JP2009534494A - フレキシブルなプラズマポリマー生成物、相当する物品およびその使用 - Google Patents

Abstract

本発明は、炭素、ケイ素、酸素および水素からなるプラズマポリマー生成物を有し、あるいはそれからなる物品に関するものであり、プラズマポリマー生成物のＥＳＣＡスペクトル内で、脂肪族部分のＣ１ｓピークを２８５．００ｅＶに較正する場合に、２５℃において３５０ｍｍ^２／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍＬの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）と比較して、Ｓｉ２ｐピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４４ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつＯ１ｓピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．５０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、プラズマポリマー生成物からなり、あるいはこの種のプラズマポリマー生成物を有する物品に関する；本発明は、さらに、相当する（発明に基づく）プラズマポリマー生成物の使用、相当するプラズマポリマー生成物を製造する方法および、本発明に基づく方法によって製造可能なプラズマポリマー生成物に関する。

本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品またはその構成部品として）は、炭素、ケイ素、酸素および水素と場合によっては通常の不純物からなる。

「プラズマポリマー生成物」とは、プラズマ重合によって製造可能な生成物である。プラズマ重合とは、プラズマによって刺激された、ガス状の先駆物質（モノマーと称されることも多い）が、自由に選択可能な基板上に高架橋化された層として析出（沈殿、堆積あるいは被覆）される、方法である。プラズマ重合のための条件は、作業ガス内に炭素とケイ素のような鎖を形成する原子が存在することである。刺激により、電子および／またはエネルギーに富んだイオンの照射によって、ガス状の物質がフラグメント化される。この時、高励起されたラジカルな、あるいはイオンの分子フラグメントが生じ、それがガス空間内で互いに反応してコーティングすべき表面上に析出される。この析出された層上に、プラズマの電気的放電とその集中的なイオンおよび電子の照射が持続的に作用するので、析出された層内で他の反応が誘引されて、析出された分子の高度な結合を得ることができる。

本明細書において、「プラズマポリマー生成物」という概念は、プラズマ支援されたＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）（プラズマ化学気相成長法）で形成される、ないしは形成された生成物も含んでいる。反応を行うために、基板が付加的に加熱される。それによって、たとえばシランと酸素からなるＳｉＯ₂コーティングが形成される。さらに明確に述べると、本発明に基づく生成物を製造するために、現在では低圧プラズマ重合方法が好ましいが、大気圧プラズマ方法も使用することができる。

プラズマポリマーコーティングを有する物品は、すでにずっと以前から知られている。特にここでは、特に除去が容易なプラズマポリマーコーティング（Easy-to-clean-コーティング）を有する物品に関する、ＤＥ１０１３１１５６Ａ１（Fraunhofer-Gesellschaft）を挙げる。

従来技術に基づく他の文献は以下のとおりである：ＵＳ５２３０９２９Ａ；ＷＯ９９／２２８７８；ＥＰ９６０９５８Ａ２；ＤＥ１００５６５６４Ａ１；ＥＰ１１２３９９１Ａ２；ＥＰ１２６０６０６Ａ２；ＤＥ１００４７１２４Ａ１およびＤＥ１０１３１１５６Ａ１内で挙げられた他の文献。

ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に示すプラズマポリマーコーティングは、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングとして極めて適している。しかし従来知られている他のプラズマポリマーコーティングと同様に、極めてわずかな弾性と柔軟性しか持たない。従って、機械的な負荷（特に曲げまたは伸張）において、プラズマポリマーコーティング内に望ましくない亀裂がもたらされ、それが、プラズマポリマーコーティングの機械的特性と特にその使用特性に全体として悪い影響を与える。

本発明の課題は、プラズマ重合され、三次元的に架橋された生成物を有する、あるいはそれからなる物品を提供することであって、プラズマ重合された生成物は、炭素、ケイ素、酸素および水素からなる、これまで知られているプラズマポリマー生成物に比較して、特に高い柔軟性と弾性的伸張性を有している。、課題の主旨における使用可能性を達成し、かつ表面、特にプラズマポリマー表面への有意義な結合を保証するために、文献においてしばしば記載されるような、いわゆるオリゴマー生成物（粘性、油性の特徴を有する層）の形成を回避するべきである。

好ましくは、提供すべきプラズマポリマーコーティングは、これまで知られているプラズマポリマーコーティングと同じ適用分野においても使用できなければならず、そのため、引っ掻きに強いコーティングとして、腐食防止コーティングとして、付着防止する汚れを弾くコーティングとして、あるいはバリアコーティングとして、使用することができなければならない。

本発明の課題は、炭素、ケイ素、酸素および水素と場合によっては通常の不純物からなるプラズマポリマー生成物を有し、あるいはそれからなる物品によって解決され、プラズマポリマー生成物のＥＳＣＡ−スペクトル（ＥＳＣＡ＝Electron Spectroscopy for Chemical Analysis;しばしばＸＰＳ検査法とも称される、ＸＰＳ＝Xray Photoelectron Spectroscopy）内で、脂肪族部分のＣ１ｓピークのを２８５．００ｅＶに較正する場合に、２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃における０．９７ｇ／ｍｌの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）と比較して、Ｓｉ２Ｐピークは、最大で０．４４ｅＶ（好ましくは最大で０．４０ｅＶ、特に好ましくは最大で０．３０ｅＶ）だけ、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへシフトされた、結合エネルギー値を有し、従ってたとえば、１０２．６９ｅＶのＰＤＭＳのＳｉ２ｐピークにおいては、１０２．２３から１０３．１３の領域内にある結合エネルギー値を有し、かつ
Ｏ１ｓピークは、最大で０．５０ｅＶ（好ましくは最大で０．４０、特に好ましくは０．３０）だけ、より高い、あるいはより低い結合エネルギー（好ましくは高い結合エネルギー）へシフトされた、結合エネルギー値を有し、従ってたとえば、５３２．４６ｅＶのＰＤＭＳのＯ１ｓピークにおいては、５３１．９６から５３２．９６ｅＶの領域内にある、結合エネルギー値を有する。

２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃において０．９７０ｇ／ｍｌの濃度とを有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）は、Ｇｅｌｅｓｔ社の製品ＤＭＳ−Ｔ２３Ｅである。

測定器具の較正は、すでに述べたように、Ｃ１ｓピークの脂肪族部分のＣ１ｓピークが２８５．００ｅＶであるように行われた。チャージング効果に基づいて、通常、エネルギー軸をそれ以上の修正なしでこの固定値にシフトさせることが、必要である。

ＥＳＣＡ調査を実施するための、本発明に基づく好ましい方法については、後述の例４を参照。

結合エネルギー位置についての記載の値を有するプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品またはこの種の物品の構成要素として）は、正確に２つの酸素原子と結合されている、ケイ素原子の特に高い割合を特徴としている。同時に、３つあるいは４つの酸素原子と結合されているケイ素原子の割合は、特に少ない。３つないし４つの隣接する酸素原子を有するケイ素原子（"tertiaeres"ないし"quartaeres" Silicium）に比較して、２つの隣接する酸素原子を有するケイ素原子（"sekundaeres Silicium"）の特に高い割合は、従来のプラズマポリマー生成物に比較して、本発明に基づくプラズマポリマー生成物（生成物として、あるいは本発明に基づく物品の構成要素として）内の三次元の架橋化の割合が、存在はしているが、減少されていることを、意味している。同時に、枝分かれしていない鎖（−部分）の割合が、増大している。恐らくこのことが、本発明に基づくプラズマポリマー生成物の弾性と柔軟性の増大の原因と思われる。

本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品またはこの種の物品の構成要素として）は、通常、以下の特性を有している：
固有熱伝導性：約０．２Ｗ／°Ｋｍ
０−１５０℃領域における線形の熱膨張係数：約２．５×１０^-4ｍ／ｍＫ
２５℃における屈折率：２５０ｎｍにおける約１．５から８９５ｎｍにおける１．４２５
動的接触角度（空気における２３℃において、Ｓｉウェファ上で滴が成長する場合に測定）
水について 約１０２°
ヨードメタンについて 約８６°
エチレングリコールについて 約８０．５°
固有熱容量：約１．５５Ｊ／ｇＫ
絶縁破壊強さ：約２３ｋＶ／ｍｍ
固有絶縁抵抗：＞２３℃において１０¹⁴Ωｃｍ
誘電定数：２３℃において、約３εｒ、５０Ｈｚ
誘電損失ファクター：約５０×１０^-4ｔａｎδ
濃度：０．９から１．１５ｇ／ｃｍ³

本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品ないしこの種の物品の構成要素として）の分光学的データ（特にＥＳＣＡ分析に基づく結合エネルギー位置とＦＴＩＲスペクトルの詳細評価−ＦＴＩＲスペクトルの比較は、本発明に基づく生成物について、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングに比較して削減された割合のＣＨ２振動バンドを示す）も、機械的特性も、ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に基づくコーティングのそれとは、はっきりと区別される。ＥＳＣＡデータについての比較は、後掲の表一覧（表１）も参照。

特に好ましい本発明に基づくプラズマポリマー生成物について、結合エネルギー位置が、下で表に示されている（表１を参照）。

本発明に基づくプラズマポリマー生成物について記載された結合エネルギー位置（ないし結合エネルギーシフト）は、プラズマポリマー生成物内の物質量比および使用される元素の割合と関連している。

本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品あるいはこの種の物品の構成要素として）内の物質量比について、一般に、以下のことが言える：
０．７５ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
１．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
１．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．５０
２．２５ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００

しかし、好ましくは、プラズマポリマー生成物内の物質量比について、次のことが言える：
１．００ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
２．００ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
１．６０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．３０
２．４０ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００

特に、プラズマポリマー生成物内の物質量比について、次のことが言える：
１．０５ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２３
２．１０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．２３
１．７０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．００
２．６０ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００

ここで、水素なしのすべての原子ペアリングの物質量比は、ここでも標準として使用される、２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍｌの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）について、ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＝１．０２、ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＝２．３５およびｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ）＝２．２９の物質量比を生じる調節におけるＥＳＣＡ測定に関する。水素と炭素の間の比は、古典的な化学的元素分析の結果に関する。

元素であるケイ素、酸素および炭素の物質量比に関して、一般に言えることであるが、プラズマポリマー生成物は、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して次のものを有する：
ケイ素 ２２から２８原子％
酸素 ２２から３０原子％
炭素 ４２から５５原子％

しかし、プラズマポリマー生成物が、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して、について、次のものを有していると、効果的である：
ケイ素 ２２から２６原子％
酸素 ２４から２９原子％
炭素 ４７から５１原子％

原子％記載は、ここでも標準として使用される、２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍｌの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）について、ケイ素について２２．９原子％、酸素について２３．４原子％および炭素について５３．７５原子％を生じる調節におけるＥＳＣＡ測定に関する；許容誤差に関しては、下の表１を参照。

好ましい重量割合と物質量比を考慮して、本発明に基づく物品は、特に効果的であり、プラズマポリマー生成物は、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して以下のものを有している：
ケイ素 ２２から２８原子％
酸素 ２２から３０原子％
炭素 ４２から５５原子％
プラズマポリマー生成物内の物質量比について、次のことが言える：
０．７５ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
１．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
１．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．５０
２．２５ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
かつ、その場合にプラズマポリマー生成物のＥＳＣＡスペクトル内内で、２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍｌの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）に比較して、
Ｓｉ２ｐピークは、最大で０．４４ｅＶだけ、より高い、またはより低い結合エネルギーへシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつ
Ｏ１ｓピークは、最大で０．５０ｅＶだけ、より高い、またはより低い結合エネルギーへシフトされた、結合エネルギー値を有している。

この場合に、ＥＳＣＡ測定条件および選択された標準に関して、上述したことが同様に当てはまる。

そして、特に好ましい本発明に基づく物品内で、プラズマポリマー生成物は元素であるケイ素、酸素および炭素の合計１００原子％に対して以下のものを有しいる：
ケイ素 ２２から２６原子％
酸素 ２４から２９原子％
炭素 ４７から５１原子％
プラズマポリマー生成物内の物質量比について、次のことが言える：
１．００ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
２．００ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
１．６０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．３０
２．４０ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
かつ、ここで、Ｓｉ２ｐピークは、最大で０．４０ｅＶだけ、より高い、またはより低い結合エネルギーへシフトされた、結合エネルギー値を有し、
Ｏ１ｓピークは、最大で０．４０ｅＶだけ、より高い、またはより低い結合エネルギーへシフトされた、結合エネルギー値を有する。

本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品またはこの種の物品の構成要素として）は、特にその好ましい形態において、加水分解に耐え、弾性的であり、従って亀裂がなく、＞５０％（好ましい形態においては＞１００％）の伸張まで伸張可能である。本発明に基づく物品またはこの種の物品の構成要素を構成するプラズマポリマー生成物は、フレキシブルな移動バリアを形成する。さらに、本発明に基づくプラズマポリマー生成物は、付着防止特性と、多数のエラストマーに比較して改良された滑り能力を有する（この限りにおいて、登録商標Ｖｉｔｏｎ、シリコンゴム、ゴムなどのようなフルオルエラストマーの滑り特性を参照）。なぜなら、この種のエラストマーが通常有する表面接着性（Ｔａｃｋ）が欠けており、ないしは著しく低下しているからである。

好ましくは、本発明に基づく物品は、特に上で好ましいとされた形態において、効果的であって、その場合に（ｉ）物品は、プラズマポリマー生成物からなり、かつコーティング（基板上）またはコーティングの一部あるいは、好ましくはわずかな層厚を備えた箔（ここでは、支持が無く(unsupported)、また基板と結合されていないフィルムないし箔を特に意味する）であり、あるいは（ii）基板および基板から破壊なしで剥がすことができ、あるいは破壊なしでは剥がすことができないプラズマポリマー生成物の形式のコーティングを有する複合体であって、その場合に（ｉ）箔は、好ましくは２０から２０００ｎｍの領域の厚みを有し、（ii）コーティングは、好ましくは１から２０００ｎｍの厚みを有する。

本発明に基づく（支持のない）箔（プラズマポリマー生成物からなる、本発明に基づく物品の例として）は、ＤＥ１０２００４０２６４７９とは異なり、支持体（たとえば、シリコンウェファあるいはアルミニウム箔などのような極めて滑らかな支持体あるいはトポグラフィック構造の支持体）が、水溶性の物質（たとえば砂糖、塩、水溶性のラッカーなど）によってコーティングされ、あるいはそれ自体水溶性であることにより、形成される。場合によっては水溶性の物質からなるコーティングを有する支持体上に、その後、本発明に基づくプラズマポリマー生成物の上述した特性を有する、プラズマポリマーコーティングが析出される。その後、プラズマポリマーコーティングは、水槽内で、損傷されることなく、支持体から剥がすことができる。剥がされたプラズマポリマーコーティング（プラズマポリマー箔）は、通常、２０から２０００ｎｍの範囲の厚みを有している。それを、以下でナノ箔と称する。

プラズマ重合テクノロジーの大きな利点は、たとえば１から２０００ｎｍまでの薄い厚みを有し、それにもかかわらず、特に弾性と柔軟性に関して所望の特性を有する、箔ないしコーティングを形成できることである。さらに、表面上のコーティングを活性化することができるので、剥離後に、一方の側に非粘着性の表面特性を有し、他方の側に粘着性の表面特性を有するナノ箔が生じることが、可能である。

特に、基板と１から２０００ｎｍの領域の厚みを備えたコーティングとを有する複合体である、本発明に基づく物品が効果的であって、その場合にコーティング自体は、ここでも基板から破壊なしで剥がすことができ、あるいは破壊なしで剥がすことができない生成物からなり、かつその場合にコーティングは、１００ｇ／ｍｏｌあるいはそれより多い、好ましくは５０ｇ／ｍｏｌまたはそれより多いモル質量のモル質量を有する分子を通過させない。従って、この種の複合体は、１００ｇ／ｍｏｌ（ないし５０ｇ／ｍｏｌ）またはそれより多いモル質量を有する分子のための（プラズマポリマー）透過バリアを有する。発明者独自の研究において、本発明に基づくプラズマポリマー箔またはコーティング（本発明に基づくプラズマポリマー生成物の例として）は、部分的に１０００ｎｍよりもずっと薄い、極めて少ない厚みにおいてすでに、１００ｇ／ｍｏｌ（好ましくは５０ｇ／ｍｏｌ）のモル質量を有する分子の通過を完全に阻止することが、明らかにされた。ここで、箔またはコーティングは、柔軟かつ弾性的であるので、駆動においても、上述した分子のコーティングの通過を可能にする、望ましくない亀裂形成をもたらすことはない。

特に、本発明に基づく物品が、上述した種類の複合体である場合に、物品が、基板としてエラストマーと付加的にその上に配置されている、１から２０００ｎｍの領域の厚みを備えたコーティングとを有していると、効果的であって、その場合にコーティングは、基板から破壊なしで剥がすことができる、あるいは破壊なしでは剥がすことができない（本発明に基づく）プラズマポリマー生成物からなる。しかし、この種の物品の利点は、いかなる場合でも透過バリアとしてのその特性にあるわけではない。他の場合においては、エラストマー基板とその上に配置されているコーティング（本発明に基づくプラズマポリマー生成物の例として）とを有する物品の利点は、コーティングが、処理されない基板と比較して物品の滑り特性を著しく増大させることにある。というのは、粘着度（Ｔａｃｋ）が最小限に抑えられるからである。

本発明に基づく物品において、基板自体も（本発明に基づく、あるいは本発明に基づかない）プラズマポリマー生成物であることができ、その上にその後、記載のＥＳＣＡデータによって定義される構造と組成を有する、剥離可能または破壊なしで剥離できないプラズマポリマー生成物が配置される。ここで、基板として使用されるプラズマポリマー生成物は、通常、ベース基板上に、たとえばこの種のベース基板上にプラズマポリマー層の形式で、取り付けられている。代替的に、基板が、ＰＶＤ、ＣＶＤ、プラズマ支援されるＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）により、電気化学的に、あるいはゾル−ゲル−技術を用いてベース基板上に塗布された層であることができる。

特に、本発明に基づく物品は、以下のものからなるグループから選択することができる：
−移動ブロック（移動バリア）あるいは移動ブロックの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、１００ｇ／ｍｏｌあるはそれより多い、好ましくは５０ｇ／ｍｏｌまたはそれより多いモル質量を有する分子に対する移動ブロック（移動バリア）を有する物品、
−シールまたはシール構成要素としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、シールを備えた物品、
−コーティング材料としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、コーティングを備えた光学素子、
−腐食に敏感な基板と、その上に配置された、腐食防止コーティングまたは腐食防止コーティングの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、腐食防止コーティングとを有する物品、
−特に接着剤処理の領域における適用のために、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングまたは除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングを備えた基板を有する物品、
−（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングまたは（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングを備えた基板（特にまた（技術的）テキスタイル）を有する物品、
−（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングないし疎水仕上げあるいは（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングないし疎水仕上げの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングないし疎水仕上げを備えた基板（特にまたメンブレン）を有する物品、
−（非細胞毒の）抗菌コーティングまたは抗菌コーティングの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、特にＤＥ１０３５３７５６に基づく、あるいはそれと同様の、抗菌コーティングを備えた基板を有する物品、
−（非細胞毒の）抗菌コーティングまたは抗菌コーティングの一部としての上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、特にＰＣＴ／ＥＰ２００４／０１３０３５に基づく、あるいはそれと同様の、抗菌コーティングを有する包装を製造するための基板を有する物品、
−基板、特に熱交換器または熱交換器の一部とその上に配置された、熱伝導性を好ましくは測定できるほど変化させない、疎水性の、加水分解安定の表面特性を有する、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、コーティングとを有する、物品、
−分離層または分離層の一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、プラズマポリマー分離層を備えた基板を有する物品、
−エラストマー生成物とエラストマー生成物上の、コーティングまたはコーティングの構成要素としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、滑り特性を増大させるコーティングとを有する物品、
−基板、特にリソグラフシステムの光学コンポーネントとその上に配置されている、保護箔または保護箔の構成要素としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、残渣なしで取り外し可能、好ましくは残渣なしで引き外し可能な保護箔とを有する物品、
−基板、特にリソグラフシステムの光学コンポーネントとその上に配置されている、加水分解に耐える、著しく疎水性かつほぼＵＶ透過性の保護層としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有するコーティングとを有する物品、
−欠陥を有する好ましくはプラズマポリマーコーティングと欠陥を補修するための、補修箔または補修箔の構成要素としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、補修箔とを有する物品、
−好ましくはバリア特性を備えた、少なくとも２つのより硬い層または基板と、より硬い層または基板の間の、スペーサ層またはスペーサ層の構成要素としての、上のように定義されるプラズマポリマー層を有する、少なくとも１つの柔らかいスペーサ層とを有する物品、
−カバー層またはカバー層の構成要素としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、疎水性のカバー層を備えた、ガスと蒸気、特に水蒸気、二酸化炭素または酸素の移動を減少させるためのバリアコーティングまたは基板を有する物品、
−好ましくは電気的な構成部品と、絶縁箔または絶縁コーティングあるいはこの種の箔またはコーティングの一部としての、上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、電気的に絶縁する箔またはコーティングとを有する物品、
−上のように定義されるプラズマポリマー生成物を有する、好ましくは移植可能な医用工学品を有する物品。好ましくは、コーティングは、その非粘着性の表面特性に基づいて、バクテリア、卵白および他の身体固有の物質（場合によっては医薬品によって改質された）の付着を減少させる。
−コーティングとして上に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、好ましくは移植可能なシリコン物品。好ましくは、コーティングは、その非粘着性および／または伸張可能な表面特性に基づいて、身体融和性の向上を許す（その限りにおいて、本発明に基づくコーティングは、特に適している。というのは、低分子の反応生成物が存在しないからである）。

本発明は、また、上のように定義されるプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品ないし本発明に基づく物品の構成要素として）の、以下のものとしての使用に関する：
−１００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは５０ｇ／ｍｏｌ以上のモル質量を有する分子に対する移動ブロック（移動バリア）
−ガスと蒸気、特に水蒸気、二酸化炭素または酸素の移動を減少させるためのバリアコーティングまたは基板上のカバー層、
−特に最大で１０００ｎｍの厚みを有するシールのための、シール材料、
−フレキシブルな包装材料のフレキシブルなコーティング、
−光学素子をコーティングするためのフレキシブルなコーティング、
−加水分解に耐えるコーティング、
−疎水性のコーティング、
−抗菌コーティング、特に非細胞毒の抗菌コーティング、
−腐食防止コーティング、
−除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティング、
−エラストマー生成物上の滑り特性を向上させるコーティング、
−特に、リソグラフィックシステムの光学素子のため、さらに好ましくは液浸リソグラフィックシステムの光学素子のための、保護−および／またはＵＶ透過する、加水分解安定の箔、
−分離層または分離層の一部、
−特に除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）適用または分離層適用または光学的適用のための、補修箔、
−非粘着性および粘着性の表面特性を有する箔またはコーティング、
−ローカルな親水性ないし疎水性の領域を形成するために、特に親水性基板をコーティングするための、孔および／または細片パターンを有する箔、
−互いに分離すべき、より硬い層または基板の間の柔らかいスペーサ層、特にバリア層、
−特に極性分子の吸着を阻止するため、あるいは、水蒸気、二酸化炭素または酸素のようなガスまたは蒸気に対するバリアコーティングないしウルトラバリアコーティングのバリア特性を改良するための、著しく疎水性のカバー層、
−特に電気的な構成部材内の、絶縁箔または絶縁コーティング、
−ダイアモンド状のコーティング、特に基板上に化学的に結合された薄いコーティング上の、分離層ないし著しく疎水性の層。

本発明は、さらに、本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品または本発明に基づく物品の構成要素としての）を製造する方法に関するものであって、同方法は以下のように実施される：

低圧プラズマ重合方法による製造が、最も容易に成功する。そのために、真空反応容器が使用され、その真空反応容器が真空ポンプによって、少なくとも、特にプラズマが点火された場合に、選択された作業ガス量において所望の作業圧力が維持できる程度に、排気される。当業者は、さらに、ガス雰囲気が、反応容器壁またはその上にあるコーティングに付着する（内漏れ）残留水（湿気）によって、できるだけわずかしか妨害されないように、注意するであろう。さらに、使用されるチャンバの全外漏れ率が、プロセスへ供給すべき酸素量の１％よりも少ないことが、保証される。安定した、低い漏れ率は、たとえば漏れテスターまたは質量スペクトロメータを用いて証明し、かつ発見することができる。内漏れは、十分に長い排気時間（少なくとも１／２時間）によって、あるいはチャンバの加熱によって最小限に抑えられ、場合によっては質量スペクトロメータによって証明される。ここに記載される、時間およびコストのかかる、厳しいやり方は、通常の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングを製造するためには、必要ではない。というのは、ここでは所定の帯域幅内で比較的大量の酸素の組込みが受け容れられるからである。

適切な基板表面は、直接、すなわち前処理なしで、コーティングすることができるが、たとえば清掃、活性化またはプラズマ重合のための前処理ステップないし前コーティングステップも、可能である。支持のないフィルム（ナノ箔）を製造しようとする場合には、簡単な剥離を可能にする基板が選択される。そのための可能性は、液体内に容易に溶ける固体のコーティングないし、選択された作業圧のずっと下にある蒸気圧を有するこの種の液体のコーティングである。コーティングすべき（固体）物質として、たとえば、水溶性の物質または有機溶剤に溶けることができる物質が、提供される。さらに、コーティングは、極めてわずかな付着しか予想されない表面上で、たとえばフルオロポリマー上または分離手段上でも、行うことができる。後者は、さらに、基板上かつコーティングの下にある分離手段を有機溶剤内に溶かす選択肢を開く。

本発明に基づく物質を製造するための作業ガスとして、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、オクタメチルトリシロキサン、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）またはビニルトリメチルシラン（ＶＴＭＳ）のような、ケイ素有機先駆物質が使用される。特に、ＨＭＤＳＯが、効果的である。というのは、それはその中にすでに、すでにメチル基で飽和された、第１のＳｉ−Ｏ−Ｓｉ単位を有しており、かつ比較的高い蒸発圧を有するからである。好ましくはこの先駆物質は、酸素と共に処理される。付加的な作業ガスとしての酸素は、所望の酸素割合の添加を可能にするだけでなく、ＨＭＤＳＯから分離された有機の断片のプラズマ化学的「燃焼」も可能にする。

プラズマは、原則的に種々の周波数で点火することができるが、もちろん好ましくは、いわゆる構造を保持するプラズマが選択される。これは、供給された先駆物質、たとえばＨＭＤＳＯがプラズマ内で完全に断片化されず、たとえば先駆物質分子当たり１つのメチル基のみが分離される程度の、マイルドなプラズマプロセスパラメータが選択されることを、意味している。

それによって、メチルに富んだＳｉ−Ｏ−ネットワークが生じる。この種の材料は、高いイオン衝撃によって著しく損傷または破壊されることがあり得るので、ＨＦ−周波数（１３．５６ＭＨｚ）が好ましく、かつ基板は、好ましくは電極上に固定されない。ＧＨｚ−周波数を使用する場合には、発生されたプラズマ内でのフラグメント化が高いことを考慮しなければならず、従って特別な注意が必要である。

供給されるガス量に関する出力は、好ましくは、先駆物質過剰において実施できるように、実用的な範囲が選択される。従って、供給されるプラズマ出力によって処理できるよりも、多くの作業ガスが提供される。例えば当業者は、供給される出力の増大が堆積あるいは被覆率の著しい上昇をもたらすことを認識する。たとえば酸素に対するＨＭＤＳＯのガス量比を調節するために、以下の例が補助として考察される：作業規定は、そのために調節できない。というのは、プラズマ重合においては、プロセスパラメータの調節は、特に、使用されるプラズマ設備に常に著しく依存するからである。しかし、当業者は、常にＨＭＤＳＯの過剰を選択するであろう。出力は、それぞれの全ガス量を考慮しながら調節される。その場合に、予備実験において、極めて滑らかで平らなコーティングされた試料ボディ、たとえばシリコンウェファ上の水エッジ角度を測定することが有益である。１００°の範囲の測定値は、通常、好ましい実用範囲であることを示す。しかし、ラスター電子顕微鏡あるいはＡＦＭ測定により、製造された物質が基層上にほんのわずかな粗度の上昇をもたらさないこと（Ｒａ＜１ｎｍ）が、保証されなければならない。この前提が満たされた場合に、ＸＰＳ測定を用いて詳細に特徴づけ、かつ最適化することができる、実用的範囲が見いだされる。

コーティング時間は、所望の層厚が得られるように、調節される。

好ましくは、分離するために、大容量の設備が利用される。というのは、それによって、構造を保持するプラズマ重合条件並びに正しいガス比、必要な出力および漏れ率に対する供給されるガス量の比を調節することが、ずっと容易になるからである。

本発明に基づく方法は、選択的に、低圧プラズマ重合または大気圧プラズマ重合を用いて実施することができる。大気圧プラズマ重合が適用される場合には、空気または空気水分のような異ガスの影響が、できる限り完全に除去される。

そして、本発明は、本発明に基づく方法によって製造することができる、プラズマポリマー生成物にも関する。この種のプラズマポリマー生成物は、その特性において、一般に、本発明に基づく物品またはこの種の本発明に基づく物品の構成要素として上述したような、プラズマポリマー生成物に相当する。方法パラメータであるガスフロー、ガス組成、漏れ率、プラズマ内へ結合される出力、圧力および電極への間隔を調節することによって、好ましいプラズマポリマー生成物ないし好ましい本発明に基づく物品が、その構造とその特性において所望に調節される。

本発明を、以下の説明（特に適用分野と実施例）を用いて、かつ添付の特許請求項によって、詳細に説明する。

適用分野：
以下で、本発明に基づく物品（たとえば、本発明に基づくプラズマポリマー生成物）のための好ましい適用分野を、それによって適用可能性の制限を意図することなく、紹介する。当業者は、本発明に基づく物品の特性の知識において、多数の他の適用領域を認識するであろう。

適用分野：移動バリア
本発明に基づく物品は、５０ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは１００ｇ／ｍｏｌ以上のモル質量を有する分子に対するプラズマポリマー移動バリアを有することができ、あるいは移動バリアそのものであることができる。その場合に特に重要なのは、有機分子に対するバリア作用である。移動バリアとしての適用の具体的な例は、たとえばプラスチック物質からの添加剤（たとえば軟化剤）に対するバリアのような、基板から望ましくない物質が流出することを防止するための移動バリアである（この適用は、食品包装にとって特に重要である）。従って本発明に基づく物品は、食品包装であり、あるいはそれを含むことができ、その食品包装の、食品へ向いた側に、それ自体本発明に基づくプラズマポリマー生成物である、プラズマポリマーコーティングが設けられている。食品包装自体は、この種の物品において、基板として用いられる；本発明に基づくプラズマポリマーコーティングによって食品に対して密閉することができる、食品包装材料の例は、たとえば、ソフトＰＶＣ、ポリウレタン泡などである。これらの具体的な例において、プラズマポリマーコーティングは、基板から望ましくない物質が食品内へ流出することを阻止するために、用いられる。しかし、本発明に基づくプラズマポリマーコーティングは、移動バリアとして、もちろん望ましくない物質の基板内への侵入も、同様に良好に阻止する。

望ましくない物質の基板内への侵入を阻止する、この種（本発明に基づく、プラズマポリマー）の移動バリアの具体的な例は、プラスチック基板上に配置されて、液体から基板内へ、プラスチック基板の寿命を短縮し、基板の望ましくない汚染をもたらし、ないしは基板を着色する可能性がある、溶剤、毒素または色素が侵入することを阻止する、移動バリアである。

本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づく物品または本発明に基づく物品の構成要素として）の使用は、移動バリアに加えて、１つまたは複数の以下に挙げる技術的要請が存在する場合に、特に効果的である：透明性；たとえば０．５μｍより薄い、コーティング厚み；高いＵＶ安定性。

そこで移動バリアとして機能するために、本発明に基づくプラズマポリマーコーティングを設けることができる、典型的な基板は、箔、シール材料（たとえば、特に食品領域における、ねじ蓋内のＰＶＣシール）、ゴムシール、包装（食品、薬品、化粧品、医療技術など）、テキスタイル、ＵＶ硬化のための露光母型など。移動バリアは、生理学的に問題がなく、極めて良好なエコバランスを有している。

適用分野「移動バリア」に関連して、今日、透明なバリアコーティングとして、たとえばＳｉＯｘまたはＡｌＯｘのような、無機の層が多様に使用されることに、注意しなければならない。これらのコーティングは、種々の真空方法によって、たとえばＰＶＤ、ＣＶＤまたはプラズマ支援されるＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）によって、製造することができる。上述したコーティングによって、適切な基板表面上で２０ｎｍのコーティング厚みから良好なバリア特性を達成することができるが、上述したコーティングにおいて、約５００ｎｍの厚みからは、亀裂が生じ、それがコーティングを再び透過性にする。これは、従来一般的な構造のプラズマポリマーバリア層についても、当てはまる。さらに、上述したコーティングは、脆く、従って破断に敏感である。従って、既知のコーティング方法に基づく極めて良好なバリアのためには、ほぼ空格子点のない無機のコーティングが必要である。

既知の無機のコーティングの他の欠点は、それが比較的柔軟ではないことにある。しかし、多数の適用において、基板の変形がもたらされ、その変形は、上述した従来のコーティングを使用する場合に、亀裂形成とそれに伴ってバリア特性の損失をもたらす。たとえばＳｉＯｘベースの、これまで知られている無機の移動バリアとは異なり、本発明に基づくプラズマポリマー生成物は、よりソフトで、より柔軟である。

従って、本発明は、適切な移動バリアを表す、改良された薄層コーティングシステムを提供する課題も、解決する。

わずかな分子重量を有するガスと蒸気についても、特に良好なバリアコーティングシステム、たとえばいわゆるウルトラバリアを提供するために、本発明に基づくコーティングは、薄層の複合体内の中間層（スペーサ層）として使用することができる。たとえば、それは、ＰＶＤ、ＣＶＤまたはプラズマ支援されるＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）によって設けられる（上述した著しく無機のＳｉＯｘコーティングないしＡｌＯｘコーティングのように）薄層と組み合わせて使用することができる。ここでは、本発明に基づく中間層は、比較的厚い「全層厚」において内部の（機械的）応力に基づく亀裂を形成する傾向を減少させることができる。さらに、この種の層複合体の柔軟性は、本発明に基づく中間層なしのバリア層に比較して、増大される。

わずかな分子重量を有するガスと蒸気のためのバリア層ないしウルトラバリア層のさらなる改良は、本発明に基づくコーティングをカバー層として使用することによって行うことができる。そのカバー層は、その著しく疎水性の表面に基づいて、しばしば移動の速度に決定的に影響する、たとえば水のような極性の分子の吸着を減少させる。

適用分野：加水分解耐性
加水分解に耐えるコーティングは、種々の分野で必要とされる。

たとえば、熱伝導を妨げない、加水分解に耐える、疎水性の薄層コーティングは、熱交換器の領域で必要とされる。熱交換器においては、圧力が増大された場合に、しばしば飽和された水蒸気雰囲気が発生する。それに対して熱交換器表面は、比較的冷たいので、水分が凝縮される。熱交換器表面上に水フィルムが形成されないようにするために、この表面を疎水性にして、それによって、付加的に冷却されることになり、熱伝導を妨げることになる水フィルムの形成が阻止されると、効果的である。その熱交換器表面に本発明に基づくプラズマポリマーコーティング（本発明に基づくプラズマポリマー生成物の例として）を有し、そのＥＳＣＡデータが本発明に基づく物品との関連において示されたＥＳＣＡデータに相当する、熱交換器が、本発明に基づく好ましい物品の例である。

加水分解に耐えるコーティングのための他の適用分野は、製紙の領域にある。製紙の領域では、いわゆる粘着物（Ｓｔｉｃｋｉｅｓ）の付着を防止するために、付着防止特性を有する、加水分解に耐えるコーティングが必要である。製紙設備の該当する部分に、そのＥＳＣＡデータが本発明に基づくプラズマポリマー生成物のための上述したＥＳＣＡデータに相当する、本発明に基づくプラズマポリマーコーティングを設けることによって、粘着物の付着が完全に、あるいは少なくとも極めて大幅に、防止されることが、明らかにされた。

同様に、本発明に基づくコーティングは、それ自体たとえばＰＶＤ、ＣＶＤ、プラズマ支援されるＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）、プラズマ重合、電気化学的またはゾル−ゲル−プロセスによって設けられた、他の薄層システム上に、加水分解保護層として設けることができる。特に、ＳｉＯｘコーティングおよびＡｌＯｘコーティングのような無機のコーティングは、その良好な腐食保護特性にもかかわらず、たとえば陽極処理されたアルミニウム基板上で比較的低い加水分解耐性を示すため、本発明に基づくコーティングを設けることが好ましい。

適用分野：付着防止特性／除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）特性

多数の工具と機械において、付着防止特性および／または除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）特性が望ましい。特に、これに関連して、接着剤（たとえばホットメルト、溶剤または冷間接着膠ありおよびなしの１成分接着剤および２成分接着剤）と接触する、工具と機械（製本機械、接着剤塗布装置、シール設備、印刷装置、装丁機のような）が挙げられる；例として、貯蔵容器、ポンプ、センサ、ミキサー、パイプ導管、塗布ヘッドなどが挙げられる。特にセンサの領域において、センサ全体を覆い、かつセンサ特性を損なわない、付着防止コーティングないし除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングの特別な需要がある。ここでは特に、本発明に基づくプラズマポリマーコーティング（上でプラズマポリマー生成物について記載したＥＳＣＡデータを有する）の適用が、特に効果的である。というのは、それが、センサ特性を損なうことなしに、センサ全体をコーティングすることを許すからである。さらに、本発明に基づくコーティングの表面エネルギーは、一般に、アセトンのような、幾つかの一般に用いられている溶剤がすでに、表面上でもはや広がらないように、小さい；−コーティングの表面エネルギーは、溶剤の表面エネルギーの下にある。それによって、溶剤を含む接着剤の流出挙動および清掃挙動も改良される。

本発明に基づく物品は、恒久的な離型層を有する型部品工具であることができ、その場合に恒久的な離型層自体が、本発明に基づくプラズマポリマー生成物であって、そのＥＳＣＡデータは、上に記載されている。恒久的な離型層を有する型部品工具およびそれを製造する方法は、ＥＰ１３０１２８６Ｂ１に開示されており、前記文献において、プラズマ重合の間に重合条件を時間的に変化させることによって、離型層内に勾配層構造を形成することが重要であることが確認されている。離型層として本発明に基づくプラズマポリマー生成物を有する、本発明に基づく物品の内部でも、プラズマポリマー生成物は勾配層構造を有することができる；しかし、プラズマポリマー生成物の（表面の）ＥＳＣＡ調査が、上述した結果をもたらすことのみが必要である。さらに、型部品工具上に勾配層構造を有する恒久的な離型層に加えて、ＥＳＣＡ調査において上述した結合エネルギー値を示す、本発明に基づくプラズマポリマーコーティング（本発明に基づくプラズマポリマー生成物）を設けることが、効果的である可能性がある。本発明に基づくプラズマポリマー生成物（本発明に基づくプラズマポリマーコーティング）は、このような場合において、それ自体分離する特性を有する、恒久的な離型層上で、滑り特性を支援する、フレキシブルなカバー層の機能も有している。簡略化された実施形態は、離型層内の勾配層構造を省く。

本発明に基づく生成物が伸張可能であることよって、箔（特に伸張可能な箔）のような、フレキシブルな生成物に、然るべき付着防止表面ないし除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）表面を設けることが、可能である。

適用分野：改良された滑り特性
本発明のこのアスペクトは、特に、エラストマー生成物と、エラストマー生成物上に、コーティングまたはコーティングの構成要素として、上述したように定義されたプラズマポリマー生成物を有する、滑り特性を増大させるコーティングとを有する、本発明に基づく物品に関する。

多くのエラストマー生成物、たとえば、Ｏリングまたはシールは、（エラストマー生成物の）基板の弾性的特性が要請された場合に、コーティングが裂けることなしに、コーティングまたはコーティングの構成要素として、本発明に基づくプラズマポリマー生成物を設けることができる。

現在使用されている多数のエラストマーは、劣った滑り特性を有するので、該当するエラストマー生成物は、自動的な装着自動機において良好に処理することはできない。エラストマー生成物は、煩わしい表面接着性（Ｔａｃｋ）を有している。たとえば、弁の技術的分野においては、わずかな離脱力しか期待されない場合に、この種のＴａｃｋは、否定的に認められかねない。さらに、この適用領域にとって悪いことに、タックをもたらす物質が、弁座へ転送されて、長い間には弁の非密閉性をもたらしかねない。従って、使用されるエラストマーに、上述したような、本発明に基づくプラズマポリマーコーティングを設けることが、効果的である。というのは、それによって特に、高い伸張性において、滑り特性と分離特性も与えられるからである。その場合に、エラストマーとプラズマポリマーコーティング（プラズマポリマー生成物）は、一緒になって本発明に基づく物品を形成する。

他の特殊な適用分野は、シリコンゴムの滑り特性の改良であって、それが、工業技術的領域においても、たとえば医療技術の領域においても、一連の好ましい物品をもたらす。ここで、該当する、本発明に基づく物品は、シリコンゴム生成物と本発明に基づくプラズマポリマーコーティング（上述したような）を有している。

上述した２つの適用分野について、本発明に基づくプラズマポリマーコーティングは、付加的に、これらの生成物から加硫化残留生成物、軟化剤あるいは他の、たとえば５０ｇ／ｍｏｌより大きいモル質量を有する混和剤が拡散しないことを、もたらす。従って、食品加工、薬局および医療技術の領域において改良された適性が得られる。

適用分野：抗菌コーティング
ＤＥ１０３５３７５６に基づく非細胞毒の、抗菌コーティングは、好ましくはＳｉＯｘ類似のコーティングを用いて形成される。これまで知られているＳｉＯｘ類似のコーティングは、約３０−６０ｎｍの好ましい層厚においては柔軟で、箔上に適用することができるが、この種のコーティングは、たとえば深絞りプロセスによって、あるいは折り曲げ、あるいは変形あるいは射出成形あるいは型内成形またはラミネートの際に生じるような負荷を解決できない。さらに、対応する表面は、所定の付着特性（バクテリア、菌類、身体固有の物質などのための）を定める。ＳｉＯｘ類似のコーティングとして、あるいはＳｉＯｘコーティングに加えて、本発明に基づくプラズマポリマー物品を使用することは、両方の視点において、使用可能性を拡張する。特に、本発明に基づく物品の高い柔軟性と伸張性は、深絞り、フランジ形成、刻印などのような、基板を変形させる、さらなる加工技術を可能にする。すなわち、たとえば、特にチューブまたは発泡箔を装備することができる。
さらに、この種の生成物は、然るべきラミネート箔上で、あるいは直接取り付けても、食品包装に適している。特に、複合箔セクタにおける使用も、興味深い。というのは、それによってたとえば、遮断層特性を抗菌特性と組み合わせることができるからである。

更なる適用分野：

多数の他の（本発明に基づく）物品内に、本発明に基づくプラズマポリマー生成物を、効果的に使用することができる。特に挙げると：サブ−マイクロメートル領域内のシール（プラズマポリマー生成物として）；金属の構成部品または半製品のコーティング（プラズマポリマー生成物として）、特にこの種の金属の構成部品または半製品、特にさらなる加工または実用において変形にされる構成部品または半製品の上の腐食防止コーティングおよび／または疎水性コーティング；他のプラズマポリマーコーティングと組み合わせた（多層ないし勾配層内への組込み）コーティング（プラズマポリマー生成物として）；プラズマ支援で前処理された基板表面に付着し、その基板と共に本発明に基づく物品を形成する、コーティング（プラズマポリマー生成物として）。

以下、例を用いて本発明を詳細に説明する。

例１：本発明に基づく生成物の製造

本発明に基づくプラズマポリマー生成物Ａを製造するために、以下のプロセスパラメータが使用された：
ガスフロー Ｏ₂： １２Ｓｃｃｍ
ガスフロー ＨＭＤＳＯ： ５０Ｓｃｃｍ
出力（Ｗ）： ４５０
時間（ｓｅｃ）： ２７００
圧力（ｍｂａｒ）： ０．０２

本発明に基づくプラズマポリマー生成物Ｂを製造するために、以下のプロセスパラメータが使用された：
ガスフロー Ｏ₂： １２Ｓｃｃｍ
ガスフロー ＨＭＤＳＯ： ５０Ｓｃｃｍ
出力（Ｗ）： ４５０
時間（ｓｅｃ）： ３０００
圧力（ｍｂａｒ）： ０．０２

実施する前に、利用される真空チャンバの漏れ率（外漏れ）が、２×１０^-3ｍｂａｒ Ｌ／ｓｅｃよりずっと小さいことを確認した。さらに、質量スペクトルメータを用いて、内漏れが検査された。その場合に、スペクトロメータの高い感度において、質量１８（水）のための測定値が著しく低下して、その後一定になった場合に初めて、プロセスが始動されるように注意した。

クォーツガラスからなるオブジェクト支持体上にコーティングが形成され、かつプラズマがオフにされた後に、ガス雰囲気が可及的速やかに水素によって置換されて、その後吸引出力が減少されたので、約０．２ｍｂａｒへの著しい圧力上昇が観察された。場合によっては存在するラジカルを水素によって飽和することを可能にするために、この状態が、一定の水素フローにおいて５分間より多く維持された。

添付の図１から６は、次のことを示している：
図１：波長の関数としての屈折率の推移
図２：波長領域１９０から２５０ｎｍにおける、コーティングされないクォーツガラスおよびＰＤＭＳオイル（ここでは約２００ｎｍ ＡＫ５０、Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ）でコーティングされたクォーツガラスと比較した、本発明に基づく物品（ＰＰ−ＰＤＭＳ）でコーティングされたクォーツガラスの透過推移
図３：本発明に基づく層のＦＴＩＲスペクトル
図４：本発明に基づく層のＦＴＩＲスペクトル（詳細）
図５：除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）層のＦＴＩＲ比較スペクトル
図６：除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）層のＦＴＩＲ比較スペクトル（詳細）

例２：本発明に基づくプラズマポリマー生成物の製造

本発明に基づくプラズマポリマー生成物を製造するための第２の可能性が、以下のプロセスパラメータによって与えられている：
ガスフロー Ｏ₂： ３６Ｓｃｃｍ
ガスフロー ＨＭＤＳＯ： １７０Ｓｃｃｍ
出力（Ｗ）： １６００
時間（ｓｅｃ）： ６００
圧力（ｍｂａｒ）： ０．０２５

ここでも、実施の前に、利用される真空チャンバの漏れ率（外漏れ）が、２×１０^-3ｍｂａｒ Ｌ／ｓｅｃよりずっと小さいことを確認した。さらに、質量スペクトロメータを用いて、内部の漏れ率が検査された。その場合に、スペクトロメータの高い感度において、質量１８（水）のための測定値が、著しく低下して、その後一定である場合に初めてプロセスが開始されるように注意した。

水素後処理は、行われなかった。

例３：本発明に基づく支持のない箔を製造する方法

極めて滑らかなシリコンウェファが、水溶性の物質（砂糖）によってコーティングされた。

水内の０．４ｇ／ｍｌの精製糖からなる砂糖溶液が、シリコンウェファ上に塗布された。水の蒸発後に、ウェファの砂糖コーティング上に、例１で説明された方法を用いて、（本発明に基づく）プラズマポリマー層が塗布された。

塗布された層が、水槽内で基板から剥がされ、前記水槽は、中間に位置する砂糖層を溶解した。好ましくは、前記層は、ウェファ端縁においてナイフによって分離された。プラズマポリマー層は、支持のない箔（プラズマポリマー生成物からなる、本発明に基づく物品の例として）として、水槽から取り出すことができた。これは、支持のない箔が水の表面上に浮遊していることによって、容易になった。従って、その密度は、１ｇ／ｃｍ³よりも小さかった。

プラズマポリマー箔は、約５００ｎｍの厚みを有していた。

例４：ＥＳＣＳ測定

例１に従って製造された、本発明に基づくプラズマポリマー生成物「Ａ」と「Ｂ」および基準材料と比較生成物から、ＥＳＣＡスペクトルが記録されて、評価された。結果が、以下の表１に、信号の結合エネルギー位置と個々のピークの半値幅（ＦＷＨＭ＝Full width at half maximum）に関して、記載されている。比較生成物として、ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に記載のプラズマポリマー除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングが選択された。

ＥＳＣＡ調査は、Ｋｒａｔｏｓ Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ社のスペクトロメータＫＲＡＴＯＳ ＡＸＩＳ Ｕｌｔｒａを用いて、実施された。分析チャンバには、単色にされたＡｌＫα放射のためのＸ線源、ニュートラリゼータとしての電子源および四重極質量スペクトロメータが搭載されていた。さらに、設備は、光電子を進入スロットを介して半球分析器内へ合焦する、磁気レンズを有していた。較正によって、Ｃ１ｓピークの脂肪族割合が、２８５．０ｅＶにセットされた。測定の間、表面法線は、半球分析器の進入スロットを指していた。

パスエネルギーは、物質量比を定める場合に、それぞれ１６０ｅＶであり、該当するスペクトルが、ジェネラルスペクトルと称される。ピークパラメータを定める場合に、パスエネルギーは、それぞれ２０ｅＶであった。

上述した測定条件は、スペクトロメータタイプにほとんど依存しないことを可能にし、かつ本発明に基づくプラズマポリマー生成物を識別するために、効果的である。

基準材料として、Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．社（Morrisville, USA）のポリジメチルシロキサン シリコンオイルＤＭＳ−Ｔ２３Ｅが使用された。このトリメチルシロキシ−ターミネーテッド−シリコンオイルは、３５０ｍｍ²／ｓ（±１０％）の動粘性と、２５℃において０．９７０ｇ／ｍｏｌの濃度および約１３６５０ｇ／ｍｏｌの平均分子重量を有している。選択された材料は、蒸発可能な構成要素の極めてわずかな割合を特徴としている：１２５℃および１０^-5Ｔｏｒｒ真空において２４時間後に、０．０１％より少ない揮発成分が証明された（ＡＳＴＭ−Ｅ５９５−８５およびＮＡＳＡ ＳＰ−Ｒ００２２Ａによる）。スピン−コーティングプロセスを用いて、４０ないし５０ｎｍ厚みの層が、シリコンウェファ上に塗布された：ここで溶剤として、ヘキサメチルジシロキサンが使用された。

測定されたスペクトルが−ジェネラルスペクトルのためにサンプルとしてそれぞれ１つ−、図７から１０（ジェネラルスペクトル）および１１から２２（詳細スペクトル）として添付されている。 図７：ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＸＰＳジェネラルスペクトル
図８：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＸＰＳジェネラルスペクトル
図９：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＸＰＳジェネラルスペクトル
図１０：ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に基づく除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＸＰＳジェネラルスペクトル（比較）
図１１：ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１２：ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１３：ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１４：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１５：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１６：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１７：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１８：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図１９：本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル
図２０：ＤＥ１０１３０１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル（比較）
図２１：ＤＥ１０１３０１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル（比較）
図２２：ＤＥ１０１３０１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル（比較）

ジェネラルスペクトルのために、試料上の異なる位置において４から６の測定が実施された。表１内には、実施された測定の平均値からの±最大の偏差を有する物質量比について、記載されている
表１：ＥＳＣＡ測定の結果

ＥＳＣＡ調査を受けた、本発明に基づくプラズマポリマー生成物は、ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に記載の典型的な除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングと比較して、より低いエネルギーへ約０．３７から０．５３ｅＶだけシフトされた、Ｓｉ２ｐピークの結合エネルギー位置を有している。この観察は、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングに比較して、第２ケイ素原子の割合（すなわち、正確に２つの隣接するＯ原子を有するケイ素原子の割合）の増大に相当する。

多分、第２ケイ素原子の割合の増大は、第３ケイ素原子のより強い優勢が存在する、ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングと比較して、本発明に基づくコーティングの弾性と柔軟性が高い理由と思われる。

本発明に基づくコーティングと除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＥＳＣＡスペクトルの比較から、機械的な特性である弾性と柔軟性は、それぞれのプラズマポリマーの構造と直接結合されていることが、明らかにされた。

本発明に基づくコーティングは、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングよりも炭素に富んでおり、かつ酸素が少ない。従って、必然的に少ない架橋化生成物しか生じない。組成は、シリコンオイルの組成に近づくが、それに比較しても、古典的なシリコンエラストマーに比較しても、強く架橋化されている（多くの酸素、少ない炭素）。従って、エラストマープラズマポリマー構造（高い水素含有量において）を、前提とすることができる。

波長の関数としての屈折率の推移 波長領域１９０から２５０ｎｍにおける、コーティングされないクォーツガラスおよびＰＤＭＳオイル（ここでは約２００ｎｍ ＡＫ５０、Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ）でコーティングされたクォーツガラスと比較した、本発明に基づく物品（ＰＰ−ＰＤＭＳ）でコーティングされたクォーツガラスの透過推移 本発明に基づく層のＦＴＩＲスペクトル 本発明に基づく層のＦＴＩＲスペクトル（詳細） 除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）層のＦＴＩＲ比較スペクトル 除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）層のＦＴＩＲ比較スペクトル（詳細） ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＸＰＳジェネラルスペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＸＰＳジェネラルスペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＸＰＳジェネラルスペクトル ＤＥ１０１３１１５６Ａ１に基づく除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＸＰＳジェネラルスペクトル（比較） ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル ＤＭＳ−Ｔ２３ＥのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＡのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル 本発明に基づくプラズマポリマー生成物ＢのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル ＤＥ１０１３０１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＯ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル（比較） ＤＥ１０１３０１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＣ１ｓピークのＸＰＳ詳細スペクトル（比較） ＤＥ１０１３０１５６Ａ１に記載の除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングのＳｉ２ｐピークのＸＰＳ詳細スペクトル（比較）

Claims (15)

1. 炭素、ケイ素、酸素および水素と、場合によっては通常の不純物とからなるプラズマポリマー生成物を有し、あるいはそれからなる物品であって、前記プラズマポリマー生成物のＥＳＣＡスペクトルにおいて、脂肪族部分のＣ１ｓピークを２８５．００ｅＶに較正する場合に、２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍＬの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）と比較して、
   Ｓｉ２ｐピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４４ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつ
   Ｏ１ｓピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．５０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有する、
   上記物品。
2. Ｓｉ２ｐピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつ
   Ｏ１ｓピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有する、
   請求項１に記載の物品。
3. プラズマポリマー生成物内の物質量比が以下を満たす：
   ０．７５ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
   １．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
   １．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．５０
   ２．２５ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
   請求項１または２のいずれか１項に記載の物品。
4. プラズマポリマー生成物内の物質量比が以下を満たす：
   １．００ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
   ２．００ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
   １．６０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．３０
   ２．４０ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
   請求項３に記載の物品。
5. プラズマポリマー生成物内の物質量比が、以下を満たす：
   １．０５ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２３
   ２．１０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．２３
   １．７０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．００
   ２．６０ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
   請求項４に記載の物品。
6. プラズマポリマー生成物が、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して、以下を有する：
   ケイ素 ２２から２８原子％
   酸素 ２２から３０原子％
   炭素 ４２から５５原子％
   請求項１から５のいずれか１項に記載の物品。
7. プラズマポリマー生成物が、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して、以下を有する：
   ケイ素 ２２から２６原子％
   酸素 ２４から２９原子％
   炭素 ４７から５１原子％
   請求項１から６のいずれか１項に記載の物品。
8. プラズマポリマー生成物が、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して、以下を有し：
   ケイ素 ２２から２８原子％
   酸素 ２２から３０原子％
   炭素 ４２から５５原子％
   プラズマポリマー生成物内の物質量比が、以下の式を満たし：
   ０．７５ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
   １．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
   １．５０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．５０
   ２．２５ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
   かつ、プラズマポリマー生成物のＥＳＣＡスペクトルにおいて、２５℃において３５０ｍｍ²／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍＬの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）と比較して、
   Ｓｉ２ｐピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４４ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつ
   Ｏ１ｓピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．５０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有する、
   請求項１から７のいずれか１項に記載の物品。
9. プラズマポリマー生成物が、元素であるケイ素、酸素および炭素の合計の１００原子％に対して、以下を有し：
   ケイ素 ２２から２６原子％
   酸素 ２４から２９原子％
   炭素 ４７から５１原子％
   プラズマポリマー生成物内の物質量比が、以下の式を満たし：
   １．００ ＜ｎ（Ｏ）：ｎ（Ｓｉ）＜ １．２５
   ２．００ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｓｉ）＜ ２．５０
   １．６０ ＜ｎ（Ｃ）：ｎ（Ｏ） ＜ ２．３０
   ２．４０ ＜ｎ（Ｈ）：ｎ（Ｃ） ＜ ３．００
   かつ、Ｓｉ２ｐピークが、より高い、またはより低い結合エネルギーへ最大で０．４０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつ
   Ｏ１ｓピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有している、請求項１から８のいずれか１項に記載の物品。
10. （ｉ）物品が、プラズマポリマー生成物からなり、かつコーティングまたはコーティングの一部または箔であり、あるいは（ii）、基板と、基板から破壊なしで剥離可能な、または破壊なしで剥離できないプラズマポリマー生成物の形式のコーティングとを有する複合体であって、（ｉ）前記箔が、好ましくは２０から２０００ｎｍの領域の厚みを有し、かつ（ii）前記コーティングが、好ましくは１から２０００ｎｍの領域の厚みを有している、請求項１から９のいずれか１項に記載の物品。
11. 物品が、基板と、基板から破壊なしで剥離可能な、または破壊なしで剥離できないプラズマポリマー生成物からなる、１から２０００ｎｍの領域内の厚みを備えたコーティングとを有する複合体であって、前記コーティングが、１００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは５０ｇ／ｍｏｌ以上のモル質量を有する分子を通過させない、請求項１０に記載の物品。
12. 物品が、基板とその上に配置された、基板から破壊なしで剥離可能な、または破壊なしで剥離できないプラズマポリマー生成物からなる、１から２０００ｎｍの領域内の厚みを備えたコーティングとを有する複合体であって、前記基板がエラストマーである、請求項１から１１のいずれか１項に記載の物品。
13. 基板自体が、
    −プラズマポリマー生成物、特にベース基板上のプラズマポリマー層であって、
    −前記層が、ＰＶＤ、ＣＶＤ、プラズマ支援されたＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）、電気化学的またはゾル−ゲル−技術を用いてベース基板上に塗布された層である、
    請求項１０から１２のいずれか１項に記載の物品。
14. 物品が、以下のものからなる群から選択される、請求項１から１３のいずれか１項に記載の物品：
    −移動バリアまたは移動バリアの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、１００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは５０ｇ／ｍｏｌ以上のモル質量を有する分子に対する移動バリアを備えた物品、
    −シールまたはシール構成要素として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、シールを備えた物品、
    −コーティング材料として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、コーティングを備えた光学素子、
    −腐食に敏感な基板と、腐食防止コーティングまたは腐食防止コーティングの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、前記基板上に配置された腐食防止コーティングとを有する物品、
    −特に接着剤加工の領域に適用するための、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングまたは除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングを備えた基板を有する物品、
    −（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングまたは（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングを備えた基板（特にまた（技術的）テキスタイル）を有する物品、
    −（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティング、または（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングの一部または疎水仕上げとして請求項１から１３のいずれか１項に定義されているような、プラズマポリマー生成物を有する、（加水分解に耐える）除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティングないし疎水仕上げを備えた基板（特にまたメンブレン）を有する物品、
    −抗菌コーティング、特に非細胞毒性抗菌コーティングの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、抗菌コーティングを備えた基板を有する物品、
    −抗菌コーティング、特に非細胞毒の抗菌コーティングの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、抗菌コーティングを備えた包装を形成するための基板を有する物品、
    −分離層または分離層の一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、プラズマポリマー分離層を備えた基板を有する物品、
    −エラストマー生成物と、エラストマー生成物上の、コーティングまたはコーティングの構成要素として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、滑り特性を増大させるコーティングとを有する物品、
    −基板、特にリソグラフィックシステムとその上に配置されている、保護箔または保護箔の構成要素として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、残渣なしで除去可能、好ましくは残渣なしで引き剥がし可能な保護箔とを有する物品、
    −基板、特に熱交換器または熱交換器の部分と、その上に配置されている、著しく疎水性の、加水分解安定の表面特性を備えた、熱伝導性をほとんど変化させない、請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有するコーティングとを有する物品、
    −基板、特にリソグラフィックシステムの光学コンポーネントと、その上に配置されている、加水分解に耐える、著しく疎水性でかつほぼＵＶ透過性の保護層として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、コーティングとを有する物品、
    −欠陥を有する好ましくはプラズマポリマーコーティングと、欠陥を補修するための、補修箔または補修箔の構成要素として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、補修箔とを有する物品、
    −好ましくはバリア特性を有する、少なくとも２つの、より固い層または基板と、より固い層または基板の間の、スペーサ層またはスペーサ層の構成要素として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、少なくとも１つのソフトなスペーサ層とを有する物品、
    −カバー層またはカバー層の構成要素として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、疎水性のカバー層を備えた、ガスと蒸気、特に水蒸気、二酸化炭素または酸素の移動を減少させるためのバリア層または基板を有する物品、
    −好ましくは電気的な構成部材と、絶縁する箔または絶縁するコーティングあるいはこの種の箔またはコーティングの一部として請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、電気的に絶縁する箔または絶縁するコーティングを有する物品、
    −請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、好ましくは移植可能な医用工学用品を有する物品、
    −コーティングとして請求項１から１３のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物を有する、好ましくは移植可能な医用工学用シリコン物品。
15. 請求項１から１４のいずれか１項に定義されるプラズマポリマー生成物の、以下のものとしての使用：
    −１００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは５０ｇ／ｍｏｌ以上のモル質量を有する分子に対する移動バリア、
    −ガスと蒸気、特に水蒸気、二酸化炭素または酸素の移動を減少させるためのバリアコーティングまたは基板上のカバー層、
    −特に最大１０００ｎｍの厚みを有するシールのための、シール材料、
    −フレキシブルな包装材料のフレキシブルなコーティング、
    −光学素子をコーティングするためのコーティング、
    −加水分解に耐えるコーティング、
    −疎水コーティング、
    −腐食防止コーティング、
    −除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）コーティング、
    −エラストマー生成物上の、滑り特性を増大させるコーティング、
    −特にリソグラフィックシステムの光学素子のため、さらに好ましくは浸漬リソグラフィックシステムの光学素子のための、保護箔、ＵＶ透過箔および／または加水分解に安定な箔、
    −分離箔または分離箔の一部、
    −特に除去容易な（Ｅａｓｙ−ｔｏ−ｃｌｅａｎ）または分離層適用のための、補修箔、
    −反付着性と付着性の表面特性を有する箔またはコーティング、
    −特に、局所的な親水領域ないし疎水領域を形成するために、親水性の基板をコーティングするための、孔パターンおよび／または細片パターンを有する箔、
    −互いに分離すべき、より固い層の間のソフトなスペーサ層、特にバリア層、
    −特に極性分子の吸着を阻止するため、あるいは水素、炭素または酸素のようなガスと蒸気に対するバリアコーティングないしウルトラバリアコーティングのバリア特性を改良するための、著しく疎水性のカバー層、
    −ダイアモンド状のコーティング、特に薄い、化学的に結合されたコーティング上の分離層ないし著しく疎水性の層、
    −特に電気的な構成部材内の、絶縁箔または絶縁コーティング。

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