JP2009538446A - ネガ型輻射線感光性組成物及び画像形成性材料 - Google Patents
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Abstract
Description
ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると、ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができるホウ酸ヨードニウム開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
を含んでなる輻射線感光性組成物であって、
ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物は、下記構造(I):
Z-は、下記構造(II):
によって表される有機アニオンである}
によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウムを含む輻射線感光性組成物を提供する。
ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると、ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができるホウ酸ヨードニウム開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
を含んでなる画像形成性層を基板上に有して成る画像形成性要素であって、
ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、構造(I)において上に規定したホウ酸ジアリールヨードニウムを含む画像形成性要素を提供する。
A)ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると、ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができるホウ酸ヨードニウム開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
を含んでなる画像形成性層を基板上に有して成り、
前記ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、構造(I)において上に規定したホウ酸ジアリールヨードニウムを含んでなる、
ネガ型画像形成性要素を像様露光すること、そして
B)予熱工程なしに、画像形成性層の非露光領域だけを除去するために、像様露光された要素を現像すること
を含んでなる。
A)好適な溶剤中でホウ酸ジアリールヨードニウム化合物を、
ラジカル重合性成分、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
と混合することにより画像形成性層配合物を形成すること、
前記ホウ酸ヨードニウム化合物が、下記構造(I):
Z-は、下記構造(II):
によって表される有機アニオンである}
によって表される、そして
B) 画像形成性層配合物を基板に適用すること
を含んでなる画像形成性要素の製造方法を提供する。
文脈が特に示すのでない限り、本明細書中に使用する「輻射線感光性組成物」、「画像形成性要素」及び「印刷版前駆体」という用語は、本発明の態様を意味するものとする。
さらに、特に断りのない限り、パーセンテージは乾燥重量パーセントを意味する。
本発明の1つの観点は、好適な電磁線を使用して重合可能である塗膜が必要であるところではどこでも、そして具体的には、塗布され、画像形成された組成物の非露光領域を除去することが望まれるところで有用性を有することができる、輻射線感光性組成物である。輻射線感光性組成物は、集積回路のためのプリント基板(印刷用回路基板)、ペイント組成物、成形用組成物、カラーフィルター、化学増幅レジスト、インプリントリソグラフィ、マイクロ電子及びマイクロ光学デバイス、及びフォトマスクリソグラフィ、及び好ましくは印刷された形態、例えば下でより詳細に規定する平版印刷版前駆体、及び画像形成された平版印刷版を調製するために、使用することができる。
a) 疎水性主鎖に直接に結合されたペンダントシアノ基を有する反復単位、及び
b) ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含んでなるペンダント基を有する反復単位。
A) アクリロニトリル、メタクリロニトリル、又はこれらの組み合わせ、
B) アクリル酸又はメタクリル酸のポリ(アルキレンオキシド)エステル、例えばポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエステルメタクリレート、又はこれらの組み合わせ、及び
C) 任意選択的に、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、アクリレートエステル、メタクリレートエステル、アクリルアミド、メタクリルアミドのようなモノマー、又はこのようなモノマーの組み合わせ、
の組み合わせ又は混合物を重合することによって形成することができる。
画像形成性要素は、画像形成性層を形成するのに適した基板に上記輻射線感光性組成物を好適に適用することによって形成される。この基板は、輻射線感光性組成物の適用前に、下記のような種々の方法で処理又は塗布することができる。好ましくは、本発明の輻射線感光性組成物を含んでなる単一の画像形成性層だけが存在する。基板が、改善された付着性又は親水性のために「中間層」を提供するように処理されているならば、適用された輻射線感光性組成物は一般に「トップ」層又は最外層と考えられる。しかしながら、これらの中間層は「画像形成性層」であるとは考えられない。国際公開第99/06890号パンフレット(Pappas他)に記載されているように画像形成性層に上塗り層(例えば酸素不透過性トップ塗膜)として従来知られているものを適用する必要は通常はないが、所望の場合にはこれを使用することができる。このような上塗り層は、1種又は2種の水溶性ポリマー、例えばポリ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルピロリドン)、ポリ(ビニルイミダゾール)を含むことができ、そして一般には、0.1〜4g/m2の乾燥塗膜重量で存在する。
使用中、画像形成性要素は、輻射線感光性組成物中に存在する輻射線吸収化合物に応じて、波長150〜1400nmの好適な輻射線源、例えばUV、可視光、近赤外線又は赤外線の好適な輻射線源に当てられる。好ましくは、画像形成は、波長700〜1200nmの赤外線レーザーを使用して行われる。画像形成性要素に露光を施すために使用されるレーザーは、ダイオードレーザーシステムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、好ましくはダイオードレーザーであるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に利用的な画像セッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザーダイオードは、波長800〜850nm又は1060〜1120nmの赤外線を放射する。
画像形成後の予熱工程の必要無しに、画像形成された要素は、コンベンショナルな処理及びコンベンショナルな水性アルカリ又は有機アルカリ現像剤を用いて「機外(off-press)」現像することができる。或いは、画像形成された要素は、下でより詳細に説明するように「機上(on-press)」現像することもできる。
Blue 63は、Yamamoto Chemicals, Inc.(日本国)から得られ、下記構造を有するロイコ染料発色剤であった。
DHBPは、Aldrich Chemical Company(ウィスコンシン州Milwaukee)から得られる2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンであった。
IBPFは、Sanwa Chemical Co., Ltd.(日本国)から得られるビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートであった。
Irganox(登録商標)1035は、チオジエチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシナメート)であり、Ciba Specialty Chemicals Companyから得られた。
MEKは、メチルエチルケトンである。
PEGMAは、Aldrich Chemical Companyから得られるポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(50%水)であった。
PGMEは、Dowanol PMとしても知られている1−メトキシ−2−プロパノールであった。
956 Developerは、溶剤系(フェノキシエタノール)アルカリネガ型現像剤(米国コネチカット州Norwalk在、Eastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphics)であった。
NaBPh4(34.2g、Aldrich Chemical Co.)を、2000mlフラスコ内のn−プロパノール(500g)及び水(500g)中に溶解し、そして容器Aとしてマーキングした。Irgacure 250(66g、プロピレンカーボネート中75%溶液、Ciba)を、1000mlフラスコ内のn−プロパノール(200g)及び水(200g)中に溶解し、そして容器Bとしてマーキングした。容器B内の溶液を容器A内の溶液中に、攪拌しながらゆっくりと液滴状に添加した。白い沈殿物が形成された。濾過後に、固形物を500mlのプロパノールで洗浄し、続いて500mlの水で洗浄した。固形物を捕集しそして周囲温度で一晩にわたって、そして40℃の炉内で3時間にわたって乾燥させた。収量は65gであった。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:0.79(d,6H),1.79(m,1H),2.30(s,3H),2.47(d,2H),6.77(t,4H),6.93(t,8H),7.18(br,8H),7.29(m,4H)及び8.08(m,4H)。
NaBPh4(3.42g)を、200mlフラスコ内のn−プロパノール(12.5g)及び水(25g)中に溶解し、そして容器Aとしてマーキングした。4−フェニル−4−オクチルオキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート(5.52g、Journal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry, 第37巻, 第4241-4254頁に記載された手順によって調製)を100mlフラスコ内のn−プロパノール(25g)及び水(50g)中に溶解し、そして容器Bとしてマーキングした。容器B内の溶液を容器A内の溶液中に、攪拌しながらゆっくりと液滴状に添加した。粘着性の沈殿物が形成された。溶剤をデカントした後に、固形物(7g)を10gのテトラヒドロフラン中に溶解した。固形分%は更なる使用のために15.9%であった。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:0.82(t,3H),1.25(m,10H),1.66(m,2H),3.97(t,2H),6.75(t,4H),6.90(t,8H),7.02(d,2H),7.17(br,8H),7.49(t,2H),7.60(t,1H)及び8.12(m,4H)。
NaBPh4(1.4g)を、50mlフラスコ内のアセトン(10g)及び水(10g)中に溶解し、そして容器Aとしてマーキングした。[4−[(2−ヒドロキシテトラデシル)−オキシ]フェニル]フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート(1.49g、Aldrich Chemical Co.)を50mlフラスコ内のアセトン(6g)及び水(6g)中に溶解し、そして容器Bとしてマーキングした。容器B内の溶液を容器A内の溶液と、ガラス棒によって攪拌しながら混合した。粘着性の沈殿物が形成され、そして混合物を、3時間にわたってフュームフード内で静置しておいた。溶剤をデカントし、そして粘着性生成物を水(10gずつ)で3回洗浄した。粘着性材料(1.5g)を10gのMEK中に溶解した。固形分%は更なる使用のために13.7%であった。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:0.89(m,3H),1.20−1.50(m,20H),2.55(m,2H),3.78(m,1H),3.90(m,2H),4.92(d,1H),6.81(t,4H),6.96(t,8H),7.10(d,2H),7.22(br,8H),7.52(t,2H),7.67(t,1H)及び8.20(m,4H)。
NaBPh4(45g)を、容器Aとしてマーキングした500mlビーカー内のn−プロパノール(100g)及び水(160g)中に溶解した。ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート(67.3g、Sanwa Chemical Co., Ltd.)を、容器Bとしてマーキングした2000mlビーカー内のn−プロパノール(500g)及び水(800g)中に溶解した。Siverson L4Rによって激しく攪拌しながら、容器A内の溶液を容器B内の溶液にゆっくりと(15分で)添加した。白い沈殿物が形成され、そして混合物を冷蔵庫内で6時間にわたって保管した。第1の濾過後、白色固形物を捕集し、そして400mlの水で洗浄した。第2の濾過から得られた生成物を周囲温度で一晩にわたって乾燥させ、次いで炉内で40℃で4時間にわたって乾燥させることにより、84.2gの白色固形物を得た。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:1.31(s,18H),6.72(t,4H),6.98(t,8H),7.22(br,8H),7.59(d,4H)及び8.18(d,4H)。
還流冷却器、温度計、攪拌器、氷水浴及び窒素入口を備えた500mlフラスコ内に4−ヨードトルエン(21.8g、Aldrich Chemical Co.)及び75%硫酸溶液(163g)を入れた。ヘキシルベンゼン(17.8g、Aldrich Chemical Co.)を添加し、そして不均一混合物を10℃未満まで冷却する。過硫酸アンモニウム(47.9g)を、温度が15℃を上回らないように30分で数回に分けて添加した。反応混合物を5分間にわたって室温で攪拌し、次いでNaPF6(19.1g)、水(300g)、及び酢酸エチル(250g)を含有するよく攪拌された懸濁液にゆっくりと添加した。添加が完了した後、攪拌を10分間にわたって続け、そして混合物を別個の漏斗に移した。分離後、水層を廃棄し、そして、CO2がもはや発生しなくなるまで、有機層をNaHCO3の5%溶液で洗浄した。酢酸エチルを回転蒸発器を通して除去し、そして49gの高粘度液体を得た(主に4−メチルフェニル−4’−ヘキシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートを含有する)。結果として生じた液体5グラムを、容器Aとしてマーキングした200mlフラスコ内のn−プロパノール(50g)及び水(50g)中に溶解した。NaBPh4(3.4g、Aldrich Chemical Co.)を、容器Bとしてマーキングした500mlフラスコ内のn−プロパノール(25g)及び水(25g)中に溶解した。容器A内の溶液を容器B内の溶液中に、攪拌しながらゆっくりと液滴状に添加した。粘着性の沈殿物が形成された。溶剤をデカントした後に、結果として生じた固形物(7g)をメチルエチルケトン(10g)中に溶解した。固形分%は更なる使用のために25.1%であった。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:0.81(t,3H),1.21(m,6H),1.50(m,2H),2.30(2,3H),2.55(t,2H),6.76(t,4H),6.90(t,8H),7.18(br,8H),7.29(m,4H)及び8.06(m,4H)。
還流冷却器、温度計、攪拌器、氷水浴及び窒素入口を備えた500mlフラスコ内に4−ヨードトルエン(21.8g)及び75%硫酸溶液(163g)を入れた。フェニルシクロヘキサン(17.6g、0.11mol、Aldrich Chemical Co.)を添加し、そして不均一混合物を10℃未満まで冷却する。過硫酸アンモニウム(47.9g)を、温度が15℃を上回らないように30分で数回に分けて添加した。反応混合物を5分間にわたって室温で攪拌し、次いでNaPF6(19.1g)、水(300g)、及び酢酸エチル(250g)を含有するよく攪拌された懸濁液にゆっくりと添加した。添加が完了した後、攪拌を10分間にわたって続け、そして混合物を別個の漏斗に移した。分離後、水層を廃棄し、そして、CO2がもはや発生しなくなるまで、有機層をNaHCO3の5%溶液で洗浄した。酢酸エチルを回転蒸発器を通して除去し、そして49gの高粘度液体を得た(主に4−メチルフェニル−4’−ヘキシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートを含有する)。結果として生じた液体5グラムを、容器Aとしてマーキングした200mlフラスコ内のn−プロパノール(50g)及び水(50g)中に溶解した。NaBPh4(3.4g、Aldrich Chemical Co.)を、容器Bとしてマーキングした500mlフラスコ内のn−プロパノール(25g)及び水(25g)中に溶解した。容器A内の溶液を容器B内の溶液中に、攪拌しながらゆっくりと液滴状に添加した。明るい褐色の沈殿物が形成された。第1の濾過後、白色固形物を捕集し、そして100mlの水で洗浄した。第2の濾過から得られた生成物を周囲温度で一晩にわたって乾燥させ、次いで炉内で30℃で4時間にわたって乾燥させることにより、6.9gの明るい褐色の固形物を得た。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:1.10−1.90(m,10H),2.38(s,3H),2.58(m,1H),6.83(t,4H),6.98(t,8H),7.25(br,8H),7.37(m,4H)及び8.12(m,4H)。
還流冷却器、温度計、攪拌器、及び窒素入口を備えた500mlフラスコ内に、75%硫酸溶液(163g)中の4−ヨードトルエン(MW=218、21.8g、0.1mol)を入れた。4−t−ブチルトルエン(MW=148、1.63g、0.11mol)を添加し、そして不均一混合物を10℃未満まで冷却する。過硫酸アンモニウム(MW=228、47.9g、0.21mol)を、温度が15℃を上回らないように30分で数回に分けて添加した。反応混合物を5分間にわたって室温で攪拌し、次いでNaPF6(19.1g)、水(300g)、及び酢酸エチル(250g)を含有するよく攪拌された懸濁液にゆっくりと添加した。添加が完了した後、攪拌を10分間にわたって続け、そして混合物を別個の漏斗に移した。分離後、水層を廃棄し、そして、CO2がもはや発生しなくなるまで、有機層を5%NaHCO3で洗浄した。酢酸エチルを回転蒸発器を通して除去し、そして29gの高粘度液体を得た(底にいくらかの不溶性固形物)。結果として生じた液体を、容器Aとしてマーキングした300mlフラスコ内のn−プロパノール(100g)及び水(100g)中に溶解した。NaBPh4(10.0g、Aldrichより)を、容器Bとしてマーキングした500mlフラスコ内のn−プロパノール(100g)及び水(100g)中に溶解した。容器A内の溶液を容器B内の溶液に、攪拌しながらゆっくりと液滴状に添加した。白い沈殿物が形成された。濾過後、固形物を水(300g)で洗浄し、続いて再び濾過した。40℃の炉内で5時間にわたって乾燥させた後、白い固形物(19g)を得た。1H NMRスペクトル(DMSO−d6中)は下記値δ[ppm]の化学シフトを呈した:1.28(s,9H),2.32(s,3H),2.54(s,3H),6.79(t,4H),6.93(t,8H),7.18(br,8H),7.32(d,2H),7.44(d,1H),7.57(d,1H),8.12(d,2H)及び8.41(s,1H)。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの3首フラスコ内に、AIBN[2,2’−アゾビス(イソ−ブチロニトリル)、Vazo-64、1.6g]、メチルメタクリレート(20g)、アクリロニトリル(24g)、N−ビニルカルバゾール(20g)、メタクリル酸(16g)、及びN,N’−ジメチルアセトアミド(DMAC,320g)を入れた。反応混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(16時間)にわたって攪拌した。%N.V.を20%で測定した。
脱イオン水(74.8g)及びn−プロパノール(241.4g)との混合物中に溶解されたPEGMA(20g)の溶液を、1000mlの4首フラスコ内に装入し、そしてN2雰囲気下で僅かに還流(76℃)するまでゆっくりと加熱した。スチレン(20g)、アクリロニトリル(70g)、及びVazo-64(0.7g)の混合物を2時間にわたって添加した。6時間後、Vazo-64の別のアリコート(0.5g)を添加した。温度を80℃まで上昇させた。続いて、Vazo-64のさらに2つのアリコート(それぞれ0.35g)を6時間にわたって添加した。全部で19時間の反応後、コポリマーへの変換率は、非揮発分パーセントの測定に基づいて>98%であった。PEGMA/スチレン/−アクリロニトリルの重量比は10:20:70であり、そしてn−プロパノール/水の比は76:24であった。溶液中の残留アクリロニトリルは1H−NMRによる測定に基づいて0.5%であった。
ポリマーA(1g)、オリゴマーA(0.73g)、IR色素1(0.08g)、Irganox(登録商標)1035(1.11g、MEK中5%)、SR-399(0.55g)、顔料951(0.3g)、PEGDA(0.28g)、Byk(登録商標)307(0.28g)、及び開始剤A〜Fのそれぞれ(0.22g、各溶液中に1種)を、PGME(30.3g)及びMEK(15.2g)中に溶解することにより、6種の画像形成性層配合物を個々に調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、回転ドラム上で約2分間にわたって77℃で適正に乾燥させたときの乾燥塗膜重量が約1.3g/m2の配合物のそれぞれを塗布した。
ポリマーB(2.76g)、オリゴマーA(0.69g)、IR色素2(0.09g)、メルカプトトリアゾール(0.06g)、SR-399(0.34g)、Klucel M(2.2g、水中1%)、Elvacite 4026(1.1g、MEK中10%)、PEGDA(0.21g)、25%Byk(登録商標)336(0.2g)、及び開始剤A〜Fのそれぞれ(0.18g、各溶液中に1種)を、n−プロパノール(22.1g)、水(7g)、及びMEK(13.1g)中に溶解することにより、6種の画像形成性層配合物を個々に調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、回転ドラム上で約2分間にわたって77℃で適正に乾燥させたときの乾燥塗膜重量が約1.0g/m2の配合物溶液のそれぞれを塗布した。
ポリマーB(5.42g)、オリゴマーA(1.27g)、IR色素2(0.18g)、3−メルカプトトリアゾール(0.11g)、SR-399(0.69g)、Klucel M(4.41g、水中1%)、Elvacite 4026(1.98g、MEK中10%)、PEGDA(0.27g)、Blue 63(2g、THF中10%)、DHBP(0.1g)、Byk(登録商標)336(0.4g)、及び開始剤D(0.31g)を、n−プロパノール(44.2g)、水(13g)、及びMEK(24.7g)中に溶解することにより、画像形成性層配合物を調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、回転ドラム上で約2分間にわたって77℃で適正に乾燥させたときの乾燥塗膜重量約1.0g/m2を提供するように、上記配合物を塗布した。
ポリマーB(2.43g)、オリゴマーA(0.56g)、IR色素2(0.08g)、3−メルカプトトリアゾール(0.05g)、SR-399(0.56g)、Klucel M(1.93g、水中1%)、Elvacite 4026(0.96g、MEK中10%)、NaBPh4(0.08g)、Byk(登録商標)336(0.18g)、及びビス−t−ブチルフェニル−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート(IBPF)を、n−プロパノール(27.2g)、水(7.3g)、及びMEK(8.2g)中に溶解することにより、画像形成性層配合物を調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、回転ドラム上で約2分間にわたって77℃で適正に乾燥させたときの乾燥塗膜重量約1.0g/m2を提供するように、上記配合物を塗布した。結果として生じた画像形成性要素(版)を周囲温度又は50℃で5日間にわたってインキュベートした。要素(周囲温度及び50℃エージングの両方)をCREO Trendsetter 3244x画像セッター(Creo、カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby在)上で試験し、そして120mJ/cm2で830nmのIRレーザーに当てた。
ポリマーA(2.1g)、オリゴマーA(1.45g)、SR-399(1.13g)、開始剤D(0.39g)、IR色素1(0.17g)、Irganox 1035(0.83g、MEK中5%)、顔料951(0.6g)、PEGDA(0.55g)、及びByk(登録商標)307(0.55g)を、PGME(60.5g)及びMEK(31.8g)中に溶解することにより、画像形成性層配合物塗布用溶液を調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、回転ドラム上で約2分間にわたって77℃で適正に乾燥させたときの乾燥塗膜重量約1.3g/m2を提供するように、上記配合物溶液を塗布した。
ポリマーA(2.05g)、オリゴマーA(1.45g)、SR-399(1.11g)、開始剤A(0.39g)、IR色素1(0.17g)、Irganox 1035(0.83g、MEK中5%)、顔料951(0.6g)、PEGDA(0.55g)、及びByk(登録商標)307(0.55g)を、PGME(60.5g)及びMEK(31.8g)中に溶解することにより、画像形成性層配合物を調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、回転ドラム上で約2分間にわたって77℃で適正に乾燥させたときの乾燥塗膜重量約1.3g/m2を提供するように、上記配合物溶液を塗布した。結果として生じた画像形成性要素を周囲温度又は50℃で5日間にわたってインキュベートした。インキュベーション後、要素は、特に50℃でインキュベートされた要素において、画像形成表面上に多数の結晶を不規則に生成した。
ポリマーA(0.51g)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(Aldrichのエポキシ化合物、0.51g)、開始剤A(0.10g)、IR色素1(0.04g)、Irganox 1035(0.55g、MEK中5%)、顔料951(0.15g)、PEGDA(0.14g)、及びByk(登録商標)307(0.14g)を、PGME(15.1g)及びMEK(7.7g)中に溶解することにより、画像形成性層配合物を調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、巻線ロッドを使用することにより上記配合物溶液を塗布した。続いて、乾燥塗膜重量約1.3g/m2を提供するように、約100℃に設定されたRanarコンベヤ炉内にほぼ90秒間の滞留時間にわたって塗膜を乾燥させた。結果として生じた画像形成性要素を、CREO Trendsetter 3244x画像セッター(Eastman Kodak Companyの子会社であるCreo、カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby在)上に置き、そして50〜210mJ/cm2の露光エネルギーで830nmのIRレーザーに当てた。次いで、956 Developerを装入されたSword Excel NE34版処理装置を使用して、25℃で画像形成された要素を現像した。非露光領域上の現像が貧弱であることにより、要素から画像は得られなかった。
ポリマーA(0.51g)、Cymel-303 ULF樹脂(CYTEC Industries Inc.のヘキサメトキシメチルメラミン樹脂、0.51g)、開始剤A(0.10g)、IR色素1(0.04g)、Irganox 1035(0.55g、MEK中5%)、顔料951(0.15g)、PEGDA(0.14g)、及びByk(登録商標)307(0.14g)を、PGME(15.1g)及びMEK(7.7g)中に溶解することにより、画像形成性層配合物を調製した。ポリ(アクリル酸)で後処理されている機械的グレイニングリン酸陽極酸化されたアルミニウム基板に、巻線ロッドを使用することにより上記配合物を塗布した。続いて、乾燥塗膜重量約1.3g/m2を提供するように、約100℃に設定されたRanarコンベヤ炉内にほぼ90秒間の滞留時間にわたって塗膜を乾燥させた。結果として生じた画像形成性要素を、CREO Trendsetter 3244x画像セッター(Eastman Kodak Companyの子会社であるCreo、カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby在)上に置き、そして50〜210mJ/cm2の露光エネルギーで830nmのIRレーザーに当てた。次いで、956 Developerを装入されたSword Excel NE34版処理装置を使用して、25℃で画像形成された要素を現像した。現像された領域上のODが低いことにより、210mJ/cm2まで適当な画像は得られなかった。
Claims (20)
- ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると、前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができるホウ酸ヨードニウム開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
を含んでなる輻射線感光性組成物であって、
前記ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、下記構造(I):
Z-は、下記構造(II):
によって表される有機アニオンである}
によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウムを含む輻射線感光性組成物。 - X及びYが独立して、アルキル、アルキルオキシ、又はシクロアルキル基であり、p及びqの両方が少なくとも1であり、そしてR1、R2、R3、及びR4が独立して、アルキル基又はアリール基である請求項1に記載の組成物。
- X及びYが独立してアルキル基であり、そしてR1、R2、R3、及びR4のうちの少なくとも3つが独立して、アリール基である請求項1に記載の組成物。
- Z-がテトラフェニルボレートである請求項1に記載の組成物。
- 前記ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、4−オクチルオキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、[4−[(2−ヒドロキシテトラデシル)−オキシ]フェニル]フェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフェニルボレート、4−メチルフェニル−4’−へキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、4−メチルフェニル−4’−シクロヘキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、ビス(t−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−ヘキシルフェニル−フェニルヨードニウム−テトラフェニルボレート、4−メチルフェニル−4’−シクロヘキシルフェニルヨードニウムn−ブチルトリフェニルボレート、4−シクロヘキシルフェニル−フェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、2−メチル−4−t−ブチルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、4−メチルフェニル−4’−ペンチルフェニルヨードニウムテトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、4−メトキシフェニル−4’−シクロヘキシルフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−メトキシフェニル−4’−ドデシルフェニルヨードニウムテトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及びビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(1−イミダゾリル)ボレートのうちの1種又は2種以上を含む請求項1に記載の組成物。
- 前記ホウ酸ジアリールヨードニウム開始剤組成物が、少なくとも1重量%の量で存在する請求項1に記載の組成物。
- 前記ラジカル重合性成分が、エチレン系不飽和ラジカル重合性モノマー若しくはオリゴマー、又はラジカル架橋性ポリマーから成る請求項1に記載の組成物。
- 前記高分子バインダーが、ペンダントビニル基又はペンダントN−カルバゾール部分を含んでなるポリマーであり、そして前記輻射線吸収化合物が赤外線感光性である請求項1に記載の組成物。
- ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると、前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができるホウ酸ヨードニウム開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
を含んでなる画像形成性層を基板上に有して成る画像形成性要素であって、
前記ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、下記構造(I):
Z-は、下記構造(II):
によって表される有機アニオンである}
によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウムを含む画像形成性要素。 - 前記画像形成性層が最外塗布層であり、前記輻射線吸収化合物がIR感光性色素であり、前記ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフェニルボレート、4−メチルフェニル−4’−へキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、2−メチル−4−t−ブチルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、及び4−メチルフェニル−4’−シクロヘキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、又はこれらの混合物を、0.01〜0.3g/m2の量で含んでなり、前記ラジカル重合性成分が、不飽和型ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー、又はラジカル架橋性ポリマーから成っており、そして前記高分子バインダーが、ペンダントビニル基又はペンダントN−カルバゾール部分を含んでなるポリマーである請求項9に記載の画像形成性要素。
- X及びYが独立してアルキル、アルキルオキシ、又はシクロアルキル基であり、p及びqの両方が少なくとも1であり、そしてR1、R2、R3、及びR4が独立して、アルキル、又はアリール基である請求項9に記載の要素。
- X及びYが独立してアルキル基であり、Z-がテトラフェニルボレートである請求項9に記載の要素。
- 該要素が赤外線感光性要素であり、そして前記輻射線吸収化合物がIR色素である請求項9に記載の要素。
- 機上現像可能である請求項9に記載の要素。
- A)ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると、前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができるホウ酸ヨードニウム開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
を含んでなる画像形成性層を基板上に有して成り、
前記ホウ酸ヨードニウム開始剤組成物が、下記構造(I):
Z-は、下記構造(II):
によって表される有機アニオンである}
によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウムを含んでなる
ネガ型画像形成性要素を像様露光すること、そして
B)予熱工程なしに、前記画像形成性層の非露光領域だけを除去するために、前記像様露光された要素を現像すること
を含んでなる画像形成された要素の製造方法。 - 前記輻射線吸収化合物が、カーボンブラック又はIR感光性色素であり、前記像様露光工程Aが、20〜500mJ/cm2のエネルギーレベルで700〜1200nmの最大波長を有する輻射線を使用して実施される請求項15に記載の方法。
- 前記像様露光された要素が、機上で現像される請求項15に記載の方法。
- 請求項15の方法から得られる画像形成された要素。
- A)好適な溶剤中でホウ酸ジアリールヨードニウム化合物を、
ラジカル重合性成分、
輻射線吸収化合物、及び
高分子バインダー
と混合することにより画像形成性層配合物を形成すること、
前記ホウ酸ヨードニウム化合物は、下記構造(I):
Z-は、下記構造(II):
によって表される有機アニオンである}
によって表される、そして
B) 前記画像形成性層配合物を基板に適用すること
を含んでなる画像形成性要素の製造方法。 - 請求項19の方法によって得られる画像形成性要素。
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