JP2009517541A5 - - Google Patents

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よって、先ず、ガス入口部品の端部が、皿状の凹部内に突出するとともに、ガス屈曲面の端部が、床と同じ高さとなるように設けられる。皿状の凹部は、プロセスチャンバの床に取り付けられ、特に、回転駆動されるサセプタホルダーに取り付けられる。ガス入口部品の端部は、この皿状の凹部内に突出している。例えばアルシン、ホスフィン又はアンモニアである水素化物のためのガス出口開口は、このガス入口部品の端部の直上まで延びている。このガス出口開口は、回転対称である。回転対称なガス屈曲面が、このガス出口開口の背面にある。ガス屈曲面の端部の経路は、床面に対して同じ高さに導入されている。ガス入口部品は反応装置ハウジングに対して配置固定されているが、サセプタホルダーはガス入口部品に対して回転するので、ガス入口部品は、この凹部の壁に対して接触しない。一方、動きのためにスリットが設けられており、これにより、ガス入口部品の平坦な端面と、凹部の底面との間に小さな間隙が存在する。さらに円周状の間隙が、皿の壁と、ガス入口部品の端部との間にも存在する。この間隙は、寸法的に非常に小さいため、ガス流に対して重大な干渉を及ぼすことはない。ガス屈曲面は、ガス流の方向に沿って丸みを有している。ガスは、垂直方向に延在する流路から屈曲領域に入り、この屈曲領域において渦を生じないように水平方向に曲げられる。流速の低減が生じるように、流路の有効断面積が拡大されている。それにもかかわらず、全体の流れは、層流である。
プロセスチャンバの床と同じ高さの壁をもつこの第１のガス出口開口の上側に、例えば有機金属化合物である第２のプロセスガスのための少なくとも１つの第２のガス出口開口がある。この第２のガス出口開口は、第２の流路に連通している。
ガス出口部品は、好適にはステンレス鋼で形成され、液体冷却される。このために、ガス出口部品は、冷却液体流路を備えた中央領域をゆうしてもよい。この冷却液体流路は、ガス入口部品の端部内にまっすぐ延びている。ガス入口部品の端部は、プロセスチャンバの床の凹部内に位置している。
中央部品１９の外面は、その端部領域において軸方向から曲がっている。これは、中央部品１９の直径の連続的な増加を伴っており、それは、ガス入口部品３の端部においてはガス入口部品３の直径にまで到達している。この外郭を有する結果、断面図に示すように、ガス屈曲面６が形成され、このガス屈曲面は、ガス流を垂直方向から水平方向へと変化させる。ガス屈曲面６は、流路４の内壁を起点として滑らかに延びており、折れ部や段部はない。そして、ガス屈曲面の端部６’は、水平方向に延び、プロセスチャンバ１の床８’と同じ高さである。

Claims (1)

  1. ガス入口部品(3)の流路(4)を通り水平方向に延びるプロセスチャンバ(1)内に導入されるプロセスガスにより基板上に少なくとも１つの層を堆積する装置であって、前記流路(4)は垂直方向に延在しかつ前記ガス入口部品(3)は反応装置ハウジングに配置固定され、前記プロセスガスは回転対称な前記プロセスチャンバ(1)の中心に突出するガス入口部品(1)の一部であるガス出口開口から流出し、前記プロセスチャンバ(1)の床(8')の上を径方向外側に向かって流れ、前記床(8')は水平方向に延在しかつ前記プロセスチャンバ(1)の中心周りに回転し、かつ前記基板は前記床(8')上に載置されている、前記装置において、
    前記ガス入口部品(3)の端部(3')が、プロセスチャンバ(1)の床(8')の上面に位置する皿状の凹部(23)内に突出し、前記ガス入口部品(3)の外壁と中央部品(19)との間をプロセスガスの流路(4)とし、かつ、前記中央部品(19)の端部領域において軸方向から曲がったガス屈曲面(6)を有し、前記ガス屈曲面(6)の端部(6')と前記プロセスチャンバ(1)の床(8')とは同じ高さであることを特徴とする装置。
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