JP2010023199A - 研磨用組成物及び研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の研磨用組成物は、コロイダルシリカなどの砥粒と、バナジン酸ナトリウムやバナジン酸カリウム、バナジン酸アンモニウムなどのバナジン酸塩と、過酸化水素と、水溶性高分子とを含有する。研磨用組成物中に含まれる水溶性高分子は、ペクチンやデキストリン、アラビアガム、ラムダカラギーナン、プルラン、デンプン、ローカストビーンガム、キサンタンガム、カッパカラギーナン、イオタカラギーナン、ヒドロキシエチルセルロース、グアーガムなどの水溶性多糖であることが好ましい。
【選択図】なし
Description
本実施形態の研磨用組成物は、砥粒、バナジン酸塩、過酸化水素及び水溶性高分子を水に混合することにより製造される。従って、研磨用組成物は、砥粒、バナジン酸塩、過酸化水素、水溶性高分子及び水を含有する。
本実施形態の研磨用組成物は、六方晶炭化ケイ素単結晶基板を機械的に研磨する作用を有する砥粒に加え、研磨用組成物による六方晶炭化ケイ素単結晶基板の研磨速度を向上させる働きをするバナジン酸塩及び過酸化水素を含むために、六方晶炭化ケイ素単結晶基板を高い研磨速度で研磨することが可能である。そのうえ、研磨用組成物は、六方晶炭化ケイ素単結晶基板の表面の研磨時と裏面の研磨時とで基板と研磨パッドの間の摩擦抵抗に生じる可能性のある差を小さくする働きをする水溶性高分子も含有している。そのため、研磨用組成物は、六方晶炭化ケイ素単結晶基板の表面及び裏面を同時に研磨する用途において好適に使用することができる。
・ 前記実施形態の研磨用組成物には必要に応じてpH調整剤を添加してもよい。pH調整剤の種類は特に限定されるものでなく、研磨用組成物のpHを所望の値とするために適宜の量のいずれの酸又はアルカリが使用されてもよい。ただし、研磨用組成物がバナジン酸塩としてバナジン酸ナトリウムを含有している場合、安定性の観点からは、pH調整剤として使用されるアルカリは水酸化ナトリウムであることが好ましい。同様に、研磨用組成物がバナジン酸カリウムを含有している場合には、使用されるアルカリは水酸化カリウムであることが好ましく、研磨用組成物がバナジン酸アンモニウムを含有している場合には、使用されるアルカリはアンモニアであることが好ましい。
・ 前記実施形態の研磨用組成物には二種類以上のバナジン酸塩が含有されてもよい。
・ 前記実施形態の研磨用組成物には必要に応じて界面活性剤、消泡剤、防カビ剤のような公知の添加剤を添加してもよい。
・ 前記実施形態の研磨用組成物中に含まれる水は、必要に応じて省略されてもよい。この場合、研磨用組成物は、砥粒、バナジン酸塩、過酸化水素及び水溶性高分子を混合することにより製造される。
実施例1〜12では、砥粒としてのコロイダルシリカ、バナジン酸塩としてバナジン酸ナトリウム、過酸化水素及び水溶性高分子を水と混合することにより研磨用組成物を調製した。比較例1〜8では、コロイダルシリカ、バナジン酸ナトリウム、過酸化水素、及び水溶性高分子又はそれに代わる化合物を適宜に水と混合することにより研磨用組成物を調製した。各例の研磨用組成物中のコロイダルシリカ、バナジン酸ナトリウム、過酸化水素、及び水溶性化合物又はそれに代わる化合物の詳細を表1に示す。なお、実施例1〜12及び比較例1〜8の研磨用組成物中に含有されているコロイダルシリカはいずれも、平均一次粒子径が35nmである。
・ pHが4〜9である請求項1又は2に記載の研磨用組成物。
・ 研磨用組成物中の水溶性高分子の含有量が0.1〜20g/Lである請求項1又は2に記載の研磨用組成物。
Claims (4)
- 砥粒、バナジン酸塩、過酸化水素及び水溶性高分子を含有することを特徴とする研磨用組成物。
- 前記水溶性高分子が水溶性多糖である請求項1に記載の研磨用組成物。
- 前記水溶性多糖が、ペクチン、デキストリン、アラビアガム、ラムダカラギーナン、プルラン、デンプン、ローカストビーンガム、キサンタンガム、カッパカラギーナン、イオタカラギーナン、ヒドロキシエチルセルロース又はグアーガムである請求項2に記載の研磨用組成物。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の研磨用組成物を用いて、六方晶炭化ケイ素単結晶基板の表面と裏面を同時あるいは順次に研磨することを特徴とする研磨方法。
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