JP2015199839A - 研磨用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
Dp=6000/ρ・Sa
(但し、Dp:平均粒子径(nm)、Sa:BET法比表面積(cm2/g)、ρ:密度(g/cm3))
過金属酸、脂肪酸遷移金属塩、砥粒、pH調節剤及び純水を攪拌、混合し表1に示す組成からなる研磨用組成物を得た。なお、ここで使用する過金属酸は下記の調製例によって調製されたものである。
モリブデン酸100g、35%過酸化水素水135gを5Lガラスビーカーに入れ、室温下で、約5時間、攪拌・混合した。過モリブデン酸を得た。
タングステン酸100g、35%過酸化水素水87gを5Lガラスビーカーに入れ、室温下で、約5時間、攪拌・混合した。過タングステン酸を得た。
バナジン酸100g、35%過酸化水素水180gを5Lガラスビーカーに入れ、室温下で、約5時間、攪拌・混合した。過バナジン酸を得た。
クロム酸100g、35%過酸化水素水98gを5Lガラスビーカーに入れ、室温下で、約5時間、攪拌・混合した。過クロム酸を得た。
二酸化セレン100g、35%過酸化水素水155gを5Lガラスビーカーに入れ、室温下で、約5時間、攪拌・混合した。過セレン酸を得た。
調製例1で得られた過モリブデン酸141g、ステアリン酸マンガン0.3g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水759gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを2.5に調製した。これを研磨試験に供した。なお、表1に示すように、実施例1の砥粒は、Aであり、これは表2に示すAのコロイダルシリカ(平均粒子径80nm)を用いたという意味である。また、「コロイダルシリカ(濃度:50%)600g」とは、原液で50%のコロイダルシリカを600g使用したという意味で、表1に示すように、調整された実施例1のコロイダルシリカの濃度(砥粒の濃度)が20%である。
実施例1に準じて調製した。
調製例2で調製した過タングステン酸141g、ステアリン酸ニッケル0.75g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水674gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例2で調製した過タングステン67g、ステアリン酸コバルト0.45g、ヒュームドシリカ450g、イオン交換水982gをモーター攪拌、混合した。10%苛性カリ水溶液でpHを2.9に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例2で調製した過タングステン酸28g、ステアリン酸コバルト0.15g、コロイダルシリカ(濃度:40%)1312g、イオン交換水160gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.3に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
実施例7に準じて調製した。
調製例3で得られた過バナジン酸151g、ステアリン酸マンガン0.75g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水748gをモーター攪拌、混合した。10%苛性カリ水溶液でpHを3.6に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例3で得られた過バナジン酸151g、ステアリン酸コバルト0.36g、コロイダルシリカ(濃度:50%)900g、イオン交換水449gをモーター攪拌、混合した。10%苛性カリ水溶液でpHを3.9に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例3で得られた過バナジン酸151g、ステアリン酸ニッケル0.72g、ヒュームドシリカ225g、イオン交換水1123gをモーター攪拌、混合した。10%苛性カリ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例3で得られた過バナジン酸151g、ステアリン酸ニッケル54g、コロイダルシリカ(濃度:40%)1125g、イオン交換水170gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを2.9に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例4で得られた過クロム酸107g、ステアリン酸マンガン0.36g、コロイダルシリカ(濃度:50%)720g、イオン交換水673gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを4.8に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例4で得られた過クロム酸107g、ステアリン酸コバルト0.72g、コロイダルシリカ(濃度:50%)750g、イオン交換水642gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを4.6に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例5で得られた過セレン酸191g、ステアリン酸マンガン0.3g、コロイダルシリカ(濃度:40%)563g、イオン交換水746gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.8に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例5で得られた過セレン酸191g、ステアリン酸マンガン0.15g、コロイダルシリカ(濃度:40%)563g、イオン交換水745gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを4.1に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例1で得られた過モリブデン酸71g、ステアリン酸コバルト0.45g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水829gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを2.9に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例1で得られた過モリブデン酸71g、ステアリン酸ニッケル0.75g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水828gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを2.7に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例4で得られた過クロム酸60g、ステアリン酸銅0.45g、ヒュームドシリカ225g、イオン交換水1215gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例4で得られた過クロム酸60g、ステアリン酸亜鉛0.45g、ヒュームドシリカ225g、イオン交換水1215gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
35%過酸化水素水214g、コロイダルシリカ(濃度:50%)750g、イオン交換水536gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
35%過酸化水素水86g、ヒュームドシリカ150g、イオン交換水1344gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
35%過酸化水素水129g、過モリブデン酸0.03g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水771gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを2.5に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例5で得られた過セレン酸191g、コロイダルシリカ(濃度:50%)750g、イオン交換水559gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを4.5に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
バナジン酸ソーダ30g、35%過酸化水素水86g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水784gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを5.8に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
調製例2で調製した過タングステン酸54g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水846gをモーター攪拌、混合した。10%苛性ソーダ水溶液でpHを3.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
オルト過ヨウ素酸54g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水846gをモーター攪拌、混合した。15%硝酸水溶液でpHを2.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
過硫酸ソーダ54g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水846gをモーター攪拌、混合した。15%硝酸水溶液でpHを2.2に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
10%次亜塩素酸ソーダ750g、コロイダルシリカ(濃度:50%)600g、イオン交換水150gをモーター攪拌、混合した。pHは、10.0に調製した。該調製液を研磨試験に供した。
研磨加工機:不二越機械(株)製SLM−100 片面研磨加工機
研磨圧力:500g/cm2
研磨パッド:SUBA−800(ローデルニッタ(株)製)
定盤回転数:100rpm
研磨用組成物の供給量:100ml/min
研磨時間:5時間
Claims (8)
- 過金属酸、脂肪酸遷移金属塩、砥粒及び水を含有する研磨用組成物。
- 前記過金属酸が、酸化還元電位0.7ボルト以上の金属酸化物と過酸化水素との作用で得られる化合物である請求項1に記載の研磨用組成物。
- 前記過金属酸が過モリブデン酸、過タングステン酸、過バナジン酸、過オスミウム酸、過セレン酸、及び過クロム酸からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1または2に記載の研磨用組成物。
- 前記脂肪酸遷移金属塩がステアリン酸マンガン、ステアリン酸鉄、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸ニッケル、ステアリン酸銅、及びステアリン酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1〜3のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 前記砥粒がコロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、湿式合成シリカ、及びアルミナからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1〜4のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- pHが6以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 六方晶炭化ケイ素単結晶ウェハ(0001)ケイ素面を研磨する時に使用される請求項1〜6のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
- 六方晶炭化ケイ素単結晶ウェハ(000−1)ケイ素面以外の面を研磨する時に使用される請求項1〜6のいずれか1項に記載の研磨用組成物。
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