JP2010008644A5 - - Google Patents
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- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008166972A JP5369515B2 (ja) | 2008-06-26 | 2008-06-26 | 光フィルタとその製造方法及び光学フィルタ装置モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008166972A JP5369515B2 (ja) | 2008-06-26 | 2008-06-26 | 光フィルタとその製造方法及び光学フィルタ装置モジュール |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010008644A JP2010008644A (ja) | 2010-01-14 |
JP2010008644A5 true JP2010008644A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2011-07-21 |
JP5369515B2 JP5369515B2 (ja) | 2013-12-18 |
Family
ID=41589246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008166972A Expired - Fee Related JP5369515B2 (ja) | 2008-06-26 | 2008-06-26 | 光フィルタとその製造方法及び光学フィルタ装置モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5369515B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5593671B2 (ja) * | 2009-10-05 | 2014-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、測色センサー、測色モジュール |
JP5589459B2 (ja) | 2010-03-15 | 2014-09-17 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器 |
JP6010275B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2016-10-19 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター並びにそれを用いた分析機器及び光機器 |
JP5458983B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-04-02 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルターの製造方法 |
JP5434719B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2014-03-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルターおよび分析機器 |
JP5381884B2 (ja) * | 2010-04-16 | 2014-01-08 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルターの製造方法 |
JP5928992B2 (ja) | 2010-10-07 | 2016-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルターの製造方法 |
JP5177209B2 (ja) | 2010-11-24 | 2013-04-03 | 株式会社デンソー | ファブリペロー干渉計 |
JP5716412B2 (ja) * | 2011-01-24 | 2015-05-13 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
JP5909850B2 (ja) | 2011-02-15 | 2016-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
JP5786424B2 (ja) * | 2011-04-11 | 2015-09-30 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器 |
JP6160055B2 (ja) * | 2012-10-01 | 2017-07-12 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、波長可変干渉フィルターの製造方法、光学装置および光学部品 |
JP6107120B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2017-04-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光学フィルターデバイス、及び電子機器 |
JP6135365B2 (ja) * | 2013-07-29 | 2017-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、干渉フィルターの製造方法、及びmems素子 |
JP5915693B2 (ja) * | 2014-05-12 | 2016-05-11 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器 |
JP2016065937A (ja) * | 2014-09-24 | 2016-04-28 | パイオニア株式会社 | 波長可変光フィルタ及び波長可変光フィルタの製造方法 |
JP5978506B2 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-08-24 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光モジュール、及び分析装置 |
JP6135707B2 (ja) * | 2015-05-07 | 2017-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター並びにそれを用いた分析機器及び光機器 |
JP2016029491A (ja) * | 2015-09-30 | 2016-03-03 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
JP6168137B2 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-26 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器 |
JP2016095526A (ja) * | 2016-01-05 | 2016-05-26 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
WO2018092104A1 (en) * | 2016-11-20 | 2018-05-24 | Unispectral Ltd. | Tunable mems etalon devices |
JP6844355B2 (ja) * | 2017-03-17 | 2021-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | 光学モジュール、及び光学モジュールの駆動方法 |
JP2017187799A (ja) * | 2017-06-27 | 2017-10-12 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルターの駆動方法 |
JP6798566B2 (ja) * | 2019-01-09 | 2020-12-09 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器 |
JP6754464B2 (ja) * | 2019-04-23 | 2020-09-09 | パイオニア株式会社 | 波長可変光フィルタ |
JP7200842B2 (ja) | 2019-06-21 | 2023-01-10 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07243963A (ja) * | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Yazaki Corp | 光共振器とその製造方法 |
JPH11211999A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-08-06 | Teijin Ltd | 光変調素子および表示装置 |
JP2003057438A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Yokogawa Electric Corp | ファブリペローフィルタ |
JP2003195189A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光変調素子およびその作製方法 |
JP2005031326A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フィルター |
JP2005305614A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | 微小構造体の製造方法、微小構造体、波長可変光フィルタ及びマイクロミラー |
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-
2008
- 2008-06-26 JP JP2008166972A patent/JP5369515B2/ja not_active Expired - Fee Related
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