JP2009542449A - 研磨物品、cmpモニタリングシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 研磨物品であって、
対向する主表面を有する基材と、
前記主表面の少なくとも1つの少なくとも一部分にオーバーレイする研磨材と、
前記基材に近接して位置付けられた、CMP情報を提供するための手段と、
前記基材に近接して位置付けられたトランスミッタと、を含み、該トランスミッタが、前記CMP情報をリモートレシーバに送信するように適合されている、研磨物品。 - 前記CMP情報を提供するための手段が、RFIDタグ、RFIDタグリーダー、及びセンサーの1つ以上から選択される、請求項1に記載の研磨物品。
- 前記センサーが、厚さセンサー、速度センサー、加速度センサー、振動センサー、力センサー、圧力センサー、温度センサー、pHセンサー、化学組成センサー、及び化学濃度センサーからなる群の1つ以上から選択される、請求項2に記載の研磨物品。
- 前記センサーが、CMPパッドの厚さを測定するように適合された渦電流厚さセンサーである、請求項3に記載の研磨物品。
- 前記トランスミッタが、RFIDシステムのためのトランスポンダー中の構成要素であり、かつ前記リモートレシーバが、前記RFIDシステムのためのリーダーである、請求項1に記載の研磨物品。
- 前記トランスポンダー及び前記リーダーの1つ又は両方が、復調回路、共振回路、トランスミッタ、レシーバ、プロセッサ、コントローラ、メモリ、アナログ/デジタルコンバータ、デジタル/アナログコンバータ、アンテナ、及び電源からなる群の1つ以上を更に含む、請求項5に記載の研磨物品。
- 前記CMP情報が、CMPパッドコンディショナーデータ、CMPパッドデータ、並びにCMPプロセス中に測定された速度、加速度、力、圧力、振動、厚さ、温度、pH、化学組成、及び化学濃度の1つ以上を包含する測定されたCMPプロセスデータの1つ以上から選択される、請求項1に記載の研磨物品。
- 前記CMPパッドコンディショナーデータ及び前記CMPパッドデータの少なくとも1つが、製造データ、組成データ、追跡データ、品質データ、及び履歴データからなる群から選択される、請求項7に記載の研磨物品。
- 前記主表面の少なくとも1つの中に提供される据え付けポートを更に含む、請求項1に記載の研磨物品。
- 前記据え付けポートが、両主表面間に伸びるオリフィスを包含する、請求項9に記載の研磨物品。
- 前記据え付けポートに近接するベアリングを更に含み、該ベアリングが、前記パッドコンディショナーの前記トランスミッタ周囲の回転を許すように適合されている、請求項9に記載の研磨物品。
- CMPパッドコンディショナーであって、
ベースと、
該ベースの少なくとも一部分にオーバーレイする研磨材と、
前記ベースに近接して位置付けられた、CMP情報をリモートロケーションに通信するための手段と、を含む、コンディショナー。 - CMPプロセスモニタリングシステムであって、
対向する主表面を有する基材と、前記主表面の少なくとも1つの少なくとも一部分にオーバーレイする研磨材とを包含する、少なくとも1つの研磨物品と、
該少なくとも1つの研磨物品に近接して位置付けられた少なくとも1つのセンサーであって、各センサーがCMP情報を決定するように適合されている少なくとも1つのセンサーと、
前記研磨物品に近接して位置付けられ前記センサーと通信するトランスミッタであって、該トランスミッタがCMP情報を送信するように適合されているトランスミッタと、
該トランスミッタから離れて位置し前記送信されたCMP情報を受信するように適合された少なくとも1つのレシーバと、を含む、システム。 - 前記CMP情報が、CMPパッドコンディショナーデータ、CMPパッドデータ、及び測定されたCMPプロセスデータの少なくとも1つから選択される、請求項13に記載のシステム。
- 前記CMPパッドコンディショナーデータ及び前記CMPパッドデータの少なくとも1つが、製造データ、組成データ、追跡データ、品質データ、及び履歴データからなる群から選択される、請求項14に記載のシステム。
- 前記CMP情報を処理し、かつCMPパッド特性を変更すること、CMPパッドコンディショナー特性を変更すること、CMPポリッシングスラリー特性を変更すること、及びCMPプロセス特性を変更することからなる群から選択される制御応答を提供するように適合されたコントローラを更に含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記センサー、前記トランスミッタ、及び前記レシーバが、無線周波数識別システムを構成する、請求項13に記載のシステム。
- 前記無線周波数識別システムが、RFIDタグ、変調回路、復調回路、共振回路、アナログ/デジタルコンバータ、デジタル/アナログコンバータ、メモリ、コントローラ、アンテナ、及び電源の少なくとも1つを更に含む、請求項17に記載のシステム。
- 各センサーが、厚さセンサー、速度センサー、加速度センサー、振動センサー、力センサー、圧力センサー、温度センサー、pHセンサー、化学組成センサー、化学濃度センサー、及びRFIDタグリーダーからなる群から選択される、請求項13に記載のシステム。
- CMPパッドをコンディショニングするための方法であって、
(i)CMPパッドコンディショナーを提供することであって、該パッドコンディショナーが、
(a)対向する主表面を有するベースと、
(b)前記主表面の少なくとも1つの少なくとも一部分にオーバーレイする研磨材と、
(c)前記ベースに近接して位置付けられた少なくとも1つのセンサーと、を包含し、各センサーがCMP情報を決定するように適合されていることと、
(ii)CMPパッドを前記少なくとも1つのセンサーに近接して位置付け、それによってCMP情報を前記センサーに提供することと、
(iii)前記CMP情報に基づいて、CMPパッド特性を変更すること、CMPパッドコンディショナー特性を変更すること、CMPポリッシングスラリー特性を変更すること、又はCMPプロセス特性を変更することからなる群から選択されるパッドコンディショニング制御応答を生成することと、を含む、方法。
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