CN111534235A - 用于不锈钢精密抛光的抛光液 - Google Patents

用于不锈钢精密抛光的抛光液 Download PDF

Info

Publication number
CN111534235A
CN111534235A CN202010451125.1A CN202010451125A CN111534235A CN 111534235 A CN111534235 A CN 111534235A CN 202010451125 A CN202010451125 A CN 202010451125A CN 111534235 A CN111534235 A CN 111534235A
Authority
CN
China
Prior art keywords
polishing
stainless steel
polishing solution
abrasive
precision
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010451125.1A
Other languages
English (en)
Inventor
陈杏辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Jiaxin Nanotechnology Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Jiaxin Nanotechnology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Jiaxin Nanotechnology Co ltd filed Critical Shenzhen Jiaxin Nanotechnology Co ltd
Priority to CN202010451125.1A priority Critical patent/CN111534235A/zh
Publication of CN111534235A publication Critical patent/CN111534235A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于不锈钢精密抛光的抛光液,包括:磨料、络合剂、润滑剂、无机盐及水,其中,各组分的重量百分比分别为:磨料5%~20%,络合剂0.5%~5%,表面活性剂0.02%~0.2%,无机盐1%~10%,余量为水。本发明的有益效果:该抛光液通过采用磨料、络合剂、润滑剂、无机盐及水按一定比例混合协同作用,无需另外添加氧化剂,加入的无机盐与磨料协同作用,既能提高抛光速率,又能保证表面的平整度和光滑度,使得抛光后的产品能达到更佳的镜面效果。

Description

用于不锈钢精密抛光的抛光液
技术领域
本发明涉及不锈钢精密抛光的技术领域,特别涉及一种用于不锈钢精密抛光的抛光液。
背景技术
不锈钢的主要成分为镍、铬,硬度较高,耐磨、耐腐蚀性能好,受到手机行业的青睐,其中手机部件如:LOGO标志,喇叭网、侧按键、卡托、卡针等都采用不锈钢材质。由于手机行业的精密性要求,这些手机部件抛光后都需要达到镜面效果,以便后续阳极氧化工艺,这就对手机部件的抛光提出了更高的要求。
现有对于不锈钢的抛光液的研究已经很多,如公告号为CN106281045A的专利公开的纳米片状氧化铝、球型氧化铈-纳米氧化硅复合抛光粉结合的不锈钢精抛液的配方及其制备工艺,以及,公告号为CN1087531775A的专利公开的一种适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液,含有氧化铝、氧化剂、分散剂、PH值调节剂。但这些现有的用于不锈钢的抛光液抛光速率低,抛光后镜面效果差,需要进一步提高。
发明内容
针对现有技术存在的问题,本发明的主要目的是提供一种用于不锈钢精密抛光的抛光液,旨在解决现有用于不锈钢的抛光液抛光速率较低,且抛光后镜面效果差的问题。
为实现上述目的,本发明提出的用于不锈钢精密抛光的抛光液具有以下的组分及其重量百分含量为:
Figure BDA0002507696400000011
Figure BDA0002507696400000021
优选地,磨料为氧化铝、氧化硅、氧化铈中的一种或多种的组合物。
优选地,磨料的粒径为100nm--800nm,磨料为氧化铝。
优选地,络合剂为柠檬酸、盐酸、磷酸、草酸、甘氨酸中的一种或几种的组合物。
优选地,润滑剂为聚乙二醇400、甘油、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油脂肪酸、二乙醇酰胺中的一种或几种的组合物。
优选地,无机盐为氯化钠、氯化钾、硫酸钾、醋酸钠、磷酸钠、磷酸钾中的一种或几种的组合物。
优选地,水为去离子水或蒸馏水。
优选地,还包括:PH值调节剂与防腐剂。PH值调节剂调节氧化铝抛光液的PH值在2.0--5.0。
优选地,PH值调节剂为盐酸、磷酸中的一种或两种的组合物。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:该抛光液通过采用磨料、络合剂、润滑剂、无机盐及水按一定比例混合协同作用,无需另外添加氧化剂,加入的无机盐与磨料协同作用,既能提高抛光速率,又能保证表面的平整度和光滑度,使得抛光后的产品能达到更佳的镜面效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明一实施例中纳米级氧化铝的扫描电镜图;
本发明目的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
本发明提出一种用于不锈钢精密抛光的抛光液。
在本发明实施例中,该用于不锈钢精密抛光的抛光液,包括:磨料、络合剂、表面活性剂、无机盐及水,其中,各组分的重量百分比分别为:磨料5%~20%,络合剂0.5%~5%,润滑剂0.02%~0.2%,无机盐1%~10%,余量为水。
在本发明的实施例中,磨料为氧化铝、氧化硅、氧化铈中的一种或多种的组合物。磨料的粒径为100nm--800nm,磨料优选为氧化铝。
在本发明的实施例中,络合剂为柠檬酸、盐酸、磷酸、草酸、甘氨酸中的一种或几种的组合物。
在本发明的实施例中,表面活性剂为聚乙二醇400、甘油、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油脂肪酸、二乙醇酰胺中的一种或几种的组合物。
在本发明的实施例中,无机盐为氯化钠、氯化钾、硫酸钾、醋酸钠、磷酸钠、磷酸钾中的一种或几种的组合物。
在本发明的实施例中,水为去离子水或蒸馏水。
在本发明的实施例中,该氧化铝抛光液还包括:PH值调节剂与防腐剂,其中,PH值调节剂的含量确保氧化铝抛光液的PH值在2.0--5.0。
在本发明的实施例中,PH值调节剂为盐酸、磷酸中的一种或两种的组合物。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:该抛光液通过采用磨料、络合剂、润滑剂、无机盐及水按一定比例混合协同作用,无需另外添加氧化剂,加入的无机盐与磨料协同作用,既能提高抛光速率,又能保证表面的平整度和光滑度,使得抛光后的产品能达到更佳的镜面效果。
为更好的实施本发明的技术方案,下面结合具体的实施例作进一步说明:
实施例1
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用5%的氧化铝,氧化铝的粒径为100nm,0.5%的柠檬酸,0.02%的聚乙二醇400,1%的氯化钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为2.0。
实施例2
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用10%的氧化铝,氧化铝的粒径为400nm,2%的柠檬酸,0.06%的聚乙二醇400,3%的氯化钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为3.0。
实施例3
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用15%的氧化铝,氧化铝的粒径为600nm,3%的柠檬酸,0.1%的聚乙二醇400,6%的氯化钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为4.0。
实施例4
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用20%的氧化铝,氧化铝的粒径为800nm,4%的柠檬酸,0.2%的聚乙二醇400,10%的氯化钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为5.0。
实施例5
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用5%的氧化铝,氧化铝的粒径为100nm,0.5%的柠檬酸,0.02%的聚乙二醇400,1%的硫酸钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为2.0。
实施例6
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用10%的氧化铝,氧化铝的粒径为400nm,2%的柠檬酸,0.06%的聚乙二醇400,3%的硫酸钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为3.0。
实施例7
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用15%的氧化铝,氧化铝的粒径为600nm,3%的柠檬酸,0.1%的聚乙二醇400,6%的硫酸钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为4.0。
实施例8
本实施例提供的用于不锈钢精密抛光的抛光液,采用20%的氧化铝,氧化铝的粒径为800nm,4%的柠檬酸,0.2%的聚乙二醇400,10%的硫酸钠,其余为蒸馏水。制备时选取上述比例的各原料,依次加入干净的工业搅拌器中,并不断的搅拌10分钟,使得各个原料都充分搅拌均匀,直至完全溶解。在搅拌过程中加入适量的盐酸,调节PH值为5.0。
为更好的说明本发明上述各实施例制备的抛光液可以提高抛光速率,下面结合实验数据进一步解释:
实验条件:
抛光机:610#单面抛光机;
被抛光的不锈钢基片数量:3片;
抛光垫:黑色阻尼布;
抛光压力:40公斤;
抛光转速:40转/分钟;
抛光液流量:200ml/分钟。
以抛光到不锈钢基片表面无划痕、橘皮、麻点等缺陷为标准,测算出本发明实施例与传统没加无机盐的抛光液,平均抛光1片不锈钢基片所需的时间,得出以下对比表格:
Figure BDA0002507696400000061
表1
上述表格中的实验结果可知,分别加入无机盐氯化钠与硫酸钠的抛光液,相比没有加无机盐的抛光液,都可以提高抛光速率。这是因为无机盐中的离子可以在不锈钢表面形成配合物,并在氧化铝等磨粒的摩擦作用下离开不锈钢表面,裸露出来新的不锈钢表面,从而提高抛光效率。
从上述表格中的实验结果还可知,在同等条件下,无机盐氯化钠的效果更好,能更好的提高抛光速率。这是因为氯化钠中的氯离子可以更快的在不锈钢表面形成配合物,并在氧化铝等磨粒的摩擦作用下迅速的离开不锈钢表面。而且,从上述表格中的实验结果还可知,加入氯化钠的含量越多,抛光速率更快。
在本发明的实施例中,磨料的粒径在100nm--800nm,如图1所示,相较于传统的硅溶胶抛光液,本发明的实施例采用的磨料(如氧化铝)的颗粒圆润,颗粒表面没有尖锐的棱角,抛光后划伤减少,能保证抛光后的不锈钢表面平整、光滑,并达到更佳的镜面效果。
因此,本发明实施例中加入的无机盐和纳米磨料协同作用,能提高抛光速率,又能保证表面的平整度和光滑度,使得抛光后的产品能达到更佳的镜面效果。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述抛光液具有以下的组分及其重量百分含量为:
Figure FDA0002507696390000011
2.如权利要求1所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述磨料为氧化铝、氧化硅、氧化铈中的一种或多种的组合物。
3.如权利要求2所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述磨料的粒径为100nm--800nm,所述磨料为氧化铝。
4.如权利要求1所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述络合剂为柠檬酸、盐酸、磷酸、草酸、甘氨酸中的一种或几种的组合物。
5.如权利要求1所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述润滑剂为聚乙二醇400、甘油、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油脂肪酸、二乙醇酰胺中的一种或几种的组合物。
6.如权利要求1所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述无机盐为氯化钠、氯化钾、硫酸钾、醋酸钠、磷酸钠、磷酸钾中的一种或几种的组合物。
7.如权利要求1所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述水为去离子水或蒸馏水。
8.如权利要求1-7任一项所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,还包括:PH值调节剂与防腐剂;所述PH值调节剂调节所述氧化铝抛光液的PH值在2.0--5.0。
9.如权利要求8所述的用于不锈钢精密抛光的抛光液,其特征在于,所述PH值调节剂为盐酸、磷酸中的一种或两种的组合物。
CN202010451125.1A 2020-05-25 2020-05-25 用于不锈钢精密抛光的抛光液 Pending CN111534235A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010451125.1A CN111534235A (zh) 2020-05-25 2020-05-25 用于不锈钢精密抛光的抛光液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010451125.1A CN111534235A (zh) 2020-05-25 2020-05-25 用于不锈钢精密抛光的抛光液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111534235A true CN111534235A (zh) 2020-08-14

Family

ID=71968208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010451125.1A Pending CN111534235A (zh) 2020-05-25 2020-05-25 用于不锈钢精密抛光的抛光液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111534235A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113310776A (zh) * 2021-05-17 2021-08-27 东方电气集团东方锅炉股份有限公司 检验s31042与t91或t92异种钢焊接接头的浸蚀剂及其制备方法
CN115851135A (zh) * 2022-11-28 2023-03-28 宁波平恒电子材料有限公司 一种不锈钢抛光液及其制备方法和用途

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105451940A (zh) * 2013-08-09 2016-03-30 福吉米株式会社 研磨完的研磨对象物的制造方法及研磨用组合物试剂盒
CN106811751A (zh) * 2017-02-16 2017-06-09 河南科技学院 一种304不锈钢化学机械抛光用抛光剂和抛光液及其制备方法
CN106883769A (zh) * 2017-04-17 2017-06-23 黄美香 一种硅溶胶抛光液
CN107418448A (zh) * 2017-08-10 2017-12-01 深圳市佳欣纳米科技有限公司 一种不锈钢精密抛光液
CN108441122A (zh) * 2018-03-15 2018-08-24 吴江创源新材料科技有限公司 一种用于手机不锈钢部件的抛光液及其制备方法
CN108753175A (zh) * 2018-06-04 2018-11-06 上海映智研磨材料有限公司 适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液及其用途

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105451940A (zh) * 2013-08-09 2016-03-30 福吉米株式会社 研磨完的研磨对象物的制造方法及研磨用组合物试剂盒
CN106811751A (zh) * 2017-02-16 2017-06-09 河南科技学院 一种304不锈钢化学机械抛光用抛光剂和抛光液及其制备方法
CN106883769A (zh) * 2017-04-17 2017-06-23 黄美香 一种硅溶胶抛光液
CN107418448A (zh) * 2017-08-10 2017-12-01 深圳市佳欣纳米科技有限公司 一种不锈钢精密抛光液
CN108441122A (zh) * 2018-03-15 2018-08-24 吴江创源新材料科技有限公司 一种用于手机不锈钢部件的抛光液及其制备方法
CN108753175A (zh) * 2018-06-04 2018-11-06 上海映智研磨材料有限公司 适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液及其用途

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张波,等: "镜面抛光技术在奥氏体不锈钢产品中的应用", 《宝钢技术》 *
沈林新: "新型环保不锈钢化学抛光液的研制", 《装备制造技术》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113310776A (zh) * 2021-05-17 2021-08-27 东方电气集团东方锅炉股份有限公司 检验s31042与t91或t92异种钢焊接接头的浸蚀剂及其制备方法
CN115851135A (zh) * 2022-11-28 2023-03-28 宁波平恒电子材料有限公司 一种不锈钢抛光液及其制备方法和用途

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108239484B (zh) 一种蓝宝石抛光用氧化铝抛光液及其制备方法
TWI720954B (zh) 研磨方法及拋光用組成物
CN110003798B (zh) 一种抛光液及其制备方法和应用
JP4238951B2 (ja) 研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法
CN111534235A (zh) 用于不锈钢精密抛光的抛光液
CN107629701B (zh) 抛光液及其制备方法
JP2003529663A (ja) アミノ酸含有組成物でのメモリ又は硬質ディスク表面の研磨方法
JP2009297818A (ja) サファイア基板用研磨液組成物、及びサファイア基板の研磨方法
CN112111230A (zh) 一种混合磨料的硬质合金抛光浆料及其制备方法
CN111040640A (zh) 用于硅晶圆基材的复合磨料化学机械抛光浆料及制备方法
CN105385358A (zh) 陶瓷粘接蓝宝石抛光用抛光液及其制备方法
CN105778774A (zh) 一种化学机械抛光液
CN102051665B (zh) 一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液
CN112521864A (zh) 一种用于半导体碳化硅芯片的化学机械抛光液
CN115386342B (zh) 研磨用组合物
JP3781677B2 (ja) 研磨用組成物および研磨方法
CN108864949A (zh) 一种用于抛光玻璃的稀土抛光液及其制备方法
WO2003020839A1 (en) Polishing composition
JP2010023199A (ja) 研磨用組成物及び研磨方法
TW528645B (en) Composition for polishing magnetic disk substrate
CN102321497B (zh) 一种太阳能硅片切割液
CN104726028A (zh) 一种化学机械抛光液及其使用方法
CN110846665A (zh) 一种不锈钢抛光剂及其制备方法、应用
JP5736430B2 (ja) サファイア基板用研磨液組成物、及びサファイア基板の研磨方法
JP6584945B2 (ja) 磁気ディスク基板用研磨液組成物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200814

RJ01 Rejection of invention patent application after publication