JP2010058989A - 薄膜付きガラス基板の製造方法 - Google Patents
薄膜付きガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010058989A JP2010058989A JP2008223752A JP2008223752A JP2010058989A JP 2010058989 A JP2010058989 A JP 2010058989A JP 2008223752 A JP2008223752 A JP 2008223752A JP 2008223752 A JP2008223752 A JP 2008223752A JP 2010058989 A JP2010058989 A JP 2010058989A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- thin film
- main surface
- film
- warpage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 260
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 244
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 223
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 51
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B23/00—Re-forming shaped glass
- C03B23/02—Re-forming glass sheets
- C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B23/00—Re-forming shaped glass
- C03B23/02—Re-forming glass sheets
- C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
- C03B23/025—Re-forming glass sheets by bending by gravity
- C03B23/0252—Re-forming glass sheets by bending by gravity by gravity only, e.g. sagging
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】薄膜形成後の最終状態においてガラス基板10の主面10aが平坦となるように、ガラス基板10を塑性変形させることによりガラス基板10の主面10aを湾曲した形状とする変形工程と、塑性変形させたガラス基板10の主面10a上に薄膜11を形成する薄膜形成工程とを行う。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施形態において製造する対象となる薄膜付きガラス基板1の断面図である。まず、図1を参照しつつ薄膜付きガラス基板1の構成について説明する。
ガラス基板10を塑性変形させる方法としては、例えば、以下の方法(1)〜(5)が挙げられる。
(1)ガラス基板10を歪点よりも50℃低い温度以上に加熱して変形させる方法
(2)成形型を用いてガラス基板10をプレス成形する方法
(3)ガラス基板10の一方の主面側をイオン強化する方法
(4)ガラス基板10の一方の主面を研磨する方法
(5)ガラス基板10の一方の主面側にアルゴンプラズマを照射する方法
薄膜11の成膜方法は、薄膜11の種類などに応じて適宜選択することができる。薄膜11の成膜方法としては、例えば、スパッタリング法や蒸着法などの気相法や、ゾルゲル法やスピンコート法などのウエット法などが挙げられる。
上記第1の実施形態では、薄膜11を1層のみ形成する例について説明したが、本発明の薄膜付きガラス基板の製造方法は、複数の薄膜が積層された薄膜積層体をガラス基板10の主面10a、10b上に形成する場合にも適用される。この場合は、薄膜11を1層のみ形成する場合と比較して、冷却工程においてガラス基板に加わる膜応力が大きくなりやすい。このため、薄膜付きガラス基板に大きな反りが発生する傾向にある。従って、本発明の薄膜付きガラス基板の製造方法を適用することが効果的である。
上記実施形態では、ガラス基板10の一方の主面10aにのみ薄膜11を形成する例について説明した。但し、本発明はこの構成に限定されない。
上記第1の実施形態では、ガラス基板10が、平坦な一対の主面10a、10bを有する例について説明したが、ガラス基板10の形状は、主面10aを有するものである限り特に限定されない。例えば、第2の主面10bが凸状または凹状に形成されていてもよい。
本実験例では、ガラス基板10を塑性変形させる工程において、ガラス基板10を歪点以上の温度で保持する保持時間を変化させることによってガラス基板10の反り量を調節できることを確認する実験を行った。
円盤状のガラス基板(日本電気硝子(株)社製 製品名「ABC」、直径:200mm、厚さ:0.4mm、歪点:650℃、ガラス転移温度:705℃、軟化温度:950℃)を5枚用意し、各ガラス基板の反り量を上記実験例と同じ方法で測定した。5枚のガラス基板の最大反り量は、0〜0.05mmであった。
円盤状のガラス基板(日本電気硝子(株)社製 製品名「ABC」、直径:200mm、厚さ:0.4mm、歪点:650℃、ガラス転移温度:705℃、軟化温度:950℃)を5枚用意し、各ガラス基板の反り量を上記実験例と同じ方法で測定した。5枚のガラス基板の最大反り量は、0〜0.05mmであった。
2…撮像素子
2a…受光面
3…撮像素子ユニット
10…ガラス基板
10a…第1の主面
10b…第2の主面
11、11a、11b…薄膜
20…治具
20a…開口
20b…切欠部
21…定盤
22…シックネスゲージ
Claims (7)
- ガラス基板の主面上に薄膜が形成された薄膜付きガラス基板を製造する方法であり、前記薄膜形成後、前記薄膜が前記ガラス基板に対し前記薄膜の面方向に相対的に膨張または収縮することにより前記ガラス基板が変形する薄膜付きガラス基板の製造方法であって、
前記薄膜形成後の最終状態において前記ガラス基板の前記主面が平坦となるように、前記ガラス基板を塑性変形させることにより前記ガラス基板の前記主面を湾曲した形状とする変形工程と、
前記塑性変形させたガラス基板の主面上に前記薄膜を形成する薄膜形成工程とを備えることを特徴とする薄膜付きガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板の塑性変形は、前記ガラス基板を歪点より50℃低い温度以上の温度に加熱した状態で行うことを特徴とする請求項1に記載の薄膜付きガラス基板の製造方法。
- 前記変形工程は、前記主面が凸状となるように前記ガラス基板を塑性変形させる工程であることを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜付きガラス基板の製造方法。
- 前記変形工程は、前記主面が凹状となるように前記ガラス基板を塑性変形させる工程であることを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜付きガラス基板の製造方法。
- 前記薄膜をスパッタリング法または蒸着法により形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の薄膜付きガラス基板の製造方法。
- 前記薄膜を複数積層して形成することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の薄膜付きガラス基板の製造方法。
- 前記薄膜付きガラス基板は、撮像素子に貼付される赤外線カットフィルタであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の薄膜付きガラス基板の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008223752A JP5304112B2 (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 薄膜付きガラス基板の製造方法 |
US13/061,187 US20110154861A1 (en) | 2008-09-01 | 2009-08-21 | Manufacturing method for glass substrate with thin film |
KR1020117003798A KR101614179B1 (ko) | 2008-09-01 | 2009-08-21 | 박막 형성 유리 기판의 제조 방법 |
PCT/JP2009/004014 WO2010023853A2 (ja) | 2008-09-01 | 2009-08-21 | 薄膜付きガラス基板の製造方法 |
CN2009801342022A CN102137820A (zh) | 2008-09-01 | 2009-08-21 | 带有薄膜的玻璃基板的制造方法 |
TW098128637A TWI432386B (zh) | 2008-09-01 | 2009-08-26 | 附薄膜之玻璃基板的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008223752A JP5304112B2 (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 薄膜付きガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010058989A true JP2010058989A (ja) | 2010-03-18 |
JP5304112B2 JP5304112B2 (ja) | 2013-10-02 |
Family
ID=41722053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008223752A Active JP5304112B2 (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 薄膜付きガラス基板の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110154861A1 (ja) |
JP (1) | JP5304112B2 (ja) |
KR (1) | KR101614179B1 (ja) |
CN (1) | CN102137820A (ja) |
TW (1) | TWI432386B (ja) |
WO (1) | WO2010023853A2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011230944A (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 光学フィルム及びその製造方法 |
JP2012213149A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-11-01 | Nikon Corp | 撮像ユニットおよび撮像装置 |
JP2015137414A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社アルバック | 成膜方法 |
WO2019044779A1 (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-07 | Agc株式会社 | 膜付きガラス基板の製造方法、膜付きガラス基板、および膜の除去方法 |
KR20190134682A (ko) | 2017-03-30 | 2019-12-04 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 가고정 기판 및 전자 부품의 가고정 방법 |
KR20190135023A (ko) | 2017-03-30 | 2019-12-05 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 가고정 기판 및 전자 부품의 몰드 방법 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10953633B2 (en) | 2012-08-31 | 2021-03-23 | Corning Incorporated | Strengthened thin glass-polymer laminates |
JP6910299B2 (ja) * | 2015-01-14 | 2021-07-28 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス基板およびそれを備えたディスプレイ装置 |
CN107428583B (zh) * | 2015-03-20 | 2020-05-29 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 成形玻璃制品和用于生产这种成形玻璃制品的方法 |
TWI673240B (zh) * | 2016-01-28 | 2019-10-01 | 積創科技股份有限公司 | 具有弧面結構之玻璃及其製造方法 |
JP6968086B2 (ja) | 2016-03-17 | 2021-11-17 | コーニング インコーポレイテッド | 曲げられる電子デバイスモジュールおよび物品、並びにそれを製造するための結合方法 |
US10899660B2 (en) | 2016-05-19 | 2021-01-26 | Apple Inc. | Asymmetric chemical strengthening |
TWI655160B (zh) * | 2016-05-19 | 2019-04-01 | 美商蘋果公司 | 非對稱化學強化 |
CN106565111A (zh) * | 2016-10-27 | 2017-04-19 | 广东星弛光电科技有限公司 | 一种3d玻璃视窗防护屏的复合印刷制备工艺 |
US11286201B2 (en) * | 2017-01-31 | 2022-03-29 | AGC Inc. | Cover glass and glass laminate |
US11639307B2 (en) | 2018-07-13 | 2023-05-02 | Apple Inc. | Patterned asymmetric chemical strengthening |
US11447416B2 (en) | 2018-12-20 | 2022-09-20 | Apple Inc. | Strengthened covers for electronic devices |
CN113544819B (zh) * | 2019-03-22 | 2024-01-05 | 日本碍子株式会社 | 预固定基板、复合基板以及电子元件的剥离方法 |
CN114716139A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-07-08 | 安徽精卓光显技术有限责任公司 | 玻璃盖板的制备方法及玻璃盖板、屏幕及电子设备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006528932A (ja) * | 2003-05-19 | 2006-12-28 | サン−ゴバン グラス フランス | 複数の支持体上でのガラス要素の重力式曲げ |
JP2007334087A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Epson Toyocom Corp | 光学部品の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1309333A (en) * | 1970-01-19 | 1973-03-07 | Glaverbel | Process for bending glass |
JPH1180928A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-26 | Ricoh Co Ltd | 薄膜形成方法および装置 |
US20060087739A1 (en) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Jds Uniphase Corporation | Low net stress multilayer thin film optical filter |
JP2007193132A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Seiko Epson Corp | 光学部品の製造方法 |
JP2007241018A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Epson Toyocom Corp | 全反射ミラー |
-
2008
- 2008-09-01 JP JP2008223752A patent/JP5304112B2/ja active Active
-
2009
- 2009-08-21 WO PCT/JP2009/004014 patent/WO2010023853A2/ja active Application Filing
- 2009-08-21 US US13/061,187 patent/US20110154861A1/en not_active Abandoned
- 2009-08-21 KR KR1020117003798A patent/KR101614179B1/ko active IP Right Grant
- 2009-08-21 CN CN2009801342022A patent/CN102137820A/zh active Pending
- 2009-08-26 TW TW098128637A patent/TWI432386B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006528932A (ja) * | 2003-05-19 | 2006-12-28 | サン−ゴバン グラス フランス | 複数の支持体上でのガラス要素の重力式曲げ |
JP2007334087A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Epson Toyocom Corp | 光学部品の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011230944A (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 光学フィルム及びその製造方法 |
JP2012213149A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-11-01 | Nikon Corp | 撮像ユニットおよび撮像装置 |
US8866061B2 (en) | 2011-03-23 | 2014-10-21 | Nikon Corporation | Image capturing unit and image capturing device |
JP2015137414A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社アルバック | 成膜方法 |
KR20190134682A (ko) | 2017-03-30 | 2019-12-04 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 가고정 기판 및 전자 부품의 가고정 방법 |
KR20190135023A (ko) | 2017-03-30 | 2019-12-05 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 가고정 기판 및 전자 부품의 몰드 방법 |
WO2019044779A1 (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-07 | Agc株式会社 | 膜付きガラス基板の製造方法、膜付きガラス基板、および膜の除去方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010023853A3 (ja) | 2010-04-08 |
WO2010023853A2 (ja) | 2010-03-04 |
KR101614179B1 (ko) | 2016-04-20 |
CN102137820A (zh) | 2011-07-27 |
TWI432386B (zh) | 2014-04-01 |
JP5304112B2 (ja) | 2013-10-02 |
KR20110073425A (ko) | 2011-06-29 |
US20110154861A1 (en) | 2011-06-30 |
TW201022168A (en) | 2010-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5304112B2 (ja) | 薄膜付きガラス基板の製造方法 | |
KR102466067B1 (ko) | 인장력을 사용한 이미지 센서 벤딩 | |
US9163150B2 (en) | Heat treatable four layer anti-reflection coating | |
JP2016139138A (ja) | 反射低減層系の製造方法及び反射低減層系 | |
JP2019117421A (ja) | 回折光学素子およびその製造方法 | |
CN114156168A (zh) | 一种复合晶圆加工方法及采用其制备的超表面 | |
JP2011023438A (ja) | 基板接合体の製造方法 | |
JP4666217B2 (ja) | フォトニック結晶の製造方法 | |
JP5838777B2 (ja) | 成形用型の製造方法 | |
JP2007193132A (ja) | 光学部品の製造方法 | |
JP4443425B2 (ja) | 光学多層膜素子 | |
WO2006092919A1 (ja) | 光学素子及び光学素子の製造方法 | |
US20120132349A1 (en) | Method for producing tunable interference filter | |
TW202037930A (zh) | 光學元件及光學元件之製造方法 | |
JP2009102197A (ja) | 光学素子製造方法 | |
JP2005241740A (ja) | 反射防止膜の製造方法 | |
JP2010072451A (ja) | 光学素子、撮像装置、電子機器、および光学素子の製造方法 | |
JP2011002627A (ja) | 反射防止膜を有するレンズ及びその製造方法 | |
JP5667261B2 (ja) | 光学フィルタ | |
KR20080042476A (ko) | 내열기능을 가지는 다층박막 안경렌즈 | |
JP2022034713A (ja) | 光学部材及びその製造方法 | |
KR20240037628A (ko) | 그래핀이 함유된 고강도 내열 안경렌즈 제조방법 | |
JPH0693042B2 (ja) | 反射防止膜 | |
JP5362969B2 (ja) | 光学素子 | |
JP2003307616A (ja) | 誘電体多層膜フィルタとその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130528 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130610 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5304112 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |