JP2010082561A - 積層体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した多孔質基材に噴射することにより、上記多孔質基材上に金属酸化物膜を形成する積層体の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向を、上記多孔質基材側に向け、かつ、上記多孔質基材表面の法線方向に対して傾けることを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の積層体の製造方法について説明する。本発明の積層体の製造方法は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した多孔質基材に噴射することにより、上記多孔質基材上に金属酸化物膜を形成する積層体の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向を、上記多孔質基材側に向け、かつ、上記多孔質基材表面の法線方向に対して傾けることを特徴とするものである。
以下、本発明の積層体の製造方法について、構成毎に詳細に説明する。
まず、本発明に用いられる金属酸化物膜形成用溶液について説明する。本発明に用いられる金属酸化物膜形成用溶液は、少なくとも金属源を含有する。さらに、必要に応じて、ホウ素化合物、酸化剤、還元剤、および添加剤等を含有していても良い。
まず、本発明に用いられる金属源について説明する。本発明に用いられる金属源は、通常、金属塩または有機金属化合物である。本発明においては、2種類以上の金属源を併用しても良い。
本発明に用いられる溶媒は、上述した金属源を溶解することができるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロパノール、ブタノール等の総炭素数が5以下の低級アルコール;トルエン;アセチルアセトン、ジアセチル、ベンゾイルアセトン等のジケトン類;アセト酢酸エチル、ピルビン酸エチル、ベンゾイル酢酸エチル、ベンゾイル蟻酸エチル等のケトエステル類;およびこれらの混合溶媒等を挙げることができる。中でも、水、メタノール、エタノール、アセトン、トルエン、アセチルアセトンまたはこれらの混合溶媒が好ましい。また、本発明においては、溶媒の全部または一部として、上記ジケトン類および上記ケトエステル類の少なくとも一方を用いることが好ましい。成膜性が向上するからである。
次に、本発明に用いられるホウ素化合物について説明する。本発明においては、金属酸化物膜形成用溶液が、ホウ素化合物を含有していても良い。ホウ素化合物を添加することにより、得られる金属酸化物膜の結晶性を低下させることができる。その結果、粒界の発生を抑制することができ、密着性や凹凸追従性に優れた金属酸化物膜を得ることができる。
また、本発明に用いられる金属酸化物膜形成用溶液は、界面活性剤等の添加剤を含有していても良い。上記界面活性剤は、金属酸化物膜形成用溶液と多孔質基材との界面に作用するものである。上記界面活性剤を用いることにより、金属酸化物膜形成用溶液と多孔質基材との接触面積を向上させることができ、均一な金属酸化物膜を得ることができる。なお、上記界面活性剤の使用量は、使用する金属源等に合わせて適宜選択して使用することが好ましい。
次に、本発明に用いられる多孔質基材について説明する。本発明に用いられる多孔質基材の材料としては、上記加熱温度に対する耐熱性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、例えばガラス、SUS、金属、セラミックス、耐熱性プラスチック等を挙げることができ、中でもガラス、SUS、金属、セラミックスであることが好ましい。汎用性があり、充分な耐熱性を有しているからである。
本発明においては、金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した多孔質基材に噴射することにより、多孔質基材上に金属酸化物膜を形成する。
また、本発明の積層体の製造方法においては、得られた金属酸化物膜の洗浄を行っても良い。金属酸化物膜を洗浄することにより、金属酸化物膜の表面等に存在する不純物を取り除くことができる。具体的には、金属酸化物膜形成用溶液に使用した溶媒を用いて洗浄する方法等を挙げることができる。
次に、本発明の積層体の製造装置について説明する。本発明の積層体の製造装置は、多孔質基材を支持する支持手段と、上記多孔質基材を加熱する加熱手段と、上記多孔質基材表面の法線方向に対して、所定の角度で金属酸化物膜形成用溶液を噴射する噴射手段と、を有することを特徴とするものである。
(多孔質基材の作製)
まず、一次粒径50nmのTiO2微粒子(日本アエロジル社製P25)、アセチルアセトンおよびポリエチレングリコール(平均分子量3000)を用意した。次に、これらをホモジナイザーにより水およびイソプロピルアルコールに溶解および分散させて、TiO2微粒子37.5重量%、アセチルアセトン1.25重量%、ポリエチレングリコール1.88重量%のスラリーを作製した。次に、ガラス基材上にドクターブレードにて上記スラリーを塗布し、室温下にて20分放置し、その後、上記スラリーを100℃、30分間の条件で乾燥させた。次に、乾燥後のスラリー塗布部材を電気マッフル炉(デンケン社製P90)に入れ、500℃、30分間、大気圧雰囲気の条件で焼成した。これにより、多孔質基材を得た。多孔質基材の表面粗さを原子間力顕微鏡(AFM、ナノピクス(SII製))を用いて測定したところ、Ra=1μmであった。
硝酸インジウム(関東化学社製)および塩化スズ(関東化学社製)を、それぞれの濃度が0.1mol/リットル、0.0052mol/リットルとなるように、エタノール溶媒に溶解させて金属酸化物膜形成溶液を調製した。次に、500℃に加熱した多孔質基材上に対して、金属酸化物形成用溶液(500ミリリットル)をエアレススプレー(A74エアレスオートガン、クロスカットノズル(フラットスプレーノズル)1/15、噴射液圧2MPa、ノードソン社製)を用いて噴射した。この際、金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向と、多孔質基材表面の法線方向との角度θは、10°であった。これにより、多孔質基材および金属酸化物膜を有する積層体を得た。
角度θを30°としたこと以外は、実施例1−1と同様にして、積層体を得た。
角度θを45°としたこと以外は、実施例1−1と同様にして、積層体を得た。
角度θを60°としたこと以外は、実施例1−1と同様にして、積層体を得た。
角度θを90°としたこと以外は、実施例1−1と同様にして、積層体を得た。
角度θを0°としたこと以外は、実施例1−1と同様にして、積層体を得た。
実施例1−1〜実施例1−6、および比較例1で得られた積層体の表面粗さ(Ra)、および金属酸化物膜の膜厚を測定した。積層体の表面粗さ(Ra)は、原子間力顕微鏡(AFM、ナノピクス(SII製))を用いて測定した。また、金属酸化物膜の膜厚は、走査型電子顕微鏡(SEM)による断面写真を観察することにより測定した。その結果を表1に示す。
ジルコニウムテトラアセチルアセトナ−ト(関東化学社製)、硝酸イットリウム(関東化学社製)およびホウ酸(関東化学製)を、それぞれの濃度が0.2mol/リットル、0.061mol/リットルおよび0.1mol/リットルとなるように、トルエン:エタノール:アセチルアセトン=50:25:25となる混合溶媒に溶解させて金属酸化物膜形成用溶液を調製した。そして、500℃に加熱した多孔質基材(燃料電池の燃料極、日本ファインセラミックス社製、サマリウムドーピングセリア&酸化ニッケル多孔質部材、平均孔径1μm、厚み800μm、平均粒子径1μm))上へ金属酸化物膜形成用溶液(1000ミリリットル)を、エアレススプレー(A74エアレスオートガン、クロスカットノズル(フラットスプレーノズル)1/12、噴射液圧2MPa、ノードソン社製)を用いて、多孔質基材表面の法線方向に対して、45°傾けて噴射した。これにより、多孔質基材上にYSZからなる金属酸化物電解質膜(多孔質基材上の厚み:3μm)を有する積層体を得た。
エアレススプレーの噴射角度を、多孔質基材表面の法線方向に対して傾けなかったこと(鉛直下向きにしたこと)以外は、実施例2と同様にして、積層体を得た。
実施例2および比較例2で得られた積層体のYSZ膜表面を、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察した。その結果を図6に示す。図6に示されるように、実施例2で得られたYSZ膜は、比較例2で得られたYSZ膜と比較して、粒界が軽減されており、表面平滑性および緻密性に優れた膜であった。これは、金属酸化物膜形成用溶液を斜めから噴射することで、平面方向への膜成長が促進されたためであると考えられる。また、金属酸化物膜形成用溶液を斜めから噴射することで、多孔質基材の孔部を効率良く埋めることができ、膜厚が小さく、緻密性の高いYSZ膜を形成することができた。
1a … 孔部
2 … スプレーノズル
2a … フラットスプレーノズル
3 … 金属酸化物形成用溶液
4 … 金属酸化物膜
4a … 金属酸化物
11 … 支持手段
12 … 加熱手段
13 … 噴射手段
Claims (4)
- 金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した多孔質基材に噴射することにより、前記多孔質基材上に金属酸化物膜を形成する積層体の製造方法であって、
前記金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向を、前記多孔質基材側に向け、かつ、前記多孔質基材表面の法線方向に対して傾けることを特徴とする積層体の製造方法。 - 前記金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向を、前記多孔質基材表面の法線方向に対して、10°以上傾けることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。
- 前記金属酸化物膜形成用溶液を、扇状に噴射することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の積層体の製造方法。
- 多孔質基材を支持する支持手段と、
前記多孔質基材を加熱する加熱手段と、
前記多孔質基材表面の法線方向に対して、所定の角度で金属酸化物膜形成用溶液を噴射する噴射手段と、
を有することを特徴とする積層体の製造装置。
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