CN114716139A - 玻璃盖板的制备方法及玻璃盖板、屏幕及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种玻璃盖板的制备方法及玻璃盖板、屏幕及电子设备，该玻璃盖板的制备方法包括：提供玻璃基板；对玻璃基板进行加热处理，以使玻璃基板软化；对软化后的玻璃基板的面轮廓沿玻璃基板的厚度方向进行预变形处理；在玻璃基板上镀设抗刮花膜层；其中，玻璃基板的预变形的方向与玻璃基板在镀设抗刮花膜层时变形的方向相反。该制备方法能够保证玻璃盖板的平面度。

Description

玻璃盖板的制备方法及玻璃盖板、屏幕及电子设备

技术领域

本申请涉及电子产品技术领域，尤其涉及一种玻璃盖板的制备方法及玻璃盖板、屏幕及电子设备。

背景技术

电子产品如手机屏幕的盖板通常为玻璃盖板，玻璃盖板由玻璃基板加工而成。手机在佩戴或放置的时候，玻璃盖板会与配饰、桌面等发生碰撞或摩擦，从而使得玻璃盖板上产生较为明显的划痕。

为了减少玻璃盖板的划痕，通常会在玻璃基板上镀设抗刮花膜，能够使镀设有抗刮花膜的玻璃基板形成的玻璃盖板的抗刮花能力较强，但是，在玻璃基板上镀设抗刮花膜时，玻璃基板经常会出现翘曲变形的情况，导致通过玻璃基板加工而成的玻璃盖板的平面度较差。

发明内容

针对现有技术中上述不足，本发明提供了一种抗刮花玻璃的制备方法，能够保证玻璃盖板的平面度。

为了解决上述技术问题，第一方面，本发明提供了一种玻璃盖板的制备方法，该制备方法包括：

提供玻璃基板；

对所述玻璃基板进行加热处理，以使所述玻璃基板软化；

对软化后的所述玻璃基板的面轮廓沿所述玻璃基板的厚度方向进行预变形处理；

在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层；

其中，所述玻璃基板的预变形的方向与所述玻璃基板在镀设所述抗刮花膜层时变形的方向相反。

由于在玻璃基板未镀抗刮花膜层之前对软化后的玻璃基板的面轮廓沿玻璃基板的厚度方向进行预变形处理，且玻璃基板的预变形的方向与玻璃基板在镀设抗刮花膜层时变形的方向相反，因此，当玻璃基板上镀设抗刮花膜层时，沿玻璃基板的厚度方向，玻璃基板能够在抗刮花膜层的应力作用沿与玻璃基板预变形的相反方向发生变形，从而使得玻璃基板在镀设抗刮花膜层时的变形与玻璃基板的预变形能够相互抵消，也即是说，玻璃基板的预变形能够补偿玻璃基板在镀设抗刮花膜层过程中的变形，从而保证了镀设有抗刮花膜层的玻璃基板的平面度。另外，由于在玻璃基板上镀设有抗刮花膜层，一方面能够提高玻璃基板的抗刮花能力，另一方面，还能提高玻璃基板的增透性能。

在第一方面可能的实现方式中，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层包括：

将所述玻璃基板放置于氮气环境中；

对所述玻璃基板溅射硅靶材和铝靶材，以使硅粒子、铝粒子和氮气共同作用形成氮化硅铝的所述抗刮花膜层镀设于所述玻璃基板上。

具体地，在氮气环境中，采用射频磁控溅射工艺，同时溅射一对硅靶材和一对铝靶材，使得从硅靶材上下来的硅粒子和从铝靶材上下来的铝粒子同时溅沉于玻璃基板上，并且使用射频离子源激发氮气得到氮离子，氮离子能够与硅粒子和铝粒子发生化合反应，以形成氮化硅铝的抗刮花膜层，由于氮化硅铝为超硬材料，且具有耐磨损、抗氧化、抵抗冷热冲击等优点，因此，氮化硅铝形成的抗刮花膜层的耐磨性更好。

在第一方面可能的实现方式中，所述在所述对软化后的所述玻璃基板的面轮廓沿所述玻璃基板的厚度方向进行预变形处理之后，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层之前，所述制备方法还包括：

在所述玻璃基板上镀设第一抗眩光层；

其中，所述第一抗眩光层包括至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅层，所述氮化铝硅层和所述二氧化硅层交替层叠设置。

由于在玻璃基板上镀设第一抗眩光层，且第一抗眩光层包括相互交替设置的至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅，其中，氮化铝硅层为高折射率的材质，二氧化硅为低折射率的材质，且光线在高折射率材料层和低折射率材料层的交界面能够实现减反射的效果，因此，当在玻璃基板上交替镀设至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅时，能够减少反射光，提高光透率。另外，由于氮化铝硅和二氧化硅均为硬度较大的材质，因此，能够进一步提高玻璃基板的防刮花效果。

在第一方面可能的实现方式中，所述在所述对软化后的所述玻璃基板的面轮廓沿所述玻璃基板的厚度方向进行预变形处理之后，所述在所述玻璃基板上镀设第一抗眩光层之前，所述制备方法还包括：

对所述玻璃基板进行抛光处理；

将抛光后的所述玻璃基板侵入至碱金属熔盐中，使所述玻璃基板的表面形成表面压应力层。

当玻璃基板预变形之后，玻璃基板上会粘附碳纤维颗粒或者玻璃基板上具有微裂纹等，因此，需要对玻璃基板的表面进行研磨，以使玻璃基板的表面光滑，同时防止了玻璃基板表面形成的微裂纹扩展。

将抛光后的玻璃基板全部浸入至碱金属熔盐中，使抛光后的玻璃基板的表面的预设深度内的金属离子与碱金属熔盐中的金属离子互换，形成表面压应力层，以提高抛光后的玻璃基板的强度。

在第一方面可能的实现方式中，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层之后，所述制备方法还包括：

在所述抗刮花膜层上镀设第二抗眩光层；

其中，所述第二抗眩光层包括至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅层，所述氮化铝硅层和所述二氧化硅层交替层叠设置。

由于氮化铝硅层为高折射率材质，二氧化硅为低折射率材质，且光线在高折射率材料层和低折射率材料层的交界面能够实现减反射的效果，因此，当在抗刮花膜层上交替镀设至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅时，能够进一步减少反射光，提高光透率，另外，由于氮化铝硅和二氧化硅均为硬度较大的材质，因此，能够进一步提高抗刮花膜层的防刮花效果。

在第一方面可能的实现方式中，所述在所述抗刮花膜层上镀设第二抗眩光层之后，所述制备方法还包括：

在所述玻璃基板背离所述抗刮花膜层的一侧表面贴附装饰膜；

在所述第二抗眩光层上镀设高透防指纹AF膜。

由于装饰膜能够改变玻璃盖板的颜色、图案等，因此，通过在玻璃基板背离抗刮花膜层的一侧表面贴附装饰膜能够提高玻璃盖板的多样性。

又由于高透防指纹AF膜既具有防指纹、防油、防灰尘等优点，又具有很高的透光率，因此，通过在第二抗眩光层镀设高透防指纹AF膜，能够提高盖板表面的洁净度和透光性，进而提高用户的使用体验。

在第一方面可能的实现方式中，所述提供玻璃基板包括：

将大片玻璃母片分隔成若干个符合预设尺寸的毛坯玻璃基板；

对所述毛坯玻璃基板进行CNC加工，得到所述玻璃基板。

由于，CNC加工具有适应性强、灵活性好、加工精度高等优点，同时，CNC加工能加工轮廓形状特别复杂或难以控制尺寸的零件，因此，通过对毛坯玻璃基板进行CNC加工，能够得到预设尺寸要求的玻璃基板，提高了玻璃基板的尺寸精度和加工效率。

由此，能够将大片玻璃母片依次通过切割和CNC加工形成所需的玻璃基板，同时，提高了玻璃基板加工的尺寸精度和加工效率。

在第一方面可能的实现方式中，所述在所述对所述玻璃基板进行加热处理之后，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层之前，所述制备方法还包括：

对软化后的所述玻璃基板的边缘进行挤压弯折，以使所述玻璃基板的边缘形成弧形曲面。

通过对软化后的玻璃基板的边缘进行挤压弯折处理，能够使玻璃基板加工形成的玻璃盖板适用于曲面屏的电子产品。

在第一方面可能的实现方式中，沿所述玻璃基板的厚度方向，所述玻璃基板的预变形位移为S，0.2mm≤S≤0.25mm。

由于玻璃基板的面轮廓沿玻璃基板的厚度方向凸部或凹进的距离通常大于0.2mm且不大于0.25mm，因此，当玻璃基板的预变形位移小于0.2mm时，因镀完抗刮花膜层的玻璃基板的变形大于玻璃基板的预变形位移导致镀设完抗刮花层的玻璃基板的平面度无法保证。当玻璃基板的预变形位移大于0.25mm时，因镀完抗刮花膜层的玻璃基板的变形小于玻璃基板的预变形位移导致镀设完抗刮花层的玻璃基板的平面度无法保证。综上，当玻璃基板的预变形位移为S，0.2mm≤S≤0.25mm时，能够有效的保证镀完抗刮花膜层的玻璃基板的平面度。

在第一方面可能的实现方式中，所述抗刮花膜层的厚度为H，400nm≤H≤4000nm。

当抗刮花膜层的厚度小于400nm时，由于抗刮花膜层的厚度太薄，容易使玻璃基板被刮花，当抗刮花膜层的厚度大于4000nm时，由于抗刮花膜层太厚，导致玻璃基板在镀设抗刮花膜层时的变形较大，难以保证镀设完抗刮花膜层的玻璃基板的平面度，同时，会使得镀设完抗刮花膜层的玻璃基板变得厚重，因此，综合考虑使得抗刮花膜层的厚度在400nm～4000nm之间，既能保证玻璃基板的抗刮花性能，还能保证镀设完抗刮花膜层的玻璃基板的平面度。

第二方面，本发明还提供了一种玻璃盖板，所述玻璃盖板采用第一方面的玻璃盖板的制备方法制备形成。

本发明提供的玻璃盖板，由于采用了第一方面的制备方法制造而成，因此，该玻璃盖板能够保证镀设完抗刮花膜层的玻璃盖板的平面度

第三方面，本发明还提供了一种屏幕，所述屏幕包括第二方面的玻璃盖板。

本发明提供的屏幕包括第二方面的玻璃盖板，且第二方面的玻璃盖板的平面度得到了保证，因此，玻璃盖板与屏幕之间的匹配性较好。

第四方面，本发明还提供了一种电子设备，所述电子设备采用第三方面的屏幕。

本发明提供的电子设备，由于采用了第三方面的屏幕，且玻璃盖板与屏幕之间的匹配性较好，因此，该电子设备的使用寿命较长，用户体验较好。

与现有技术相比，本申请至少具有如下有益效果：

本申请中，在玻璃基板未镀抗刮花膜层之前对软化后的玻璃基板的面轮廓沿玻璃基板的厚度方向进行预变形处理，且玻璃基板的预变形的方向与玻璃基板在镀设抗刮花膜层时变形的方向相反，因此，当玻璃基板上镀设抗刮花膜层时，沿玻璃基板的厚度方向，玻璃基板能够在抗刮花膜层的应力作用沿与玻璃基板预变形的相反方向发生变形，从而使得玻璃基板在镀设抗刮花膜层时的变形与玻璃基板的预变形能够相互抵消，也即是说，玻璃基板的预变形能够补偿玻璃基板在镀设抗刮花膜层过程中的变形，从而保证了镀设有抗刮花膜层的玻璃基板的平面度。另外，由于在玻璃基板上镀设有抗刮花膜层，一方面能够提高玻璃基板的抗刮花能力，另一方面，还能提高玻璃基板的增透性能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的镀设完抗刮花膜层的玻璃基板的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的玻璃盖板的制备方法的流程图；

图3为本申请实施例提供的玻璃基板预变形后的状态示意图；

图4为本申请实施例提供的玻璃基板在镀设抗刮花膜层时的变形示意图；

图5为本申请实施例提供玻璃基板的流程图；

图6为本申请实施例提供的在玻璃基板上镀设抗刮花膜层的流程图；

图7为图1中A处的局部放大示意图；

图8为本申请实施例提供的在玻璃基板上镀设第一抗眩光层的流程图；

图9为本申请实施例提供的对玻璃基板进行强化处理的流程图；

图10为本申请实施例提供的在玻璃基板上镀设第二抗眩光层的流程图；

图11为本申请实施例提供的在玻璃基板上镀设装饰膜和高透防指纹AF膜的流程图；

图12为本申请实施例提供的对玻璃基板进行热弯处理的流程图。

附图标记说明：

110-玻璃基板；120-抗刮花膜层。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本发明及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。

并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本发明中的具体含义。

此外，术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”应做广义理解。例如，可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，术语“第一”、“第二”等主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分(具体的种类和构造可能相同也可能不同)，并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量。除非另有说明，“多个”的含义为两个或两个以上。

电子产品如手机屏幕的盖板通常为玻璃盖板，玻璃盖板由玻璃基板加工而成。手机在佩戴或放置的时候，玻璃盖板会与配饰、桌面等发生碰撞或摩擦，从而使得玻璃盖板上产生较为明显的划痕。

为了减少玻璃盖板的划痕，通常会在玻璃基板上镀设抗刮花膜，能够使镀设有抗刮花膜的玻璃基板形成的玻璃盖板的抗刮花能力较强，但是，在玻璃基板上镀设抗刮花膜时，玻璃基板经常会出现翘曲变形的情况，导致通过玻璃基板加工而成的玻璃盖板的平面度较差。

鉴于此点，本发明实施例提供了一种抗刮花玻璃的制备方法，能够保证玻璃盖板的平面度。

下面通过具体的实施例对本申请进行详细说明：

如图1是本申请实施例提供的镀设完抗刮花膜层的玻璃基板的结构示意图。图2是本申请实施例提供的玻璃盖板的制备方法的流程图。请结合参照图1和图2，本申请实施例提供了一种玻璃盖板的制备方法，该制备方法包括：

S100、提供玻璃基板。

上述玻璃基板110是指玻璃基板110的尺寸、形状等均符合预设要求的玻璃基板110。

例如，玻璃基板110为手机的屏幕的玻璃盖板。

S200、对玻璃基板进行加热处理，以使玻璃基板软化。

具体地，可将玻璃基板110放置在真空环境中进行加热至预设温度，直至玻璃基板110软化，以便于后面工序的加工。其中，预设温度可根据实际情况进行设定，例如，预设温度为690±10℃。

结合参照图3，S300、对软化后的玻璃基板沿玻璃基板的厚度方向进行预变形处理。

示例地，如图3所示，在玻璃基板110在镀设抗刮花膜层的过程中，若玻璃基板110的中部沿X1箭头所示的方向凸出变形，此时，玻璃基板110沿玻璃基板110的厚度方向的预变形是指在软化后的玻璃基板110的中部施加作用力，使得软化后的玻璃基板110沿X2的方向变形。结合参照图4，S400、在玻璃基板上镀设抗刮花膜层。

玻璃基板110在镀设抗刮花膜层120时，由于镀设抗刮花膜的时间较长，且抗刮花膜的厚度较厚，因此，抗刮花膜层120本身能够产生较大的压应力作用于玻璃基板110，从而使玻璃基板110发生变形，影响玻璃盖板的平面度，进而导致玻璃盖板出现贴合不良或者不能贴合的问题。基于此，为了保证镀完抗刮花膜层120的玻璃基板110的平面度，在玻璃基板110未镀抗刮花膜层120之前对软化后的玻璃基板110的面轮廓沿玻璃基板110的厚度方向进行预变形处理，且玻璃基板110的预变形的方向与玻璃基板110在镀设抗刮花膜层120时变形的方向相反，由此，当玻璃基板110上镀设抗刮花膜层120时，沿玻璃基板110的厚度方向，玻璃基板110能够在抗刮花膜层120的应力作用沿与玻璃基板110预变形的相反方向发生变形，从而使得玻璃基板110在镀设抗刮花膜层120时的变形与玻璃基板110的预变形能够相互抵消，也即是说，玻璃基板110的预变形能够补偿玻璃基板110在镀设抗刮花膜层120过程中的变形，从而保证了镀设有抗刮花膜层120的玻璃基板110的平面度。另外，由于在玻璃基板110上镀设有抗刮花膜层120，一方面能够提高玻璃基板110的抗刮花能力，另一方面，还能提高玻璃基板110的增透性能。

其中，玻璃基板110的厚度方向是指图3中X箭头所示的方向。

在一些可能实施例中，如图3所示，沿玻璃基板110的厚度方向，玻璃基板110的预变形位移为S，0.2mm≤S≤0.25mm。

其中，玻璃基板110的预变形位移是指玻璃基板110的面轮廓沿玻璃基板110的厚度方向凸出或者凹进的距离。

由于玻璃基板110的面轮廓沿玻璃基板110的厚度方向凸部或凹进的距离通常大于0.2mm且不大于0.25mm，因此，当玻璃基板110的预变形位移小于0.2mm时，因镀完抗刮花膜层120的玻璃基板110的变形大于玻璃基板110的预变形位移导致镀设完抗刮花层的玻璃基板110的平面度无法保证。当玻璃基板110的预变形位移大于0.25mm时，因镀完抗刮花膜层120的玻璃基板110的变形小于玻璃基板110的预变形位移导致镀设完抗刮花层的玻璃基板110的平面度无法保证。综上，当玻璃基板110的预变形位移为S，0.2mm≤S≤0.25mm时，能够有效的保证镀完抗刮花膜层120的玻璃基板110的平面度。在一些可能的实施例中，如图5所示，步骤S100包括：

S110、将大片玻璃母片分隔成若干个符合预设尺寸的毛坯玻璃基板。

具体地，可根据切割效率和切割工艺对大片玻璃母片进行切割，以便于后续的加工。其中，切割刀具可以为金属等制成的刀具，也可以是激光切割等。

预设尺寸是指切割形成的毛坯玻璃基板复合加工需要的尺寸，例如，加工需要的尺寸的长为25cm，宽为10cm。

S120、对毛坯玻璃基板进行CNC加工，得到玻璃基板。

其中，CNC(Computer Numerical Control，数控铣床)加工是指数控铣床加工，CNC加工具有适应性强、灵活性好、加工精度高等优点，同时，CNC加工能加工轮廓形状特别复杂或难以控制尺寸的零件，因此，通过对毛坯玻璃基板110进行CNC加工，能够得到预设尺寸要求的玻璃基板110，提高了玻璃基板110的尺寸精度和加工效率。

由此，能够将大片玻璃母片依次通过切割和CNC加工形成所需的玻璃基板110，同时，提高了玻璃基板110加工的尺寸精度和加工效率。

在一些可能的实施例中，结合参照图6，步骤S400包括：

S410、将玻璃基板110放置于氮气环境中。

S420、对玻璃基板溅射硅靶材和铝靶材，以使硅粒子、铝粒子和氮气共同作用形成氮化硅铝的抗刮花膜层镀设于玻璃基板上。

具体地，在氮气环境中，采用射频磁控溅射工艺，同时溅射一对硅靶材和一对铝靶材，使得从硅靶材上下来的硅粒子和从铝靶材上下来的铝粒子同时溅沉于玻璃基板110上，并且使用射频离子源激发氮气得到氮离子，氮离子能够与硅粒子和铝粒子发生化合反应，以形成氮化硅铝的抗刮花膜层120，由于氮化硅铝为超硬材料，且具有耐磨损、抗氧化、抵抗冷热冲击等优点，因此，氮化硅铝形成的抗刮花膜层120的耐磨性更好。

另外，采用射频磁控溅射工艺镀设的抗刮花膜层120具有膜层厚度可控、重复性好，且抗刮花膜层120与玻璃基板110之间的附着力强。

在一些可能的实施例中，如图7所示，抗刮花膜层120的厚度为H，400nm≤H≤4000nm。

当抗刮花膜层120的厚度小于400nm时，由于抗刮花膜层120的厚度太薄，容易使玻璃基板110被刮花，且增透效果较差，当抗刮花膜层120的厚度大于4000nm时，由于抗刮花膜层120太厚，导致玻璃基板110在镀设抗刮花膜层120时的变形较大，难以保证镀设完抗刮花膜层120的玻璃基板110的平面度，同时，会使得镀设完抗刮花膜层120的玻璃基板110变得厚重，因此，综合考虑使得抗刮花膜层120的厚度在400nm～4000nm之间，既能保证玻璃基板110的抗刮花性能和增透性能，还能保证镀设完抗刮花膜层120的玻璃基板110的平面度。

在一些可能的实施例中，如图8所示，在步骤S300之后，在步骤S400之前，抗刮花玻璃的制备方法还包括：

S300a、在玻璃基板上镀设第一抗眩光层。

其中，第一抗眩光层包括至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅层，氮化铝硅层和二氧化硅层交替层叠设置。

眩光是由户外强光在玻璃基板110的表面上产生反射所引起的，眩光对眼睛具有一定的影响且容易引起眼部疲劳。基于此，为了减少玻璃基板110上光线的反射，在玻璃基板110上镀设第一抗眩光层，且第一抗眩光层包括相互交替设置的至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅，由于氮化铝硅层为高折射率的材质，二氧化硅为低折射率的材质，且光线在高折射率材料层和低折射率材料层的交界面能够实现减反射的效果，因此，当在玻璃基板110上交替镀设至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅时，能够减少反射光，提高光透率。另外，由于氮化铝硅和二氧化硅均为硬度较大的材质，因此，能够进一步提高玻璃基板110的防刮花效果。

当然相互交替镀设的氮化铝硅层和二氧化硅层的层数越多，减反射效果越好。

在一些可能的实施例中，如图9所示，在步骤S300之后，在步骤S300a之前，抗刮花玻璃的制备方法还包括：

S310、对玻璃基板进行抛光处理。

当玻璃基板110预变形之后，玻璃基板110上会粘附碳纤维颗粒或者玻璃基板110上具有微裂纹等，因此，需要对玻璃基板110的表面进行研磨，以使玻璃基板110的表面光滑，同时防止了玻璃基板110表面形成的微裂纹扩展。

S320、将抛光后的玻璃基板侵入至碱金属熔盐中，使玻璃基板的表面形成表面压应力层。

具体地，将抛光后的玻璃基板110全部浸入至碱金属熔盐中，使抛光后的玻璃基板110的表面的预设深度内的金属离子与碱金属熔盐中的金属离子互换，形成表面压应力层，以提高抛光后的玻璃基板110的强度。其中，预设深度为50μm-100μm。

在一些可能的实施例中，如图10所示，在步骤S400之后，抗刮花玻璃的制备方法还包括：

S410、在抗刮花膜层上镀设第二抗眩光层。

其中，第二抗眩光层包括至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅层，氮化铝硅层和二氧化硅层交替层叠设置。

由于氮化铝硅层为高折射率材质，二氧化硅为低折射率材质，且光线在高折射率材料层和低折射率材料层的交界面能够实现减反射的效果，因此，当在抗刮花膜层120上交替镀设至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅时，能够进一步减少反射光，提高光透率，另外，由于氮化铝硅和二氧化硅均为硬度较大的材质，因此，能够进一步提高抗刮花膜层120的防刮花效果。

在一些可能的实施例中，如图11所示，在步骤S410之后，抗刮花玻璃的制备方法还包括：

S420、在玻璃基板背离抗刮花膜层的一侧表面贴附装饰膜。

具体地，装饰膜能够改变玻璃盖板的颜色、图案等，因此，通过在玻璃基板110背离抗刮花膜层120的一侧表面贴附装饰膜能够提高玻璃盖板的多样性。

S430、在第二抗眩光层上镀设高透防指纹AF膜。

由于高透防指纹AF膜既具有防指纹、防油、防灰尘等优点，又具有很高的透光率，因此，通过在第二抗眩光层镀设高透防指纹AF膜，能够提高盖板表面的洁净度和透光性，进而提高用户的使用体验。

在一些玻璃盖板的制备过程中，需要使玻璃盖板的边缘弯折，以适用于曲面屏的电子产品，基于此，在一些可能的实施例中，如图12所示，在步骤S200之后，在步骤S400之前，抗刮花玻璃的制备方法还包括：

S200a、对软化后的玻璃基板的边缘进行挤压弯折，以使玻璃基板的边缘形成弧形曲面。

具体地，对软化后的玻璃基板110进行挤压弯折，使玻璃基板110的上下两个表面边缘形成弧形曲面，而玻璃基板110的表面的中间部分仍为平面。

由此，通过对软化后的玻璃基板110的边缘进行挤压弯折处理，能够使玻璃基板110加工形成的玻璃盖板适用于曲面屏的电子产品。

本申请实施例还提供了一种玻璃盖板，该玻璃盖板采用上述的玻璃盖板的制备方法制备形成。

由于本实施例提供的玻璃盖板采用上述的玻璃盖板的制备方法形成，因此，该玻璃盖板能够保证镀设完抗刮花膜层120的玻璃盖板的平面度。

本申请实施例还提供了一种屏幕，该屏幕包括上述的玻璃盖板。

由于本实施例的平面包括上述的玻璃盖板，且上述的玻璃盖板的平面度得到了保证，因此，玻璃盖板与屏幕之间的匹配性较好。

本申请实施例还提供了一种电子设备，该电子设备包括上述的屏幕。

由于本申请实施例提供的电子设备包括上述的屏幕，且屏幕与玻璃盖板之间的匹配性较好，因此，提高了电子设备的使用寿命和用户体验。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (13)

1.一种玻璃盖板的制备方法，其特征在于，包括：

提供玻璃基板；

对所述玻璃基板进行加热处理，以使所述玻璃基板软化；

对软化后的所述玻璃基板沿所述玻璃基板的厚度方向进行预变形处理；

在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层；

其中，所述玻璃基板的预变形的方向与所述玻璃基板在镀设所述抗刮花膜层时变形的方向相反。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层包括：

将所述玻璃基板放置于氮气环境中；

对所述玻璃基板溅射硅靶材和铝靶材，以使硅粒子、铝粒子和氮气共同作用形成氮化硅铝的所述抗刮花膜层镀设于所述玻璃基板上。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对软化后的所述玻璃基板沿所述玻璃基板的厚度方向进行预变形处理之后，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层之前，所述制备方法还包括：

在所述玻璃基板上镀设第一抗眩光层；

其中，所述第一抗眩光层包括至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅层，所述氮化铝硅层和所述二氧化硅层交替层叠设置。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述对软化后的所述玻璃基板沿所述玻璃基板的厚度方向进行预变形处理之后，所述在所述玻璃基板上镀设第一抗眩光层之前，所述制备方法还包括：

对所述玻璃基板进行抛光处理；

将抛光后的所述玻璃基板侵入至碱金属熔盐中，使所述玻璃基板的表面形成表面压应力层。

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层之后，所述制备方法还包括：

在所述抗刮花膜层上镀设第二抗眩光层；

其中，所述第二抗眩光层包括至少一层氮化铝硅层和至少一层二氧化硅层，所述氮化铝硅层和所述二氧化硅层交替层叠设置。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在所述抗刮花膜层上镀设第二抗眩光层之后，所述制备方法还包括：

在所述玻璃基板背离所述抗刮花膜层的一侧表面贴附装饰膜；

在所述第二抗眩光层上镀设高透防指纹AF膜。

7.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述提供玻璃基板包括：

将大片玻璃母片分隔成若干个符合预设尺寸的毛坯玻璃基板；

对所述毛坯玻璃基板进行CNC加工，得到所述玻璃基板。

8.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述对所述玻璃基板进行加热处理之后，所述在所述玻璃基板上镀设抗刮花膜层之前，所述制备方法还包括：

对软化后的所述玻璃基板的边缘进行挤压弯折，以使所述玻璃基板的边缘形成弧形曲面。

9.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，沿所述玻璃基板的厚度方向，所述玻璃基板的预变形位移为S，0.2mm≤S≤0.25mm。

10.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述抗刮花膜层的厚度为H，400nm≤H≤4000nm。

11.一种玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板采用权利要求1-10任一项所述的玻璃盖板的制备方法制备形成。

12.一种屏幕，其特征在于，所述屏幕包括权利要求11所述的玻璃盖板。

13.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求12所述的屏幕。

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