JP2010078899A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010078899A5 JP2010078899A5 JP2008247112A JP2008247112A JP2010078899A5 JP 2010078899 A5 JP2010078899 A5 JP 2010078899A5 JP 2008247112 A JP2008247112 A JP 2008247112A JP 2008247112 A JP2008247112 A JP 2008247112A JP 2010078899 A5 JP2010078899 A5 JP 2010078899A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- display device
- gas
- pattern defect
- correcting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008247112A JP5339342B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 表示装置の修正方法およびその装置 |
| US12/507,826 US9063356B2 (en) | 2008-09-05 | 2009-07-23 | Method for repairing display device and apparatus for same |
| CN2009101616448A CN101667527B (zh) | 2008-09-05 | 2009-07-24 | 显示装置的修正方法及其装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008247112A JP5339342B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 表示装置の修正方法およびその装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010078899A JP2010078899A (ja) | 2010-04-08 |
| JP2010078899A5 true JP2010078899A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2011-04-14 |
| JP5339342B2 JP5339342B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=42209429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008247112A Active JP5339342B2 (ja) | 2008-09-05 | 2008-09-26 | 表示装置の修正方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5339342B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0866652A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-03-12 | Hitachi Ltd | 液体材料微量供給装置とそれを使用するパターン修正方法 |
| JP2000096248A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-04 | Komatsu Ltd | 表面処理装置および表面処理方法 |
| US6660177B2 (en) * | 2001-11-07 | 2003-12-09 | Rapt Industries Inc. | Apparatus and method for reactive atom plasma processing for material deposition |
| US7323080B2 (en) * | 2004-05-04 | 2008-01-29 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for treating substrate |
| JP4688525B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2011-05-25 | 株式会社 日立ディスプレイズ | パターン修正装置および表示装置の製造方法 |
| JP2010059509A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Hitachi Displays Ltd | 成膜または表面処理装置および方法 |
-
2008
- 2008-09-26 JP JP2008247112A patent/JP5339342B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN113791523B (zh) | 用于对euv容器和euv收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 | |
| JP4697066B2 (ja) | 電極接合方法及び部品実装装置 | |
| US8399795B2 (en) | Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves | |
| JP5438325B2 (ja) | ボトルの内部を照射する方法 | |
| JP2010539644A (ja) | 表面処理又は表面コーティング方法及び装置 | |
| WO2009063755A1 (ja) | プラズマ処理装置および半導体基板のプラズマ処理方法 | |
| JP2005276618A (ja) | マイクロプラズマ生成装置および方法 | |
| WO2007135587A3 (en) | A method of increasing the conversion efficiency of an euv and/or soft x-ray lamp and a corresponding apparatus | |
| US20130146564A1 (en) | Plasma treatment apparatus and plasma treatment method | |
| JP2009092850A (ja) | 液晶表示装置の回路欠陥補修方法及び装置 | |
| JP2008226991A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2010078899A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| RU2009115827A (ru) | Лазерно-плазменный способ синтеза высокотвердых микро и наноструктурированных покрытий и устройство | |
| US20070095476A1 (en) | Plasma discharger | |
| WO2009120000A3 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
| JP2010147168A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2006272039A (ja) | 洗浄装置、液晶表示器の基板洗浄装置及び液晶表示器組付装置 | |
| JP4450407B2 (ja) | プラズマ処理装置及び処理方法 | |
| TW202035754A (zh) | 成膜裝置以及成膜方法 | |
| JP2004031511A (ja) | 大気圧下での基板の連続処理装置及び方法 | |
| JP2007227785A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP6223875B2 (ja) | 皮膜形成装置、皮膜形成方法、及び皮膜付筒部材 | |
| JP2002050849A (ja) | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 | |
| JP3546200B2 (ja) | プラズマcvd装置及びプラズマcvd方法 | |
| JP2004211161A (ja) | プラズマ発生装置 |