JP2010072088A - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】面発光型レーザ光源（ＶＣＳＥＬ）を用いる光走査装置は、高速の画像形成装置が得られるため、利用されるようになってきたが、実用化には、まだ解決すべき課題が残されている。感光体からの正反射を防ぐため、感光体法線に対して斜めに光束を入射させているが、複数の光源が副走査方向に距離を置いて配置されているため、被走査面状でいわゆる台形歪みが生じ、画質が劣化する原因となる。
【解決手段】画像書込のタイミングを取るための同期検知手段としてＰＤを用い、ＰＤの受光面に、被走査面上に生ずる台形歪みと同等の歪みを生じさせることによって、画像書込時に発生するはずの位置ずれをキャンセルさせることができる。同期検知は２つ以上のビームを検知してその他のビームの同期を内挿で算出する方法、すべてのビームを検知する方法、１つのみのビーム検知でずらし量をメモリーから呼び出す方法などがある。
【選択図】図３

Description

本発明は、光走査装置および画像形成装置に関する。

光走査による画像形成はデジタル複写装置やレーザプリンタ等、各種の画像形成装置として広く実施されている。光走査による画像形成の高速化を実現できる光走査方式としてマルチビーム走査方式が知られ、この走査方式に適したレーザ光源として、近来、面発光型レーザ光源（以下「ＶＣＳＥＬ」と称する。）の使用が意図されている。
従来からマルチビーム走査方式のレーザ光源として知られた「端面発光型の半導体レーザアレイ」や、端面発光型の半導体レーザを複数個用い「ビーム合成プリズムを用いてビーム合成」するものでは、同時に使用できるレーザ発光源の数は高々数個程度である。
これに対し、ＶＣＳＥＬは、複数のレーザ光が放出される同一面内に「数十〜数百のレーザ発光源」を配列でき、同時に数十〜数百の走査線を光走査することができ、マルチビーム走査の利点である画像形成の高速性を十分に生かすことができる。
一方、従来より、光束が被走査面である感光体に反射されることによって、光源に戻って変調不良を起こすことや、迷光として意図しない画像不良を引き起こすことが問題視されてきた。これに対して、例えば特許文献１の様に、感光体面の法線に対して斜めに入射することでこれらの不具合を解決するといった方法が一般的に取られてきている。

しかし、感光体面法線に斜めに入射することと、前述のような数十以上の多ビームで走査することを複合した結果、新たな課題ができた。即ち、多数のビームを同時に走査する場合には、当然副走査方向に広い範囲でビームが被走査面上に結像されるが、これが垂直ではなく傾斜した面に入射することで各ビームの主走査方向の位置が異なる所謂「台形歪み」のような主走査ビームスポット位置ずれが顕著になってしまうのである。
「台形歪み」の模式図を、図５および図６で説明する。

図５は被走査面に投影される光源像を模式的に示す図である。同図（ａ）は光束に直交する面に対する投影像、同図（ｂ）は傾斜面に対する投影像をそれぞれ示す図である。
図６は台形歪みの説明を簡略化した図である。
図５において、複数の発光源からの複数のビームは、被走査面上でスポット状に結像される。被走査面が光束の中心光に対して垂直な面であれば、同図（ａ）のように２次元の互いにほぼ等間隔に並ぶ。被走査面が傾斜していると、光源から遠い方がスポット間隔が大きく広がり、近い方はその間隔が狭くなる。同図の場合、上方より、下方の方が被走査面が光源に近い場合を表している。
図６では、図のｙ方向に走査するビームＡとビームＢが、ｙ軸を中心に回転した被走査面に入射した場合、被走査面上の走査線が２つのビームで異なることを示している。斜めになったスクリーンにプロジェクタで映像を投影した場合に、投影図が台形になる。これと同様に、ビームＡからは被走査面が遠い為走査されるビームはより広がる方向、ビームＢは逆に被走査面が近いためビームは広がりきらない。その結果、ビームＡによる走査線はビームＢによる走査線よりも短くなり、その差が主走査（ｙ）方向の位置ずれとなってしまう。光走査装置による画像形成においては、この位置ずれは画像の周辺にて境界線が直線にならない、ビームスポットの重なり方が異なるために濃度変動になる、といった画像不良を引き起こす。

特第３５４２４８１号公報

マルチビーム光学系、特に一度に副走査方向に非常に広い間隔を持って走査されるＶＣＳＥＬなど数十ビームの光学系、飛越走査を行う光学系において、各ビームの間の主走査方向の書込幅の誤差（＝ビームスポット位置ずれ）を低減し、濃度差を低減し、良好な走査を行う。

請求項１に記載の発明では、２次元的に配置された複数の光源からの複数光束を光偏向器によって被走査面上に主走査方向に走査し、前記複数光束を前記被走査面上に２次元的に結像し、書込幅以外の領域に配置された光検知手段と光検知手段に同期光束を導光する検知光学系を有し、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が副走査断面内において有する傾きをβ1、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と副走査断面内において有する傾きをβ2としたとき、β１とβ２を同符合（同じ回転方向）とし、前記複数の光源からの光束の内で、前記光検知手段に同時に入射しない範囲で副走査方向に距離を有する２つ以上の光束についてそれぞれ対応する同期信号を前記光検知手段によって取得し、それら同期信号から前記複数の光源に対応する同期信号を算出する算出手段を有し、該複数の光源に対応したそれぞれ異なる同期信号（開始および／または終了タイミング）によって走査する光走査装置を特徴とする。
請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の光走査装置において、前記光検知手段に同時に入射しない範囲で副走査方向および主走査方向に距離を有する２つ以上の光束について、一度の走査でそれぞれ対応する同期信号を取得することを特徴とする。

請求項３に記載の発明では、２次元的に配置された複数の光源からの複数光束を光偏向器によって被走査面上に主走査方向に走査し、前記複数光束を前記被走査面上に２次元的に結像し、書込幅以外の領域に配置された光検知手段と光検知手段に同期光束を導光する検知光学系を有し、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が副走査断面内において有する傾きをβ１、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と副走査断面内において有する傾きをβ２としたとき、β１とβ２を同符合（同じ回転方向）とし、前記複数の光源からの光束の全てに対応する同期信号を取得することを特徴とする。
請求項４に記載の発明では、請求項１ないし３のいずれか１つに記載の光走査装置において、前記複数の同期信号を取得する際に用いる光偏向器の偏向反射面は、共通の面であることを特徴とする。

請求項５に記載の発明では、２次元的に配置された複数の光源からの複数光束を光偏向器によって被走査面上に主走査方向に走査し、前記複数光束を前記被走査面上に２次元的に結像し、書込幅以外の領域に配置された光検知手段と光検知手段に同期光束を導光する検知光学系を有し、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が副走査断面内において有する傾きをβ1、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と副走査断面内において有する傾きをβ２としたとき、β１とβ２を同符合（同じ回転方向）とし、前記複数の光源からの光束のうち、少なくとも1つの光束について同期検知信号を取得し、その信号をそれ以外の光源による書込に適用する際、被走査面と光束とが有する角度によって発生する主走査方向の書込幅の差を低減するよう予め保存しておいたデータを用いた変換によって各光源の書込タイミングを補正して書込を行うことを特徴とする。
請求項６に記載の発明では、請求項１ないし５のいずれか１つに記載の光走査装置において、β１とβ２を等しくすることを特徴とする。

請求項７に記載の発明では、請求項１ないし６のいずれか１つに記載の光走査装置において、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が主走査断面内において有する傾きをα１、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と主走査断面内において有する傾きをα２としたとき、α１とα２を略等しくすることを特徴とする。
請求項８に記載の発明では、像担持体と、帯電手段と、光走査手段と、現像手段と、転写手段と、定着手段とを有する画像形成装置において、前記光走査手段は、請求項１ないし７のいずれか１つに記載の光走査装置であることを特徴とする。

本発明によれば、特に画像周辺に発生する目立ちやすい位置ずれを低減できる。また、同様に画像周辺で顕著なポリゴンによる反射面ごとの走査位置ずれ（いわゆる縦線揺らぎ）が発生したとしても、総合的な位置ずれ量は小さくできるため、ポリゴンの加工を高精度化しなくてもよく、低コスト化ができる。また、複雑な光検出手段の位置調整機構が不要になるため、調整機構を設ける場合に比べて小型化、低コスト化が図れる。

図１は光走査装置の全体を示す図である。同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は側面図である。
同図において符号１は発光源、２はλ／４板、３はカップリングレンズ、４は温度補正レンズ、５はアパーチャ、７はシリンドリカルレンズ、８は防音ガラス、９はポリゴンミラー、１０は走査レンズＬ１、１２は走査レンズＬ２、１１、１３、１４は折り返しミラー、１５は防塵ガラス、１６は被走査面、１７は書き込み幅、１８は同期像高、１９は同期光束、２０は感光体をそれぞれ示す。
図２は本発明に用いる面発光型光源を説明するための図である。
同図において符号ｓは受光面を示す。添字は１桁目が行、２桁目が列をそれぞれ示す。
光源は、複数のビームを射出する半導体レーザアレイ、例えば面発光型レーザを用いる。面発光型レーザは発光点が２次元的に配置され、その出射光は直線偏光であり、偏光方向は副走査方向に平行な方向である。同図の例では、光源１は４０ビームを射出し、被走査面上での最も離れた走査線の副走査方向の間隔はおよそ０．４ｍｍにも及ぶ。光源１は同図に示す発光点配列を持つＶＣＳＥＬであり、モノリシックなＬＤアレイである。
λ／４板２は、光源からの直線偏光の光束を円偏光に変換する。
ガラス製のカップリングレンズ３と樹脂製の温度補正レンズ４は、光源１からの光束を略平行光に変換する。また、温度変化が起きた場合にビームウエスト位置の変動を低減させる効果をもち、ビームスポット径ばらつきを抑制している。
カップリングレンズと温度補正レンズの仕様の１例を表１に示す。

アパーチャ５は、平行光を整形してビームスポット径を安定させる。本光学系では、主走査方向５．６ｍｍ、副走査方向１．１８ｍｍとし、ビームスポット径は、主走査方向５５μｍ、副走査方向５５μｍとしている。
アパーチャの仕様の１例を表２に示す。

図示しないが、光源からアパーチャまでの素子は、光源ユニット上に一体的に構成される。これにより、各素子の取付誤差・加工誤差の影響を低減するように、ガラスと樹脂の両レンズを調整することで光源ユニット単位で調整を行うことができる。
シリンドリカルレンズ７は、平行光束を光偏向器（ポリゴンミラー）９の偏向反射面近傍で副走査方向に結像する。シリンドリカルレンズ７は、ビームスポット径、走査線間隔の調整のために、光軸方向・副走査方向・光軸周り方向に調整してから光学ハウジングに固定される。
シリンドリカルレンズの仕様の１例を表３に示す。

防音ガラス８は、ポリゴンミラー９の回転中心から３１ｍｍの位置に、主走査方向に１０．２ｄｅｇ、副走査方向に２．５ｄｅｇ傾斜させて配置される。

光源１からの光束は、被走査面の法線に対して６４ｄｅｇの角度を有してポリゴンミラー９に入射し、内接円半径２５ｍｍ、偏向反射面数６のポリゴンミラーによって偏向され、走査レンズＬ１、Ｌ２によって等速的に被走査面に結像される。走査レンズの各面の形状は、いずれも式１、式２によって表され、各係数は表４に示したとおりである。Ｘは光軸方向（光束の射出方向）、Ｙは主走査方向、Ｃｍ０＝１／Ｒm０は主走査方向曲率、Ｃｓ（Ｙ）はＹにおける副走査方向の曲率である。
走査レンズＬ１、Ｌ２の仕様の１例を表５に示す。

防塵ガラスは副走査断面内で２１ｄｅｇ傾けられている。
λ／４板と防音ガラスと防塵ガラスの仕様の１例を表６に示す。

被走査面は、面の法線が副走査断面内で３ｄｅｇ傾けられており、被走査面からの正反射光が不具合を起こさないようにしている。
図１の符号１７で示した被走査面の範囲（書込幅）が、被走査面１６で示した感光体２０に到達し画像情報を書込む範囲であり、符号１８で示した同期像高では、実際には感光体２０には到達せず、図示しない同期検知手段によって信号を検知され、書込タイミングの決定に用いられる。書込開始側および終了側の両方で検知を行うことにより、温度の影響などの経時的変動を検出してフィードバック補正することができる。書込幅は、３２８ｍｍ、一方の同期像高１８から他方の同期像高１８までの距離は３５４ｍｍである。

図３は一方の同期像高に対応する像高の拡大模式図である。同図（ａ）は同期光束と被走査面の関係を示す主走査断面図、同図（ｂ）は同期光束と被走査面の関係を示す副走査断面図、同図（ｃ）は同期光束と光検知手段の関係を示す主走査断面図、同図（ｄ）は同期光束と光検知手段の関係を示す副走査断面図である。
同図において符号２１は折り返しミラー、２２は光検知手段をそれぞれ示す。
上述した通り、主走査断面内において被走査面１６の法線と光束Ｌの進行方向とは、同図（ａ）に示すように、α１の角度を有している。
また、副走査断面内においては、同図（ｂ）に示すように、同様にβ１とする。
なお、ここでは光束Ｌの進行方向とは複数光束全ての平均的な進行方向を指し、カップリングレンズの中心軸に一致する位置に光源があるとした場合の、その光源からの光線の進行方向と同義とする。
この光束を同期検知手段２２に導く為に同期光学系によって導光される様子を同図（ｂ）に示す。ここでは、折り返しミラー２１が同期光学系に相当するが、光学ハウジングのレイアウト上、折り返しミラーを複数枚用いたり、レンズを用いてもよい。また、ここでは主走査断面内で折り返しているが、折り返しミラーを副走査方向に対して傾けて折り返してもよい。
同図（ｃ）、（ｄ）において、折り返された同期光束は、同期検知手段２２である検出器ＰＤに対して、α２およびβ２を有して入射する。ここで同器光学系、および光走査装置がミラーを有している場合、α１、α２、β１、β２はミラーによる折返し部分を展開したときの角度とする。同図（ｃ）（ｄ）に示した破線部は、同期光学系の折り返しミラーの部分を展開して示したもので、光束進行方向からＰＤの法線に向かう方向に角度を定義し、左回り方向と右回り方向では符合が異なる角度とする。

感光体と、光検知手段との位置関係を略同じに設定する、つまりβ1（＝光束が入射する位置での感光体の接平面の法線と、光束との副走査方向における成す角）を、β2（＝光検知手段と光束との副走査方向における成す角）と同符号にすることで、台形歪み補正を可能とする。すなわち、β２はβ１に対して、同一方向に回転させておくことで被走査面上と同様の台形歪みをＰＤ上で発生させることができるため、これを検知して適切に補正することができる。
特に、β１＝β２、およびα１＝α２とすることで、複数ビームの感光体上での位置関係を光検知手段上で同等に再現でき、複数のビームそれぞれにおいて主走査方向の書込幅（書込タイミング）を正確に検知することができ、これにより感光体を偏心させていることによる、一回の走査で発生する各ビーム間の主走査位置のずれを光検知手段上においても再現できる。したがって、理想的に台形歪みを被走査面とＰＤ上とで完全に一致させることができる。これらの効果は本発明のすべての実施形態において同様に有効である。

被走査面と光検知手段とが同等な位置関係にあるため、副走査方向に離れた複数ビームによって検知することで、実質的に台形歪みを測定することができ、それを補正するようにタイミングを設定することができる。台形歪み、つまり主走査方向の位置ずれ量は副走査方向の距離に略比例するため、全てのビームについては検知せずに、例えば２つのビームの検知を行い、他のビームはその検知結果からの換算した結果を用いてタイミングを設定すればよい。このことによって、製造誤差による台形歪みの発生状態の差も補正でき、なおかつ多数のビーム全てについて検知する必要がないため、検知時間を短くすることができ、書込よりも比較的高い光出力を要求さる同期検知時の点灯時間を短くすることができるため、光源の長寿命化ができる。なお、用いるタイミングは、全ビーム個別に設定しても良いし、いくつかのグループにわけてグループ単位で設定してもよい。
ここで、台形歪みによる主走査位置ずれ量を計算してみる。

図４は複数光束のうちの副走査方向最周辺の２つの光束と、被走査面との位置関係を示す図である。同図（ａ）は副走査断面内、同図（ｂ）は主走査断面内をそれぞれ示す。
同図（ａ）において、被走査面がβ１傾いているときにビームＡとビームＢが、Ｘ方向（図の横方向）について、ΔＸの距離をもって被走査面に入射していることを示している。このとき、ビームＡ，Ｂ間の被走査面上での距離をＰとすると、
ΔＸ＝Ｐ・ｓｉｎ（β１）

同図（ｂ）は主走査断面内で、被走査面に対して同期光束の入射角度に相当するα1の角度で入射する光束ビームＡ，Ｂが、ΔＸだけ被走査面の位置が異なることによる主走査方向の位置ずれ量ΔＹを生じることを示している。ΔＹは、
ΔＹ＝ΔＸ・ｔａｎ（α１）
ΔＹ＝Ｐ・ｓｉｎ（β１） ・ｔａｎ（α１）
ここで以下の値
β１＝ ３ ［ｄｅｇ］
α１＝２８ ［ｄｅｇ］
Ｐ＝４０７ ［μｍ］
を代入すると、主走査位置ずれ量ΔＹは
ΔＹ＝１１．３ ［μｍ］
となる。

実際の光学系においてはさらに誤差が加わる。例えばポリゴンミラーの面間の走査位置の誤差（回転むら）は０．００６%程度あるが、これが書き込み幅３２０ｍｍでは３２０×０．００６÷１００＝０．０１９ｍｍとなり、上述のΔＹとあわせて３０μｍ以上にもなり得る。本光学系ではビームスポット径５５μｍを設計値としており、ビームスポット径の半分程度の位置ずれ量が、これだけで発生することになる。多ビーム化が進んだ光学系ではＰが大きくなることによって、同期検知を行い書き出し位置を補正したつもりでも、実は補正できていない、という事態になるわけである。
さらに、実際にはポリゴンミラーの面間の誤差により、書込み走査幅の変動が反射面ごとに起きる為、その分がさらに位置ずれ量として増大し、画像上問題となるような位置ずれ量になってしまう。
本発明によれば、ＰＤを被走査面と同様の位置関係にしておくことにより、各光束の被走査面到達位置の差（ΔＸ）による位置ずれ（ΔＹ）を検出できる為、検出結果は被走査面上と同等となり、正しい調整が可能となるのである。

検出・フィードバックの方法について以下に示す。
高精度化のためには、複数あるビームの全てについて検出することが望ましい。しかし、多ビーム化が進んだ光学系においては全ビームを検出するには時間がかかるため、経時的に常に検出するには時間がかかり過ぎ、高速な光走査ができなくなってしまう。
そのため、互いに大きく距離の離れた発光原に対応する検出結果を利用すると良い。
図５の模式図、およびこれまでの記述で示した通り、台形歪みの位置ずれは副走査方向に距離が離れるにつれ略線形で発生する為、副走査方向に離れた、例えば最周辺のビーム２つを検知することによってその間のビームについては内挿により補正値を決定することができる。検知手段からの信号を読み取り、算出手段により、他の複数の光源の同期信号を計算により求め、各光源の同期（書き込み開始や終了のタイミング）を行う。

このとき、複数ビームの測定の際は前述のポリゴンミラーの面間誤差の影響を受けない為に同一の面で反射された光束を検出することが望ましく、可能であれば時間短縮のために同一の走査において検知することが望ましい。また、主走査および副走査について離れた光源、例えば図２において対角の位置にあるｓ１とｓ２の光源のような対を用いて、検知を行うことができる。本実施例の書込光学系は主走査方向の横倍率が約５倍であり、光源ｓ１４と光源ｓ６１の主走査方向の距離は２７０μmであるため、像面上（ＰＤ上）では約１．４ｍｍの距離が離れ充分に光束が分離しているので、１回の走査においても両ビームを個別に検知することが可能であり、検知時間を短縮することができる。また、同一の偏向反射面によるビームなので、反射面間誤差の影響を受けず、高速かつ高精度な検知ができる。経時的に繰り返し同期信号を検出する場合でも、常に同一の偏向反射面からの光束をサンプリングすることで、同様に、反射面間誤差の影響を受けないで済む。

本発明によれば、特に画像周辺に発生する目立ちやすい位置ずれを低減できる。また、同様に画像周辺で顕著なポリゴンによる反射面ごとの走査位置ずれ（いわゆる縦線揺らぎ）が発生したとしても、総合的な位置ずれ量は小さくできるため、ポリゴンの加工を高精度化しなくてもよく、低コスト化ができる。また、複雑な光検出手段の位置調整機構が不要になるため、調整機構を設ける場合に比べて小型化、低コスト化が図れる。

本発明の他の実施形態を説明する。
図２に示したように、各発光点の相対位置関係は設計値として明らかになっている。したがって、その中の１個（例えば最初の１個）の発光点からのビームの書き込みタイミングが決定できれば、前記の台形誤差等のズレ量を含めて、その他の発光点からのビームの書き込みタイミングは事前に算出できるので、相対的な時間ズレのデータを予め光源駆動回路のメモリーに保存しておけば、検出手段は１個のみで、すべての光束の書き込みタイミングを、メモリーからの呼び出しにより変換を行うことで決定し、補正することができる。したがって、複数の光束の検知手段を必要とせず、検知手段の構成が簡単で、検知時間の短縮ができる。

本発明の光走査装置の全体を示す図である。 本発明に用いる面発光型光源を説明するための図である。 一方の同期像高に対応する像高の拡大模式図である。 複数光束のうちの副走査方向最周辺の２つの光束と、被走査面との位置関係を示す図である。 被走査面に投影される光源像を模式的に示す図である。 台形歪みの説明を簡略化した図である。

符号の説明

１ 発光源
９ ポリゴンミラー
１６ 被走査面
１８ 同期像高
１９ 同期光束
２０ 感光体
２２ 光検知手段

Claims (8)

1. ２次元的に配置された複数の光源からの複数光束を光偏向器によって被走査面上に主走査方向に走査し、前記複数光束を前記被走査面上に２次元的に結像し、書込幅以外の領域に配置された光検知手段と光検知手段に同期光束を導光する検知光学系を有し、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が副走査断面内において有する傾きをβ１、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と副走査断面内において有する傾きをβ2としたとき、β１とβ２を同符合（同じ回転方向）とし、前記複数の光源からの光束の内で、前記光検知手段に同時に入射しない範囲で副走査方向に距離を有する２つ以上の光束についてそれぞれ対応する同期信号を前記光検知手段によって取得し、それら同期信号から前記複数の光源に対応する同期信号を算出する算出手段を有し、該複数の光源に対応したそれぞれ異なる同期信号（開始および／または終了タイミング）によって走査することを特徴とする光走査装置。
2. 請求項１に記載の光走査装置において、前記光検知手段に同時に入射しない範囲で副走査方向および主走査方向に距離を有する２つ以上の光束について、一度の走査でそれぞれ対応する同期信号を取得することを特徴とする光走査装置。
3. ２次元的に配置された複数の光源からの複数光束を光偏向器によって被走査面上に主走査方向に走査し、前記複数光束を前記被走査面上に２次元的に結像し、書込幅以外の領域に配置された光検知手段と光検知手段に同期光束を導光する検知光学系を有し、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が副走査断面内において有する傾きをβ１、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と副走査断面内において有する傾きをβ２としたとき、β１とβ２を同符合（同じ回転方向）とし、前記複数の光源からの光束の全てに対応する同期信号を取得することを特徴とする光走査装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか１つに記載の光走査装置において、前記複数の同期信号を取得する際に用いる光偏向器の偏向反射面は、共通の面であることを特徴とする光走査装置。
5. ２次元的に配置された複数の光源からの複数光束を光偏向器によって被走査面上に主走査方向に走査し、前記複数光束を前記被走査面上に２次元的に結像し、書込幅以外の領域に配置された光検知手段と光検知手段に同期光束を導光する検知光学系を有し、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が副走査断面内において有する傾きをβ1、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と副走査断面内において有する傾きをβ２としたとき、β１とβ２を同符合（同じ回転方向）とし、前記複数の光源からの光束のうち、少なくとも1つの光束について同期検知信号を取得し、その信号をそれ以外の光源による書込に適用する際、被走査面と光束とが有する角度によって発生する主走査方向の書込幅の差を低減するよう予め保存しておいたデータを用いた変換によって各光源の書込タイミングを補正して書込を行うことを特徴とする光走査装置。
6. 請求項１ないし５のいずれか１つに記載の光走査装置において、β１とβ２を等しくすることを特徴とする光走査装置。
7. 請求項１ないし６のいずれか１つに記載の光走査装置において、前記同期光束の進行方向に対して被走査面が主走査断面内において有する傾きをα１、該同期光束の進行方向に対して光検知手段の検知面と主走査断面内において有する傾きをα２としたとき、α１とα２を略等しくすることを特徴とする光走査装置。
8. 像担持体と、帯電手段と、光走査手段と、現像手段と、転写手段と、定着手段とを有する画像形成装置において、前記光走査手段は、請求項１ないし７のいずれか１つに記載の光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。

Images