR 20160100422 A KR20160100422 A KR 20160100422A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bis
compound
thioepoxy
optical material
sulfide
Prior art date
Application number
KR1020150021983A
Other languages
English (en)
Inventor
장동규
노수균
Original Assignee
주식회사 케이오씨솔루션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이오씨솔루션 filed Critical 주식회사 케이오씨솔루션
Priority to KR1020150021983A priority Critical patent/KR20160100422A/ko
Publication of KR20160100422A publication Critical patent/KR20160100422A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D331/00—Heterocyclic compounds containing rings of less than five members, having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D331/02—Three-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

본 발명은 색상이 좋고 맑으며 백탁이 없는 고품질의 광학재료를 얻을 수 있는 티오에폭시 화합물과 이를 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물에 관한 것이다. 본 발명에서는, 에피클로로히드린 화합물을 출발물질로 하는 티오에폭시 화합물의 제조방법에 있어서, 상기 에피클로로히드린 화합물 중 아크로레인(acrolein), 아릴클로라이드(allylchloride), 1,2-디클로로프로판, 2,3-디클로로프로펜 등으로 구성된 특정불순물의 총 함량이 1중량% 이하인 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법이 제공된다. 본 발명에서는 에피클로로히드린 화합물 중의 특정 불순물의 함량을 조절함으로써 착색이 적은 티오에폭시 화합물을 얻을 수 있으며, 또한 이렇게 얻어진 티오에폭시 화합물을 이용하여 색상이 좋고 백탁이 없는 맑고 투명한 고품질의 티오에폭시계 광학재료를 얻을 수 있다. 본 발명에 따라 얻어진 티오에폭시계 광학재료는 교정용 렌즈, 썬글라스용 렌즈, 패션렌즈, 변색렌즈, 카메라렌즈, 광학 장치용 렌즈 등으로 유용하게 사용될 수 있다.

Description

광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물 {Method of Producing Thioepoxy Compound for Optical Material and Polymerizable Composition for Thioepoxy based Optical Material Comprising the Compound}
본 발명은 티오에폭시계 광학재료에 관한 것으로, 특히 색상이 좋고 맑으며 백탁이 없는 고품질의 광학재료를 얻을 수 있는 티오에폭시 화합물과 이를 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물에 관한 것이다.
안경 등의 광학렌즈에 사용되는 플라스틱 광학재료는, 무기 재료로 이루어지는 광학재료에 비해 가볍고 쉽게 깨지지 않으며, 염색이 가능하다. 최근에는 다양한 수지의 플라스틱 재료들이 광학재료에 이용되고 있으며 그 요구 물성 또한 날로 높아지고 있다.
한국특허공고 1993-0006918호 및 1992-0005708호 등에서는 폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시킨 티오우레탄계 렌즈를 제안하고 있다. 또한 한국등록특허 10-0681218호에서는 티오에폭시계 플라스틱 렌즈를 제안하고 있다. 종래기술 중 티오우레탄계 렌즈는 고굴절이고 충격강도가 우수한 장점이 있으나 렌즈 표면이 무르다는 단점과 중심함몰 등의 문제가 있고 또한 굴절율이 높아지면 아베수가 급격히 낮아지는 문제점이 있다. 티오에폭시계 렌즈는 고굴절률이면서도 고아베수를 갖는 우수한 성질이 있으나 렌즈가 깨지기 쉽고 염색이 잘되지 않는 등의 문제점이 있다. 이런 문제점을 해결하기 위해 이들 두 종류의 서로 다른 성질의 수지를 공중합하는 방법, 즉 티오에폭시 화합물과 폴리티올 화합물 및 폴리이소시아네이트 화합물을 공중합하는 방법이 한국특허 등록 10-0417985호, 일본특허 공개 평11-352302 등에서 제안되었다.
그러나 티오에폭시 화합물을 주요 모노머 성분으로 포함하는 티오에폭시계 렌즈에서는 종종 렌즈의 색상이 불안정한 경우가 있으며, 렌즈가 맑지 못하고 렌즈 전체가 뿌연 현상이 나타나는 경우가 있다. 한국등록특허 10-0681218호에서는 티오에폭시 화합물의 제조 과정에서 에폭시 화합물이 티오에폭시 화합물로 변환되는 과정의 순도, 즉 변환되는 과정에서 부반응으로 발생하는 불순물의 함유량이 렌즈 색상에 영향을 미치는 원인임을 밝히고, 이러한 불순물의 함유량을 줄인 중합성 조성물과 줄이는 방법을 개시하고 있다.
대한민국 등록특허공보 10-0417985 일본 공개특허공보 특개평 11-352302 대한민국 등록특허공보 10-0681218
본 발명은 티오에폭시 화합물을 주요 모노머 성분으로 포함하는 티오에폭시계 렌즈에서 나타나는 렌즈의 색상 불안정과 렌즈가 맑지 않고 뿌옇게 되는 문제를 해결하고자 하는 것이다. 본 발명자들은 티오에폭시 화합물의 착색에 영향을 미칠 수 있는 많은 요인을 검토 연구한 결과, 합성 출발물질로 사용되는 에피클로로히드린 화합물에 함유되어 있는 특정 불순물의 함량이 티오에폭시 화합물의 착색에 직접적인 영향을 미치는 것을 알게 되었다. 본 발명은, 티오에폭시 화합물의 제조원료인 에피클로로히드린 화합물 중의 특정 불순물의 함량을 조절하는 것에 의해 착색이 적은 티오에폭시 화합물을 얻을 수 있고, 이렇게 얻은 티오에폭시 화합물로 렌즈를 제조할 경우 색상이 좋고 맑고 투명한 고품질의 티오에폭시계 광학재료를 얻을 수 있음을 확인하고 완성한 것이다. 본 발명의 목적은, 색상이 좋고 맑으며 백탁이 없는 고품질의 광학재료를 얻을 수 있는 티오에폭시 화합물과 이를 포함하는 광학재료용 중합성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명에서는,
에피클로로히드린 화합물을 출발물질로 하는 티오에폭시 화합물의 제조방법에 있어서,
상기 에피클로로히드린 화합물은 아크로레인(acrolein), 아릴클로라이드(allylchloride), 1,2-디클로로프로판, 2,3-디클로로프로펜, 2-메틸-2-펜탄올, 2-클로로아릴알코올, 시스-1,3-디클로로프로펜, 트란스-1,3-디클로로프로펜, 1,3-디클로로이소판올, 1,2,3-트리클로로프로판 및 2,3-디클로로프로판올로 구성된 불순물의 총 함량이 1중량% 이하인 것을 특징으로 하는 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법이 제공된다.
또한, 본 발명에서는,
상기와 같이 제조된 티오에폭시 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물이 제공된다. 상기 중합성 조성물은, 폴리티올 화합물 및/또는 폴리이소시아네이트 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 중합성 조성물은 반응성 수지개질제로 올레핀 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 중합성 조성물은 내부이형제를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에서는,
상기 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물을 중합시키는 티오에폭시계 광학재료의 제조방법이 제공된다.
또한, 본 발명에서는,
상기 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물을 중합시켜 얻은 티오에폭시계 광학재료와 이 광학재료로 이루어진 광학렌즈가 제공된다.
본 발명에서는 티오에폭시 화합물의 제조원료인 에피클로로히드린 화합물 중의 특정 불순물의 함량을 조절함으로써 착색이 적은 티오에폭시 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 이렇게 얻어진 티오에폭시 화합물을 이용하여 색상이 좋고 백탁이 없는 맑고 투명한 고품질의 티오에폭시계 광학재료를 얻을 수 있다. 본 발명에 따라 얻어진 티오에폭시계 광학재료는 교정용 렌즈, 썬글라스용 렌즈, 패션렌즈, 변색렌즈, 카메라렌즈, 광학 장치용 렌즈 등으로 유용하게 사용될 수 있다.
본 발명에서 티오에폭시 화합물은 에피클로로히드린 화합물을 출발물질로 하는 공지의 제조방법으로 제조된다. 본 발명은 출발물질로 사용하는 에피클로로히드린 화합물 중의 특정 불순물의 함량을 조절함으로써 착색이 적은 티오에폭시 화합물을 얻는다. 에피클로로히드린 화합물 중의 특정 불순물은, 아크로레인(acrolein), 아릴클로라이드(allylchloride), 1,2-디클로로프로판, 2,3-디클로로프로펜, 2-메틸-2-펜탄올, 2-클로로아릴알코올, 시스-1,3-디클로로프로펜, 트란스-1,3-디클로로프로펜, 1,3-디클로로이소판올, 1,2,3-트리클로로프로판 및 2,3-디클로로프로판올로 구성되며, 이들 불순물을 모두 포함한 총 함량이 에피클로로히드린 화합물 중 1중량% 이하일 때 착색이 억제된, 좋은 색상의 티오에폭시 화합물을 얻을 수 있다.
본 발명에 따라 얻어지는 티오에폭시 화합물은, 예를 들어, 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)술피드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]메탄, 2,2-비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]프로판, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]술피드 등의 지환족골격을 갖는 에피술피드화합물; 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]술피드, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]술핀, 4,4-비스(β-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족골격을 갖는 에피술피드화합물; 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸)-1,4-디티안, 2,3,5-트리(β-에피티오프로필티오에틸)-1,4-디티안 등의 디티안사슬 골격을 갖는 에피술피드화합물; 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-β-에피티오프로필티오에틸)티오]-3-(β-에피티오프로필티오)프로판, 테트라키스(β-에피티오프로필티오메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에피티오프로필티오메틸)프로판, 비스-(β-에피티오프로필)술피드 등의 지방족 골격을 갖는 에피술피드화합물 등이 될 수 있다. 이외에도 티오에폭시 화합물은, 에피술피드기를 가진 화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 폴리티올과의 프리폴리머형 변성체 등이 될 수 있다.
상기 티오에폭시 화합물은, 바람직하게는, 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)술피드, 2,3-에피디티오프로필(2,3-에피티오프로필)디술피드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판 중 어느 하나가 될 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물은 상기와 같이 제조된 티오에폭시 화합물을 포함한다.
본 발명의 중합성 조성물은 폴리티올 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 폴리티올 화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는, 비스(2-메르캅토에틸)술피드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)술피드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디술피드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)디술피드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2 -비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올, (S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 이외에도 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 폴리티올 화합물에 이소시아네이트나 티오에폭시 화합물, 티에탄 화합물 또는 수지개질제로 불포화결합을 가진 화합물과의 예비중합에서 얻어진 중합 변성체도 사용 가능하다.
폴리티올 화합물로, 특히 바람직하게는, 비스(2-메르캅토에틸)술피드 및/또는 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드에 다른 폴리티올 화합물을 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물은 폴리이소시아네이트 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 폴리이소시아네이트 화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 이소시아네이트 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이 사용될 수 있다. 예를 들어, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르 등의 지방족 이소시아네이트 화합물; 이소포론디이소시아네이트, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트 화합물; 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토에틸)술피드, 비스(이소시아네이토프로필)술피드, 비스(이소시아네이토헥실)술피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디술피드, 비스(이소시아네이토프로필)디술피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄 등의 함황 지방족 이소시아네이트 화합물; 디페닐술피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐술피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)술피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디술피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디술피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디술피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디술피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디술피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시 디페닐디술피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디술피드-3,3-디이소시아네이트 등의 함황 방향족 이소시아네이트 화합물; 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등의 함황 복소환 이소시아네이트 화합물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상이 사용될 수 있다. 이외에도 최소한 1개 이상의 이소시아네이트 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있으며, 또한 이들 이소시아네이트 화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나, 다가 알코올 혹은 티올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체 혹은 다이머화, 트라이머화 반응 생성물 등도 사용 가능하다.
폴리이소시아네이트 화합물로, 바람직하게는, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트(H12MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물은 내부이형제를 더 포함할 수 있으며, 바람직하게는 내부이형제로 인산에스테르 화합물을 포함한다. 인산에스테르는 포스포러스펜톡사이드(P2O5)에 2~3몰의 알코올 화합물을 부가하여 제조하는데 이때 사용하는 알코올 종류에 따라 여러 가지 형태의 인산에스테르 화합물이 있을 수 있다. 대표적인 것으로는 지방족 알코올에 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가되거나 노닐페놀기 등에 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 종류들이다. 본 발명의 중합성 조성물에, 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르 화합물이 내부이형제로 포함될 경우, 이형성이 좋고 품질이 우수한 광학재료를 얻을 수 있어 바람직하다. 본 발명의 조성물은, 내부이형제로, 바람직하게는, 4-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PENPP[폴리옥시에틸렌 노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르 포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 78중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)], 4-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PPNPP[폴리옥시프로필렌 노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 78중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%)] 및 Zelec UNTM 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 이러한 인산에스테르 화합물의 할로겐화합물 치환체를 비롯한 각종 치환체들도 같은 목적으로 사용될 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물은, 공중합체 광학수지(광학재료)의 광학적인 물성을 향상시키기 위해, 내충격성, 비중 및 모노머 점도 등을 조절하는 목적으로 올레핀 화합물을 반응성 수지개질제로 더 포함할 수 있다. 수지개질제로서 첨가할 수 있는 올레핀 화합물로는, 예를 들어, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시메틸메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시메틸메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 페녹시 에틸아크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜아크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 2,2-비스(4-아크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-아크록시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)프로판, 비스페놀 F 디아크릴레이트, 비스페놀 F 디메타크릴레이트, 1,1-비스(4-아크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-아크록시디에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)메탄, 디메티롤트리시클로데칸디아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리메타크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 메틸티오아크릴레이트, 메틸티오메타크릴레이트, 페닐티오아크릴레이트, 벤질티오메타크릴레이트, 크실리렌디티올디아크릴레이트, 크실리렌디티올디메타크릴레이트, 메르캅토에틸술피드디아크릴레이트, 메르캅토에틸술피드디메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트 화합물 및, 알릴글리시딜에테르, 디알릴프탈레이트, 디알릴테레프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 디알릴카보네이트, 디에틸렌글리콜비스알릴카보네이트 등의 알릴 화합물 및 스티렌, 클로로스티렌, 메틸스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 디비닐벤젠, 3,9-디비닐스피로비(m-디옥산) 등의 비닐 화합물 등이 있으나, 사용 가능한 화합물이 이들 예시 화합물로 제한되는 것은 아니다. 이들 올레핀 화합물은 단독, 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
본 발명의 광학재료는 주형 중합을 통해 얻게 된다. 즉, 개스켓 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드 사이에, 본 발명의 중합성 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 플라스틱 렌즈에 요구되는 물성에 따라, 또 필요에 따라, 감압 하에서의 탈포처리나 가압, 감압 등의 여과처리 등을 실시하는 것이 바람직한 경우가 많다. 중합조건은, 중합성 조성물, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 의해서 크게 조건이 달라지기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 약 -50~150℃의 온도에서 1~50시간에 걸쳐 실시된다. 경우에 따라서는, 10~150℃의 온도범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 1~48 시간에서 경화시키는 것이 바람직하다.
경화로 얻어진 티오에폭시 화합물과 이소시아네이트 화합물 및 티올 화합물 공중합체는, 필요에 따라, 어닐링 등의 처리를 실시해도 좋다. 처리 온도는 통상 50~150℃의 사이에서 행해지며, 90~140℃에서 실시하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물은 바람직하게는, 내부이형제로 인산에스테르 화합물을 첨가하여 주형 중합시킨다. 인산에스테르 화합물에 대한 설명은 위와 동일하다. 또한, 중합 시 목적에 따라 공지의 성형법과 마찬가지로 쇄연장제, 가교제, 광안정제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 착색 방지제, 유용염료, 충전제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 첨가제를 가해도 좋다. 특히 사용되는 촉매가 중요한 역할을 하는데, 그 촉매의 종류는 에폭시 경화제들이 주로 사용되나, 강한 아민류는 이소시아네이트 반응을 격렬하게 하므로 그 사용에 주의를 요한다. 본 발명에서는 주로 아민의산염류, 포스포늄염류, 포스핀류 및 전자흡인기를 지니지 않는 3차아민류, 루이스산류, 라디칼개시제 등이 주로 사용되며, 촉매의 종류와 양은 경우에 따라 달라질 수 있다.
본 발명의 공중합체 수지는, 주형 중합 시의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지의 형상의 성형체로 얻을 수 있어, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드(LED) 등의 각종 광학재료로 사용하는 것이 가능하다. 특히, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드 등의 광학재료, 광학소자로서 적합하다.
본 발명의 공중합체 수지를 사용한 플라스틱 렌즈는 필요에 따라, 단면 또는 양면에 코팅층을 형성하여 사용해도 좋다. 상기 코팅층은, 프라이머층, 하드코트층, 반사방지막층, 방담코트막층, 방오염층, 발수층 등이 될 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 형성하는 것도 가능하고 복수로 형성하여 코팅층을 다층화하는 것도 좋다. 양면에 코팅층을 형성하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 형성하는 것과 상이한 코팅층을 형성하는 것 모두 좋다.
[ 실시예 ]
실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
시험 및 평가방법
티오에폭시 화합물의 APHA: APHA는 Hunterlab사의 ColorQuest XE를 이용하여 측정하였다. 투과길이는 1㎝인 석영 Cell에 시료를 넣고 측정하였으며, 이미 백금과 코발트의 시약을 용해하여 조제한 표준액의 농도를 데이터화하여 내장된 프로그램과 시료 액의 비교에서 얻어진 APHA 값을 측정치로 하였다. 측정한 값이 작을수록 색상이 양호하다.
안경렌즈의 APHA: Hunterlab사의 ColorQuest XE를 이용하여 플라스틱 안경렌즈를 넣고 직접 측정하였다. 이미 백금과 코발트의 시약을 용해하여 조제한 표준액의 농도를 데이터화하여 내장된 프로그램과 시료 액의 비교에서 얻어진 APHA 값을 측정치로 하였다. 측정한 값이 작을수록 색상이 양호하다.
백탁: 중합 후 탈형한 안경렌즈를 USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래 육안으로 관찰하였다. 안경렌즈의 탁함이 전혀 없으면 ○으로 표시하고, 탁함이 아주 미약하면 △으로 표시하고, 탁함이 약하면 X으로 표시하고, 탁함이 보통이면 XX으로 표시하고, 탁함이 심하면 XXX로 표시하였다.
굴절율(nE), 아베수 : Atago 사의 IT 및 DR-M4 모델인 아베굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.
[합성예 1] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 1)
10리터의 반응기에 에피클로로히드린 (5563g, 60.12 mol) 및 메탄올 (2500g)을 첨가하고 반응온도를 6℃에 맞추고 반응온도가 6℃에 도달했을 때 가성소다 (50% aq, 5g)를 첨가한다. 또 다른 10리터의 반응기에 NaSH.xH2O(70% NaSH, 3660g, 45.75 mol), 메탄올(1000g) 및 물(500g)을 첨가하고 교반하여 완전히 녹이고, 염산을 천천히 적가하여 발생한 황화수소 가스를 에피클로로히드린 용액에 첨가하여 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 얻는다. 반응에서 사용한 에피클로로히드린 화합물은 아크로레인(acrolein), 아릴클로라이드(allylchloride), 1,2-디클로로프로판, 2,3-디클로로프로펜, 2-메틸-2-펜탄올, 2-클로로아릴알코올, 시스-1,3-디클로로프로펜, 트란스-1,3-디클로로프로펜, 1,3-디클로로이소판올, 1,2,3-트리클로로프로판 및 2,3-디클로로프로판올로 구성된 불순물(이하 “특정불순물”이라고 함)의 총 함량이 0.1중량% 이하인 순도가 99.9%이었다. 반응의 종결은 최종생성물을 GC로 확인하며 에피클로로히드린과 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올 화합물이 반응하여 1% 미만으로 거의 없어지고, 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드가 생성되는 시점을 반응의 종결로 하였다. 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올이 존재하면 GC로 상대적 적분비를 함량으로 계산하여 에피클로로히드린을 첨가하여 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드(BCPS)를 합성하였다. 생성물은 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[합성예 2] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 2)
에피클로로히드린에 포함된 특정불순물의 총함량이 0.3중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[합성예 3] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 3)
에피클로로히드린에 포함된 특정불순물의 총함량이 0.5중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[합성예 4] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 4)
에피클로로히드린에 포함된 특정불순물의 총함량이 0.8중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[합성예 5] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-1)
10리터의 반응용기에 비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 1)(1072.48g, 4.89 mol), 톨루엔 1300g, 메탄올 800g을 넣고 교반하면서 반응온도를 15℃에 맞춘다. 15℃에서 도달했을 때 NaOH(50% aq., 783.08g, 9.78 mol)를 적가하고 적가시 반응온도는 20℃ 부근에서 반응시켰고, 이 온도를 유지하면서 반응시킨다. 적가는 1시간 이내로 하며 숙성은 25℃에서 약 30분 동안 행하고 숙성이 끝나면 톨루엔 2000g를 첨가하여 약 10분간 교반하고 층분리하여 상층액인 유기층을 물로 4회 세척하고 물을 최대한 제거하고 유기층인 유기용액을 메탄올 400g을 더 첨가하여 교반하고 반응온도 10℃에서 티오우레아(1289.48g, 16.94 mol) 및 무수초산(70g)을 첨가하고 반응온도를 18℃로 올려 18시간 동안 반응시킨다. 반응의 종결은 HPLC로 확인하여 출발물질이 거의 사라지고 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)술피드화합물이 GC분석에서 8%의 함량일 때, 반응을 종결하여 교반을 중지하고 층분리에서 얻은 유기층을 물로 여러 번 세척하여 맑은 용액이 나올 때까지 행하였으며, 유기용매를 제거하여 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 698g 얻었다. APHA는 12이었고, 굴절률 (nD, 20℃)은 1.618 이었다.
[합성예 6] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-2)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 2)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 695g 얻었고, APHA는 14이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.618 이었다.
[합성예 7] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-3)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 3)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 693g 얻었고, APHA는 16이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.618 이었다.
[합성예 8] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-4)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 4)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 692g 얻었고, APHA는 17이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.618 이었다.
[합성예 9] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-5)
10리터의 반응용기에 비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCP 1)(1072.48g, 8.47 mol), 톨루엔 1300g, 메탄올 800g을 넣고 교반하면서 반응온도를 15℃에 맞춘다. 15℃에서 도달했을 때 NaOH(50% aq., 783.08g, 9.78 mol)를 적가하고 적가시 반응온도는 25℃ 미만의 온도를 유지하면서 반응시킨다. 적가는 1시간 이내로 하며 숙성은 25℃에서 약 2시간 동안 행하고 숙성이 끝나면 톨루엔 2000g을 첨가하여 약 10분간 교반하고 층분리하여 상층액인 유기층을 물로 4회 세척하고 물을 최대한 제거하고 유기층인 유기용액을 메탄올 400g를 더 첨가하여 교반하고 반응온도 8℃에서 티오우레아(1290.65g, 16.96 mol) 및 무수초산(70g)을 첨가하고 반응온도를 18℃로 올려 18시간 동안 반응시킨다. 반응의 종결은 HPLC로 확인하여 출발물질이 거의 사라지고 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)술피드화합물이 GC분석에서 2%의 함량이 포함될 때, 반응을 종결하여 교반을 중지하고 층분리에서 얻은 유기층을 물로 여러 번 세척하고 맑은 용액이 얻어질 때 행하였으며, 유기용매를 제거하여 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 718g을 얻었다. APHA는 14이었고, 굴절률 (nD, 20℃)은 1.624 이었다.
[합성예 10] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-6)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 2)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 714g 얻었고, APHA는 15이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.622 이었다.
[합성예 11] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-7)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 3)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 711g 얻었고, APHA는 18이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.621 이었다.
[합성예 12] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-8)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 4)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 710g 얻었고, APHA는 20이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.620 이었다.
[합성예 13] 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드(BEPDS 1)의 합성
10리터의 반응기에 에피클로로히드린 (5563g, 60.12 mol) 및 메탄올 (5000g)을 첨가하고 반응온도를 5℃에 맞추고 반응온도가 5℃에 도달했을 때 가성소다 (50% aq, 5g)를 첨가한다. 또 다른 10리터의 반응기에 NaSH.xH2O(70% NaSH, 3660g, 45.75 mol), 메탄올(1000g) 및 물(500g)을 첨가하고 교반하여 완전히 녹이고, 염산을 천천히 적가하여 발생한 황화수소 가스를 에피클로로히드린 용액에 첨가하여 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올을 얻는다. 반응에서 사용한 에피클로로히드린 화합물은 아크로레인(acrolein), 아릴클로라이드(allylchloride), 1,2-디클로로프로판, 2,3-디클로로프로펜, 2-메틸-2-펜탄올, 2-클로로아릴알코올, 시스-1,3-디클로로프로펜, 트란스-1,3-디클로로프로펜, 1,3-디클로로이소판올, 1,2,3-트리클로로프로판 및 2,3-디클로로프로판올로 구성된 불순물의 총 함량이 0.1 중량% 이하인 순도가 99.9%이었다. 최종생성물을 GC로 확인하여 에피클로로히드린이 완전히 사라지고, 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올 화합물이 생성될 때 반응을 종결하였다. 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올은 감압증류하여 6550g을 얻었다. 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올(1500g, 11.84 mol), 메탄올 1500g 및 25% 암모니아수 1g을 반응기에 넣고, 10℃로 온도를 내리고, 35% 과산화수소(575.61g, 5.92 mol)를 천천히 적가하여 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)디술피드(BCPDS 1)를 얻었고, 이 반응용액에 톨루엔 1300g, 메탄올 800g을 첨가하고 교반하면서 반응온도를 15℃에 맞춘다. 15℃에서 도달했을 때 NaOH(50% aq., 948g, 11.85 mol)를 적가하고 적가시 반응온도는 20~25℃에서 행하고, 이 온도를 유지하면서 반응시킨다. 적가는 1시간 이내로 하며 숙성은 25℃에서 약 2시간 동안 행하고 숙성이 끝나면 톨루엔 2000g를 첨가하여 약 10분간 교반하고 층분리하여 상층액인 유기층을 물로 2회 세척하고 물을 최대한 제거하고 유기층인 유기용액을 메탄올 400g을 더 첨가하여 교반하고 반응온도 8℃에서 티오우레아(1117.65g, 14.30 mol) 및 무수초산(70g)을 첨가하고 반응온도를 18℃로 올려 18시간 동안 반응시킨다. 반응의 종결은 HPLC로 확인하여 출발물질이 거의 사라지고 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드화합물이 GC분석에서 2% 미만의 함량이 포함될 때, 반응을 종결하여 교반을 중지하고 층분리에서 얻은 유기층을 물로 여러 번 세척하여 물층이 맑게 나올 때까지 세척하고, 유기용매를 제거하여 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드(BEPDS 1)를 872g얻었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.648 이었다.
[합성예 14] 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드(BEPDS 2)의 합성
에피클로로히드린에 포함한 특정불순물의 총함량이 0.5중량%인 에피클로로히드린를 이용한 것 이외에는, 합성예 13과 동일한 방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드를 합성하였다. 생성물은 871g 얻었고, 굴절률 (nD, 20℃)은 1.647 이었다.
[비교합성예 1] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 5)
에피클로로히드린에 포함한 특정불순물의 총함량이 1.2중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 합성예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[비교합성예 2] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 6)
에피클로로히드린에 포함한 특정불순물의 총함량이 1.5중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 합성예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[비교합성예 3] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 7)
에피클로로히드린에 포함한 특정불순물의 총함량이 1.7중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 합성예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 거의 무색투명하며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[비교합성예 4] 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드의 합성 (BCPS 8)
에피클로로히드린에 포함한 특정불순물의 총함량이 2.0중량%인 에피클로로히드린을 이용한 것 이외에는, 합성예 1과 동일한 방법으로 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 미약한 색이 있으며, 수율은 정량적으로 얻었다.
[비교합성예 5] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-9)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 5)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 696g 얻었고, APHA는 25이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.619 이었다.
[비교합성예 6] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-10)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 6)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 694g 얻었고, APHA는 27이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.618 이었다.
[비교합성예 7] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-11)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 7)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 691g 얻었고, APHA는 28이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.617 이었다.
[비교합성예 8] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-12)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 8)를 달리한 것 이외는, 합성예 5와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 688g 얻었고, APHA는 30이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.615 이었다.
[비교합성예 9] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-13)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 5)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 711g 얻었고, APHA는 26이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.622 이었다.
[비교합성예 10] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-14)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 6)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 719g 얻었고, APHA는 28이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.621 이었다.
[비교합성예 11] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-15)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 7)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 716g 얻었고, APHA는 30이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.620 이었다.
[비교합성예 12] 비스(2,3-에피티오프로필)술피드의 합성(BEPS-16)
비스(3-클로로-2-히드록시-프로필)술피드(BCPS 8)를 달리한 것 이외는, 합성예 9와 동일한 합성방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)술피드를 합성하였다. 생성물은 715g 얻었고, APHA는 35이었다. 굴절률 (nD, 20℃)은 1.619 이었다.
[비교합성예 13] 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드(BEPDS 3)의 합성
에피클로로히드린에 포함한 특정불순물의 총함량이 1.5중량%인 에피클로로히드린를 이용한 것 이외에는, 합성예 13과 동일한 방법으로 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드를 합성하였다. 생성물은 878g 얻었고, 굴절률 (nD, 20℃)은 1.646 이었다.
[실시예 1]
티오에폭시 화합물로 합성예 5의 비스 (2,3- 에피티오프로필 ) 술피드 (BEPS-1) 89g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 5g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 6g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENPP [폴리옥시에티렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.2g, 트리페닐포스핀 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합하여, 균일용액으로 했다. 이 혼합용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1μm PTFE 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이뤄진 몰드형에 주입하였다. 이 몰드형를 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈으며, 렌즈를 몰드형으로부터 이형시켰다. 이때 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, APHA 12, 굴절률(nE) 1.699, 아베수 35이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면링의 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, 양호한 안경렌즈를 얻어졌다.
[실시예 2~4]
아래 표 1에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 평가하였으며, 그 결과는 아래 표 1과 같다.
[실시예 5]
티오에폭시 화합물로 합성예 9의 비스 (2,3- 에피티오프로필 ) 술피드 (BEPS-5) 89g, 이소시아네이트 화합물로서 이소포론디이소시아네이트 5g, 티올 화합물로서 비스(2-메르캅토에틸)술피드 6g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENPP [폴리옥시에티렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.10g, 제렉 UNTM(Zelec UNTM) 0.05g, N,N-디메틸시클로헥실아민 0.2g, 트리페닐포스핀 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합하여, 균일용액으로 했다. 이 혼합용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1μm PTFE 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이뤄진 몰드형에 주입하였다. 이 몰드형를 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈으며, 렌즈를 몰드형으로부터 이형시켰다. 이때 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, APHA 14, 굴절률(nE) 1.699, 아베수 35이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면링의 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, 양호한 안경렌즈를 얻어졌다.
[실시예 6~8]
아래 표 1에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 실시예 5과 동일한 방법으로 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 평가하였으며, 그 결과는 아래 표 1과 같다.
[실시예 9]
티오에폭시 화합물로 합성예 13의 비스 (2,3- 에피티오프로필 ) 디술피드 (BEPDS-1) 91g, 티올 화합물로서 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드 9g, 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENPP [폴리옥시에티렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)] 0.15g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.2g, N,N-디메틸시클로헥실아민 0.02g, N,N-디시클로헥실메틸아민 0.1g, 트리페닐포스핀 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g을 20℃에서 혼합하여, 균일용액으로 했다. 이 혼합용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 실시했다. 그 후, 1μm PTFE 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이뤄진 몰드형에 주입하였다. 이 몰드형를 중합 오븐에 투입, 25℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈으며, 렌즈를 몰드형으로부터 이형시켰다. 이때 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, APHA 22, 굴절률(nE) 1.736, 아베수 32이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 표면링의 불량 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, 양호한 안경렌즈를 얻었다.
[실시예 10]
아래 표 1에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 실시예 9와 동일한 방법으로 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 평가하였으며, 그 결과는 아래의 표 1과 같다.
[비교예 1~4]
아래 표 1에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 평가하였으며, 그 결과는 아래의 표 1과 같다.
[비교예 5~8]
아래 표 1에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 평가하였으며, 그 결과는 아래의 표 1과 같다.
[비교예 9]
아래 표 1에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 실시예 9와 동일한 방법으로 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 평가하였으며, 그 결과는 아래의 표 1과 같다.
구분 에피클로로히드린 불순물 총함량% 티오에폭시 화합물 이소시아네이트 화합물 티올 화합물 굴절률(nE) 안경렌즈 색상
(APHA)		 탁함
실시예1 0.1 BEPS-1 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 12 ○
실시예2 0.3 BEPS-2 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 13 ○
실시예3 0.5 BEPS-3 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 15 ○
실시예4 0.8 BEPS-4 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 17 ○
실시예5 0.1 BEPS-5 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 14 ○
실시예6 0.3 BEPS-6 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 16 ○
실시예7 0.5 BEPS-7 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 18 ○
실시예8 0.8 BEPS-8 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 20 ○
실시예9 0.1 BEPDS-1 91g - BMMS 9g 1.736 22 ○
실시예10 0.5 BEPDS-2 91g - BMMS 9g 1.736 23 ○
비교예1 1.2 BEPS-9 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 33 △
비교예2 1.5 BEPS-10 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 36 ×
비교예3 1.7 BEPS-11 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 38 ××
비교예4 2.0 BEPS-12 89g IPDI 5g BMES 6g 1.697 40 ×××
비교예5 1.2 BEPS-13 89g IPDI 5g BMES 6g 1.697 33 △
비교예6 1.5 BEPS-14 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 35 ×
비교예7 1.7 BEPS-15 89g IPDI 5g BMES 6g 1.699 38 ××
비교예8 2.0 BEPS-16 89g IPDI 5g BMES 6g 1.697 40 ×××
비교예9 1.5 BEPDS-3 91g - BMMS 9g 1.735 105 ××
<약어>
모노머
BEPS: 비스(2,3-에피티오프로필)술피드(bis(2,3-epithiopropyl)sulfide)
BEPDS: 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드(bis(2,3-epithiopropyl)sulfide)
BMES: 비스(2-메르캅토에틸)술피드(bis(2,3-epithiopropyl)sulfide)
BMMS: 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드 (bis(2-(2-mercaptoethylthio)-3-mercaptopropyl)sulfide)
IPDI: 이소포론디이소시아네이트(isophorone diisocyanate)
Zelec UNTM: Stepan 사에서 제조하는 산성 인산에스테르 화합물계인 상품명
HOPBT: 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(2-(2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) -2H-benzotriazole)
TBPB: 테트라부틸포스포늄브로마이드(tetrabutylphosphonium bromide)
HTQA: 1-히드록시-4-(p-톨루딘)-엔트로퀴논(1-hydroxy-4-(p-toluidine)anthraquinone
PRD: 퍼리논 염료(perinone dye)

Claims (12)

  1. 에피클로로히드린 화합물을 출발물질로 하는 티오에폭시 화합물의 제조방법에 있어서,
    상기 에피클로로히드린 화합물은 아크로레인(acrolein), 아릴클로라이드(allylchloride), 1,2-디클로로프로판, 2,3-디클로로프로펜, 2-메틸-2-펜탄올, 2-클로로아릴알코올, 시스-1,3-디클로로프로펜, 트란스-1,3-디클로로프로펜, 1,3-디클로로이소판올, 1,2,3-트리클로로프로판 및 2,3-디클로로프로판올로 구성된 불순물의 총 함량이 1중량% 이하인 것을 특징으로 하는 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 티오에폭시 화합물은 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)술피드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법.
  3. 제1항에서 제조된 티오에폭시 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 폴리티올 화합물을 더 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 폴리이소시아네이트 화합물을 더 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  6. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 티오에폭시 화합물은 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  7. 제5항에 있어서, 상기 폴리이소시아네이트 화합물이 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  8. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 반응성 수지개질제로 올레핀 화합물을 더 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  9. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 내부이형제를 더 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물.
  10. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항의 중합성 조성물을 중합시키는 티오에폭시계 광학재료의 제조방법.
  11. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항의 중합성 조성물을 중합시켜 얻은 티오에폭시계 광학재료.
  12. 제11항의 광학재료로 이루어진 광학렌즈.
KR1020150021983A 2015-02-13 2015-02-13 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물 KR20160100422A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150021983A KR20160100422A (ko) 2015-02-13 2015-02-13 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150021983A KR20160100422A (ko) 2015-02-13 2015-02-13 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160100422A true KR20160100422A (ko) 2016-08-24

Family

ID=56883959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150021983A KR20160100422A (ko) 2015-02-13 2015-02-13 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20160100422A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116396457A (zh) * 2023-03-31 2023-07-07 益丰新材料股份有限公司 一种光学材料用组合物及光学材料

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11352302A (ja) 1998-06-10 1999-12-24 Seiko Epson Corp プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ
KR100417985B1 (ko) 2000-03-15 2004-02-14 호야 가부시키가이샤 안경용 플라스틱 렌즈
KR100681218B1 (ko) 2002-03-12 2007-02-09 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 티오에폭시계 중합성 조성물 및 그 제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11352302A (ja) 1998-06-10 1999-12-24 Seiko Epson Corp プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ
KR100417985B1 (ko) 2000-03-15 2004-02-14 호야 가부시키가이샤 안경용 플라스틱 렌즈
KR100681218B1 (ko) 2002-03-12 2007-02-09 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 티오에폭시계 중합성 조성물 및 그 제조방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116396457A (zh) * 2023-03-31 2023-07-07 益丰新材料股份有限公司 一种光学材料用组合物及光学材料
CN116396457B (zh) * 2023-03-31 2024-02-23 益丰新材料股份有限公司 一种光学材料用组合物及光学材料

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101349273B1 (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법과 그 중합성 조성물
KR101487709B1 (ko) 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물과 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR102657702B1 (ko) 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 조성물과 이를 이용한 광학재료의 제조방법
KR20130086007A (ko) 티오에폭시계 공중합체 조성물과 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR101464943B1 (ko) 티오에폭시계 광학재료용 폴리티올화합물의 제조방법과 이를 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 공중합체 조성물
KR20130081253A (ko) 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법
KR20200046829A (ko) 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 조성물 및 이를 이용한 광학재료의 제조방법
KR20160139798A (ko) 티오에폭시계 초고굴절 광학수지 조성물과 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20180120651A (ko) 티오에폭시 화합물을 포함하는 광학재료용 중합성 조성물과 광학재료의 제조방법
KR102669070B1 (ko) 신규한 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법
KR20200085258A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20160100422A (ko) 광학재료용 티오에폭시 화합물의 제조방법과 이 화합물을 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물
KR20160130883A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법과 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물
KR20210014257A (ko) 광학재료의 내광성 향상을 위한 조성물과 이를 이용하여 광학재료의 내광성을 향상시키는 방법
KR20200033426A (ko) 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 경화속도 조절제와 이를 이용한 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR20170064529A (ko) 티오에폭시계 초고굴절 광학수지 조성물과 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR102553438B1 (ko) 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법
KR20210105219A (ko) 광학재료용 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 고굴절 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR20210130547A (ko) 광학재료용 에폭시 화합물의 제조방법 및 이를 이용한 광학재료용 에피설파이드 화합물과 고굴절 광학재료의 제조방법
KR20210105224A (ko) 에피설파이드계 광학재료의 내광성 및 열안정성 개선을 위한 조성물과 이를 이용한 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR20210105221A (ko) 에피설파이드계 광학재료용 열안정제와 이를 이용한 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR20210117080A (ko) 에피설파이드계 광학재료용 중합조절제와 이를 포함하는 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR20190057238A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20200033423A (ko) 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR20200033427A (ko) 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 경화속도 조절제와 이를 이용한 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal