JP2009512549A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009512549A5 JP2009512549A5 JP2008536697A JP2008536697A JP2009512549A5 JP 2009512549 A5 JP2009512549 A5 JP 2009512549A5 JP 2008536697 A JP2008536697 A JP 2008536697A JP 2008536697 A JP2008536697 A JP 2008536697A JP 2009512549 A5 JP2009512549 A5 JP 2009512549A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- clause
- evaporation chamber
- water vapor
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
入口と、予熱器と、脱気装置と、蒸発室と、デミスタと、生成物凝縮器と、廃液出口と、生成物出口と、制御システムとを備える浄水システムであって、前記制御システムは、使用者の介入または洗浄を必要とせずに、繰り返されるサイクルを通して前記浄水システムの動作を可能にし、前記システムは、汚染された水が表1に示されるレベルよりも最大25倍高い汚染物質類のレベルを有するとき、前記システムで浄化された水が、表1に示されるレベルよりも低いすべての汚染物質類のレベルを有するように、微生物的汚染物質、放射性汚染物質、金属、塩、揮発性有機物、および不揮発性有機物を含む複数の汚染物質類を、前記汚染された水の試料から除去することができるシステム。
【請求項1】
入口と、予熱器と、脱気装置と、蒸発室と、デミスタと、生成物凝縮器と、廃液出口と、生成物出口と、制御システムとを備える浄水システムであって、前記制御システムは、使用者の介入または洗浄を必要とせずに、繰り返されるサイクルを通して前記浄水システムの動作を可能にし、前記システムは、汚染された水が表1に示されるレベルよりも最大25倍高い汚染物質類のレベルを有するとき、前記システムで浄化された水が、表1に示されるレベルよりも低いすべての汚染物質類のレベルを有するように、微生物的汚染物質、放射性汚染物質、金属、塩、揮発性有機物、および不揮発性有機物を含む複数の汚染物質類を、前記汚染された水の試料から除去することができるシステム。
すべての特許文献および出版物は、個別の出版物がそれぞれ、参照により組み込まれるよう具体的かつ個別に指示されるのと同様に、参照により本明細書に組み込まれる。
以下、本願発明をまとめると次の通りである。
1. 入口と、予熱器と、脱気装置と、蒸発室と、デミスタと、生成物凝縮器と、廃液出口と、生成物出口と、制御システムとを備える浄水システムであって、前記制御システムは、使用者の介入または洗浄を必要とせずに、繰り返されるサイクルを通して前記浄水システムの動作を可能にし、前記システムは、汚染された水が表1に示されるレベルよりも最大25倍高い汚染物質類のレベルを有するとき、前記システムで浄化された水が、表1に示されるレベルよりも低いすべての汚染物質類のレベルを有するように、微生物的汚染物質、放射性汚染物質、金属、塩、揮発性有機物、および不揮発性有機物を含む複数の汚染物質類を、前記汚染された水の試料から除去することができるシステム。
2. 生成された水の体積は入力水の体積の約20%から約95%の間である、第1項に記載のシステム。
3. 前記システムは、少なくとも約2カ月間の使用を通して洗浄を必要としない、第1項に記載のシステム。
4. 前記システムは、少なくとも約1年間の使用を通して洗浄を必要としない、第1項に記載のシステム。
5. 前記入口を通る水の流れを調整するための入口スイッチをさらに備える、第1項に記載のシステム。
6. 前記スイッチは、ソレノイド、弁、および絞りからなる群から選択される機構を備える、第5項に記載のシステム。
7. 前記入口スイッチは前記制御システムによって制御される、第5項に記載のシステム。
8. 遮断制御装置をさらに備える、第1項に記載のシステム。
9. 前記遮断制御装置は、手動制御装置、フラッディング制御装置、タンク容量制御装置、および蒸発室容量制御装置からなる群から選択される、第8項に記載のシステム。
10. 前記制御システムは、蒸発室フロート、タンクフロート、およびフラッディング検出器のうちの少なくとも1つからのフィードバックに基づいて前記入口を制御する、第9項に記載のシステム。
11. 前記制御システムは、前記浄水システムからのフィードバックに基づいて前記スイッチを制御する、第4項に記載のシステム。
12. 前記フィードバックは、生成水容器内の水量、前記生成物出口を通る生成水の流れ、流水時間、非流水時間、前記蒸発室内の水量、漏れの検出、蒸発室の圧力、出力水の品質(総溶解固形分)、前記蒸発室の両端間の差圧、および蒸発室オーバーフロー堰フロートを横断する水の運動からなる群から選択される少なくとも1つの特性に基づく、第5項に記載のシステム。
13. 流れ制御装置をさらに備える、第1項に記載のシステム。
14. 前記流れ制御装置は、圧力調整器を備える、第13項に記載のシステム。
15. 前記圧力調整器は、水圧を約0kPaから250kPa(0から36psi)の間に維持する、第14項に記載のシステム。
16. 前記流れ制御装置は、水流を10ml/分から75ml/分の流量の間に維持する、第13項に記載のシステム。
17. 堆積物トラップをさらに備える、第1項に記載のシステム。
18. 前記予熱管が前記蒸発室内を通過する、第1項に記載のシステム。
19. 前記予熱管を出る水は少なくとも約96℃の温度を有する、第1項に記載のシステム。
20. 前記予熱管は、少なくとも約15秒間の、前記予熱管内の水の滞留時間を可能にする、第1項に記載のシステム。
21. 前記予熱管はコイルを含む、第1項に記載のシステム。
22. 前記コイルは、実質的に水平な正味の流れを有し、前記コイルを通って移動する水は、水平面を通って繰り返し通過する、第15項に記載のシステム。
23. 前記予熱管は水蒸気凝縮器との熱交換を含む、第1項に記載のシステム。
24. 前記予熱管の少なくとも一部は、前記水蒸気凝縮器の少なくとも一部と同心である、第23項に記載のシステム。
25. 前記水蒸気凝縮器は廃棄水蒸気を収容する、第23項に記載のシステム。
26. 前記脱気装置は、実質的に垂直の向きであり、上端部および下端部を有する、第1項に記載のシステム。
27. 前記予熱管からの加熱された水は、前記上端部付近で前記脱気装置に入る、第26項に記載のシステム。
28. 前記加熱された水は、前記下端部付近で前記脱気装置を出る、第27項に記載のシステム。
29. 前記蒸発室からの水蒸気は、前記下端部付近で前記脱気装置に入る、第26項に記載のシステム。
30. 前記水蒸気は、前記上端部付近で前記脱気装置を出る、第29項に記載のシステム。
31. 前記脱気装置は、水と水蒸気の混合を促進するようになされた充填材を備える、第1項に記載のシステム。
32. 前記充填材は、実質的に球形の粒子を含む、第31項に記載のシステム。
33. 前記充填材は、非球形の粒子を含む、第31項に記載のシステム。
34. 前記充填材は、前記脱気装置内の均一な詰め込みを可能にするように選択されたサイズを有する粒子を含む、第31項に記載のシステム。
35. 前記充填材は異なるサイズの粒子を含み、前記粒子がサイズ的勾配を持って脱気装置内に配列される、第31項に記載のシステム。
36. 前記脱気装置を出る水は、有機物および揮発性ガスを実質的にもたない、第1項に記載のシステム。
37. 前記蒸発室は、少なくとも1つの上部セグメントおよび下部セグメントを備え、前記上部セグメントの水平断面は前記下部セグメントの水平断面よりも大きい面積を有し、前記蒸発室は、前記上部セグメントと前記下部セグメントとの間の接合部をさらに備える、第1項に記載のシステム。
38. 前記接合部は実質的に水平である、第37項に記載のシステム。
39. 前記蒸発室は排水口をさらに備え、前記排水口は前記接合部またはその上方にある、第37項に記載のシステム。
40. 前記蒸発室は、複数の粒子を含む自浄媒体をさらに備え、前記排水口は開口部を有し、前記開口部は、前記粒子が前記排水口を通過することを可能にしないサイズを有し、前記開口部はさらに、前記粒子の形状と相補的でない形状を有する、第39項に記載のシステム。
41. 前記蒸発室は、前記蒸発室の加熱された部位に近接する少なくとも一領域にて沈殿物の蓄積を妨げる自浄媒体を備える、第1項に記載のシステム。
42. 前記媒体は複数の粒子を含む、第41項に記載のシステム。
43. 前記粒子は実質的に球形である、第42項に記載のシステム。
44. 前記粒子は、前記蒸発室内の水の沸騰による、前記粒子の実質的に連続的な撹拌を可能にする特性を有する、第42項に記載のシステム。
45. 前記特性は、比重、サイズ、形態、集合の数、および構成からなる群から選択される、第44項に記載のシステム。
46. 前記粒子は、選択された硬度を有し、前記硬度は、前記粒子または前記蒸発室を実質的に侵食せずに、前記粒子による前記蒸発室の汚れ落としを可能にする、第42項に記載のシステム。
47. 前記粒子は、セラミック、金属、ガラス、または石で構成される、第42項に記載のシステム。
48. 前記粒子は、約1.0より大きく、約8.0より小さい比重を有する、第42項に記載のシステム。
49. 前記粒子は、約2.0から約5.0の間の比重を有する、第48項に記載のシステム。
50. 前記蒸発室は、前記蒸発室の底部に隣接する加熱要素をさらに備える、第1項に記載のシステム。
51. 前記加熱要素は、前記蒸発室の底部に隣接して前記蒸発室の外側に配置され、前記加熱要素は前記蒸発室に接合される、第50項に記載のシステム。
52. 前記加熱要素は、前記蒸発室の底部に隣接して前記蒸発室の内側に配置される、第50項に記載のシステム。
53. 前記デミスタは、前記蒸発室の上面に近接して配置される、第1項に記載のシステム。
54. 前記蒸発室からの水蒸気は、圧力を受けて前記デミスタに入る、第1項に記載のシステム。
55. 前記デミスタは差圧を有し、前記差圧は125Pa以上から2500Paである、第1項に記載のシステム。
56. 前記デミスタは、サイクロン作用によって、廃棄水蒸気から清浄な水蒸気を分離するようにされる、第1項に記載のシステム。
57. 清浄な水蒸気と廃棄水蒸気との比が、約10:1より大きい、第56項に記載のシステム。
58. 前記制御システムは、水蒸気の質を調整するためにパラメータを調節する、第56項に記載のシステム。
59. 前記水蒸気の質は、清浄な水蒸気の純度、清浄な水蒸気と廃棄水蒸気との比、および清浄な水蒸気の総体積からなる群から選択される少なくとも1つの質を含む、第58項に記載のシステム。
60. 前記パラメータは、清浄な水蒸気の出口の凹部の位置、前記デミスタの両端間の差圧、水蒸気入口の流れに対する抵抗、水蒸気出口の流れに対する抵抗からなる群から選択される少なくとも1つのパラメータを含む、第58項に記載のシステム。
61. 前記生成物凝縮器用の冷却装置を備える、第1項に記載のシステム。
62. 前記冷却装置はファンを含む、第61項に記載のシステム。
63. 前記生成物凝縮器はコイルを含む、第1項に記載のシステム。
64. 生成水が、前記生成物出口を通って前記生成物凝縮器を出る、第1項に記載のシステム。
65. 廃液凝縮器をさらに備える、第1項に記載のシステム。
66. 廃水が、前記廃液出口を通って前記廃液凝縮器を出る、第65項に記載のシステム。
67. 生成水貯蔵タンクをさらに備える、第1項に記載のシステム。
68. 前記貯蔵タンクは少なくとも1つの制御機構を備える、第67項に記載のシステム。
69. 前記制御機構は、フロート、導電率計、および堰フロートからなる群から選択される少なくとも1つの機構を備える、第68項に記載のシステム。
70. 前記制御システムは、サイクルの開始時に、選択された遅延期間中は水蒸気が前記生成物出口に送られないように、遅延を含む、第1項に記載のシステム。
71. 前記遅延期間は、少なくとも約10分間から30分間である、第70項に記載のシステム。
72. 前記制御システムは、少なくとも約10分間の、前記蒸発室内での水の平均滞留時間を有する、第1項に記載のシステム。
73. 前記制御システムは、少なくとも約45分間の、前記蒸発室内での水の平均滞留時間を有する、第1項に記載のシステム。
74. 前記制御システムは、前記蒸発室内の水が廃棄部へと迅速に排水され、蓄積された不純物および沈殿物を前記蒸発室から除去することを可能にするように、蒸発室フラッシュを有する、第1項に記載のシステム。
75. 前記蒸発室は、蒸発室のフラッシュ時に、ある残留体積の水が前記蒸発室の下方部分内に残るように構成される、第74項に記載のシステム。
76. 前記残留水は、次の浄化サイクルの開始中に最初の水蒸気を前記脱気装置に供給する、第75項に記載のシステム。
77. 浄水方法であって、
第1の濃度の少なくとも1つの汚染物質を含む、流入水源を提供するステップと、
前記流入水の温度を約90℃より高くすることができる条件下で、予熱器内に前記流入水を通すステップと、
前記流入水を、脱気装置内の気体の反対方向の流れに対して逆流させることにより、基本的にすべての有機物、揮発性物質、および気体を前記流入水から取り去るステップと、
前記水を、水蒸気の形成を可能にする条件下で、10分間から90分間の平均滞留時間にわたって蒸発室内に維持するステップと、
水蒸気を前記蒸発室からサイクロンデミスタへと排出するステップと、
清浄な水蒸気の収率が前記デミスタからの廃液の少なくとも約4倍より高くなるように、前記デミスタ内の汚染物質を含有する廃液から清浄な水蒸気を分離するステップと、
浄化された水をもたらすために、前記第1の濃度より低い第2の濃度の少なくとも1つの汚染物質を含有する前記清浄な水蒸気を凝縮するステップとを含む方法。
78. 前記少なくとも1つの汚染物質は、微生物、放射性核種、塩、および有機物からなる群から選択される汚染物質を含み、前記第2の濃度は表3に示される濃度以下であり、前記第1の濃度は前記第2の濃度の少なくとも約10倍である、第77項に記載の方法。
79. 前記第1の濃度は、前記第2の濃度より少なくとも約25倍高い、第77項に記載の方法。
80. 前記気体は、水蒸気、空気、および窒素からなる群から選択される、第77項に記載の方法。
81. 前記プロセスのステップは、洗浄または保守を必要とせずに、少なくとも約3カ月間自動的に繰り返される、第77項に記載の方法。
82. 前記プロセスのステップは、洗浄または保守を必要とせずに、約1年間自動的に繰り返される、第77項に記載の方法。
以下、本願発明をまとめると次の通りである。
1. 入口と、予熱器と、脱気装置と、蒸発室と、デミスタと、生成物凝縮器と、廃液出口と、生成物出口と、制御システムとを備える浄水システムであって、前記制御システムは、使用者の介入または洗浄を必要とせずに、繰り返されるサイクルを通して前記浄水システムの動作を可能にし、前記システムは、汚染された水が表1に示されるレベルよりも最大25倍高い汚染物質類のレベルを有するとき、前記システムで浄化された水が、表1に示されるレベルよりも低いすべての汚染物質類のレベルを有するように、微生物的汚染物質、放射性汚染物質、金属、塩、揮発性有機物、および不揮発性有機物を含む複数の汚染物質類を、前記汚染された水の試料から除去することができるシステム。
2. 生成された水の体積は入力水の体積の約20%から約95%の間である、第1項に記載のシステム。
3. 前記システムは、少なくとも約2カ月間の使用を通して洗浄を必要としない、第1項に記載のシステム。
4. 前記システムは、少なくとも約1年間の使用を通して洗浄を必要としない、第1項に記載のシステム。
5. 前記入口を通る水の流れを調整するための入口スイッチをさらに備える、第1項に記載のシステム。
6. 前記スイッチは、ソレノイド、弁、および絞りからなる群から選択される機構を備える、第5項に記載のシステム。
7. 前記入口スイッチは前記制御システムによって制御される、第5項に記載のシステム。
8. 遮断制御装置をさらに備える、第1項に記載のシステム。
9. 前記遮断制御装置は、手動制御装置、フラッディング制御装置、タンク容量制御装置、および蒸発室容量制御装置からなる群から選択される、第8項に記載のシステム。
10. 前記制御システムは、蒸発室フロート、タンクフロート、およびフラッディング検出器のうちの少なくとも1つからのフィードバックに基づいて前記入口を制御する、第9項に記載のシステム。
11. 前記制御システムは、前記浄水システムからのフィードバックに基づいて前記スイッチを制御する、第4項に記載のシステム。
12. 前記フィードバックは、生成水容器内の水量、前記生成物出口を通る生成水の流れ、流水時間、非流水時間、前記蒸発室内の水量、漏れの検出、蒸発室の圧力、出力水の品質(総溶解固形分)、前記蒸発室の両端間の差圧、および蒸発室オーバーフロー堰フロートを横断する水の運動からなる群から選択される少なくとも1つの特性に基づく、第5項に記載のシステム。
13. 流れ制御装置をさらに備える、第1項に記載のシステム。
14. 前記流れ制御装置は、圧力調整器を備える、第13項に記載のシステム。
15. 前記圧力調整器は、水圧を約0kPaから250kPa(0から36psi)の間に維持する、第14項に記載のシステム。
16. 前記流れ制御装置は、水流を10ml/分から75ml/分の流量の間に維持する、第13項に記載のシステム。
17. 堆積物トラップをさらに備える、第1項に記載のシステム。
18. 前記予熱管が前記蒸発室内を通過する、第1項に記載のシステム。
19. 前記予熱管を出る水は少なくとも約96℃の温度を有する、第1項に記載のシステム。
20. 前記予熱管は、少なくとも約15秒間の、前記予熱管内の水の滞留時間を可能にする、第1項に記載のシステム。
21. 前記予熱管はコイルを含む、第1項に記載のシステム。
22. 前記コイルは、実質的に水平な正味の流れを有し、前記コイルを通って移動する水は、水平面を通って繰り返し通過する、第15項に記載のシステム。
23. 前記予熱管は水蒸気凝縮器との熱交換を含む、第1項に記載のシステム。
24. 前記予熱管の少なくとも一部は、前記水蒸気凝縮器の少なくとも一部と同心である、第23項に記載のシステム。
25. 前記水蒸気凝縮器は廃棄水蒸気を収容する、第23項に記載のシステム。
26. 前記脱気装置は、実質的に垂直の向きであり、上端部および下端部を有する、第1項に記載のシステム。
27. 前記予熱管からの加熱された水は、前記上端部付近で前記脱気装置に入る、第26項に記載のシステム。
28. 前記加熱された水は、前記下端部付近で前記脱気装置を出る、第27項に記載のシステム。
29. 前記蒸発室からの水蒸気は、前記下端部付近で前記脱気装置に入る、第26項に記載のシステム。
30. 前記水蒸気は、前記上端部付近で前記脱気装置を出る、第29項に記載のシステム。
31. 前記脱気装置は、水と水蒸気の混合を促進するようになされた充填材を備える、第1項に記載のシステム。
32. 前記充填材は、実質的に球形の粒子を含む、第31項に記載のシステム。
33. 前記充填材は、非球形の粒子を含む、第31項に記載のシステム。
34. 前記充填材は、前記脱気装置内の均一な詰め込みを可能にするように選択されたサイズを有する粒子を含む、第31項に記載のシステム。
35. 前記充填材は異なるサイズの粒子を含み、前記粒子がサイズ的勾配を持って脱気装置内に配列される、第31項に記載のシステム。
36. 前記脱気装置を出る水は、有機物および揮発性ガスを実質的にもたない、第1項に記載のシステム。
37. 前記蒸発室は、少なくとも1つの上部セグメントおよび下部セグメントを備え、前記上部セグメントの水平断面は前記下部セグメントの水平断面よりも大きい面積を有し、前記蒸発室は、前記上部セグメントと前記下部セグメントとの間の接合部をさらに備える、第1項に記載のシステム。
38. 前記接合部は実質的に水平である、第37項に記載のシステム。
39. 前記蒸発室は排水口をさらに備え、前記排水口は前記接合部またはその上方にある、第37項に記載のシステム。
40. 前記蒸発室は、複数の粒子を含む自浄媒体をさらに備え、前記排水口は開口部を有し、前記開口部は、前記粒子が前記排水口を通過することを可能にしないサイズを有し、前記開口部はさらに、前記粒子の形状と相補的でない形状を有する、第39項に記載のシステム。
41. 前記蒸発室は、前記蒸発室の加熱された部位に近接する少なくとも一領域にて沈殿物の蓄積を妨げる自浄媒体を備える、第1項に記載のシステム。
42. 前記媒体は複数の粒子を含む、第41項に記載のシステム。
43. 前記粒子は実質的に球形である、第42項に記載のシステム。
44. 前記粒子は、前記蒸発室内の水の沸騰による、前記粒子の実質的に連続的な撹拌を可能にする特性を有する、第42項に記載のシステム。
45. 前記特性は、比重、サイズ、形態、集合の数、および構成からなる群から選択される、第44項に記載のシステム。
46. 前記粒子は、選択された硬度を有し、前記硬度は、前記粒子または前記蒸発室を実質的に侵食せずに、前記粒子による前記蒸発室の汚れ落としを可能にする、第42項に記載のシステム。
47. 前記粒子は、セラミック、金属、ガラス、または石で構成される、第42項に記載のシステム。
48. 前記粒子は、約1.0より大きく、約8.0より小さい比重を有する、第42項に記載のシステム。
49. 前記粒子は、約2.0から約5.0の間の比重を有する、第48項に記載のシステム。
50. 前記蒸発室は、前記蒸発室の底部に隣接する加熱要素をさらに備える、第1項に記載のシステム。
51. 前記加熱要素は、前記蒸発室の底部に隣接して前記蒸発室の外側に配置され、前記加熱要素は前記蒸発室に接合される、第50項に記載のシステム。
52. 前記加熱要素は、前記蒸発室の底部に隣接して前記蒸発室の内側に配置される、第50項に記載のシステム。
53. 前記デミスタは、前記蒸発室の上面に近接して配置される、第1項に記載のシステム。
54. 前記蒸発室からの水蒸気は、圧力を受けて前記デミスタに入る、第1項に記載のシステム。
55. 前記デミスタは差圧を有し、前記差圧は125Pa以上から2500Paである、第1項に記載のシステム。
56. 前記デミスタは、サイクロン作用によって、廃棄水蒸気から清浄な水蒸気を分離するようにされる、第1項に記載のシステム。
57. 清浄な水蒸気と廃棄水蒸気との比が、約10:1より大きい、第56項に記載のシステム。
58. 前記制御システムは、水蒸気の質を調整するためにパラメータを調節する、第56項に記載のシステム。
59. 前記水蒸気の質は、清浄な水蒸気の純度、清浄な水蒸気と廃棄水蒸気との比、および清浄な水蒸気の総体積からなる群から選択される少なくとも1つの質を含む、第58項に記載のシステム。
60. 前記パラメータは、清浄な水蒸気の出口の凹部の位置、前記デミスタの両端間の差圧、水蒸気入口の流れに対する抵抗、水蒸気出口の流れに対する抵抗からなる群から選択される少なくとも1つのパラメータを含む、第58項に記載のシステム。
61. 前記生成物凝縮器用の冷却装置を備える、第1項に記載のシステム。
62. 前記冷却装置はファンを含む、第61項に記載のシステム。
63. 前記生成物凝縮器はコイルを含む、第1項に記載のシステム。
64. 生成水が、前記生成物出口を通って前記生成物凝縮器を出る、第1項に記載のシステム。
65. 廃液凝縮器をさらに備える、第1項に記載のシステム。
66. 廃水が、前記廃液出口を通って前記廃液凝縮器を出る、第65項に記載のシステム。
67. 生成水貯蔵タンクをさらに備える、第1項に記載のシステム。
68. 前記貯蔵タンクは少なくとも1つの制御機構を備える、第67項に記載のシステム。
69. 前記制御機構は、フロート、導電率計、および堰フロートからなる群から選択される少なくとも1つの機構を備える、第68項に記載のシステム。
70. 前記制御システムは、サイクルの開始時に、選択された遅延期間中は水蒸気が前記生成物出口に送られないように、遅延を含む、第1項に記載のシステム。
71. 前記遅延期間は、少なくとも約10分間から30分間である、第70項に記載のシステム。
72. 前記制御システムは、少なくとも約10分間の、前記蒸発室内での水の平均滞留時間を有する、第1項に記載のシステム。
73. 前記制御システムは、少なくとも約45分間の、前記蒸発室内での水の平均滞留時間を有する、第1項に記載のシステム。
74. 前記制御システムは、前記蒸発室内の水が廃棄部へと迅速に排水され、蓄積された不純物および沈殿物を前記蒸発室から除去することを可能にするように、蒸発室フラッシュを有する、第1項に記載のシステム。
75. 前記蒸発室は、蒸発室のフラッシュ時に、ある残留体積の水が前記蒸発室の下方部分内に残るように構成される、第74項に記載のシステム。
76. 前記残留水は、次の浄化サイクルの開始中に最初の水蒸気を前記脱気装置に供給する、第75項に記載のシステム。
77. 浄水方法であって、
第1の濃度の少なくとも1つの汚染物質を含む、流入水源を提供するステップと、
前記流入水の温度を約90℃より高くすることができる条件下で、予熱器内に前記流入水を通すステップと、
前記流入水を、脱気装置内の気体の反対方向の流れに対して逆流させることにより、基本的にすべての有機物、揮発性物質、および気体を前記流入水から取り去るステップと、
前記水を、水蒸気の形成を可能にする条件下で、10分間から90分間の平均滞留時間にわたって蒸発室内に維持するステップと、
水蒸気を前記蒸発室からサイクロンデミスタへと排出するステップと、
清浄な水蒸気の収率が前記デミスタからの廃液の少なくとも約4倍より高くなるように、前記デミスタ内の汚染物質を含有する廃液から清浄な水蒸気を分離するステップと、
浄化された水をもたらすために、前記第1の濃度より低い第2の濃度の少なくとも1つの汚染物質を含有する前記清浄な水蒸気を凝縮するステップとを含む方法。
78. 前記少なくとも1つの汚染物質は、微生物、放射性核種、塩、および有機物からなる群から選択される汚染物質を含み、前記第2の濃度は表3に示される濃度以下であり、前記第1の濃度は前記第2の濃度の少なくとも約10倍である、第77項に記載の方法。
79. 前記第1の濃度は、前記第2の濃度より少なくとも約25倍高い、第77項に記載の方法。
80. 前記気体は、水蒸気、空気、および窒素からなる群から選択される、第77項に記載の方法。
81. 前記プロセスのステップは、洗浄または保守を必要とせずに、少なくとも約3カ月間自動的に繰り返される、第77項に記載の方法。
82. 前記プロセスのステップは、洗浄または保守を必要とせずに、約1年間自動的に繰り返される、第77項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/255,083 US7678235B2 (en) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | Water purification system |
PCT/US2006/040103 WO2007047443A2 (en) | 2005-10-19 | 2006-10-13 | Water purification system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009512549A JP2009512549A (ja) | 2009-03-26 |
JP2009512549A5 true JP2009512549A5 (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=37947136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008536697A Pending JP2009512549A (ja) | 2005-10-19 | 2006-10-13 | 浄水システム |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7678235B2 (ja) |
EP (1) | EP1937383A2 (ja) |
JP (1) | JP2009512549A (ja) |
KR (1) | KR20080061399A (ja) |
CN (1) | CN101355994B (ja) |
AR (1) | AR057557A1 (ja) |
CA (1) | CA2626508A1 (ja) |
TW (1) | TWI347926B (ja) |
WO (1) | WO2007047443A2 (ja) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5147237B2 (ja) * | 2003-08-12 | 2013-02-20 | アキリオン ファーマシューティカルズ,インコーポレーテッド | 抗感染剤としてのイソチアゾロキノロン類および関連化合物 |
US7678235B2 (en) | 2005-10-19 | 2010-03-16 | Sylvan Source, Inc. | Water purification system |
US20070068791A1 (en) * | 2003-12-02 | 2007-03-29 | Thom Douglas M | Automated water processing control system |
US8202402B2 (en) * | 2005-11-29 | 2012-06-19 | Hse Hittt Solar Enerji Anonim Sirkerti | System and method of passive liquid purification |
US20070209987A1 (en) * | 2006-02-15 | 2007-09-13 | Sears Stephan B | Water purification devices |
US8562824B2 (en) * | 2006-03-03 | 2013-10-22 | Sylvan Source, Inc. | Contaminant prevention |
EP2038019B1 (en) * | 2006-06-20 | 2011-08-17 | S Sistemi S.A.S. | Method and plant for treatment of asbestos-containing waste materials in supercritical water |
US20120267231A1 (en) * | 2006-11-29 | 2012-10-25 | Rahmi Oguz Capan | System and method of passive liquid purification |
US7856737B2 (en) * | 2007-08-28 | 2010-12-28 | Mathews Company | Apparatus and method for reducing a moisture content of an agricultural product |
US8771477B2 (en) * | 2008-09-17 | 2014-07-08 | Sylvan Source, Inc. | Large-scale water purification and desalination |
WO2010118425A1 (en) * | 2009-04-10 | 2010-10-14 | Sylvan Source, Inc. | Method and system for reduction of scaling in purification of aqueous solutions |
WO2011050317A2 (en) * | 2009-10-23 | 2011-04-28 | Altela, Inc. | Leverage of waste product to provide clean water |
US20110268431A1 (en) * | 2010-05-03 | 2011-11-03 | Rick Spitzer | Contaminated fluid treatment system and apparatus |
CN102826666B (zh) * | 2011-06-15 | 2016-06-01 | 杜也兵 | 带多探头溶解性总固体监测装置的净水机及滤胆监控方法 |
US9539586B2 (en) | 2011-07-06 | 2017-01-10 | Empire Technology Development Llc | Air purifier |
CN102350103B (zh) * | 2011-08-31 | 2013-09-04 | 清华大学 | 水体净化装置及包括该水体净化装置的输水工程系统 |
KR20140059292A (ko) | 2011-09-09 | 2014-05-15 | 실반 소스, 인크. | 공업적 물의 정수 및 탈염 |
CN102701542B (zh) * | 2012-06-29 | 2013-12-18 | 浙江商达环保有限公司 | 含氰、镍、氟污水处理方法 |
AU2014306078B2 (en) | 2013-08-05 | 2018-10-18 | Gradiant Corporation | Water treatment systems and associated methods |
WO2015042584A1 (en) | 2013-09-23 | 2015-03-26 | Gradiant Corporation | Desalination systems and associated methods |
US10308526B2 (en) | 2015-02-11 | 2019-06-04 | Gradiant Corporation | Methods and systems for producing treated brines for desalination |
US10167218B2 (en) | 2015-02-11 | 2019-01-01 | Gradiant Corporation | Production of ultra-high-density brines |
EP3328522A4 (en) | 2015-07-29 | 2019-04-24 | Gradiant Corporation | OSMOTIC DESALINATION METHODS AND ASSOCIATED SYSTEMS |
WO2017030937A1 (en) | 2015-08-14 | 2017-02-23 | Gradiant Corporation | Production of multivalent ion-rich process streams using multi-stage osmotic separation |
WO2017030932A1 (en) | 2015-08-14 | 2017-02-23 | Gradiant Corporation | Selective retention of multivalent ions |
WO2017147113A1 (en) | 2016-02-22 | 2017-08-31 | Gradiant Corporation | Hybrid desalination systems and associated methods |
CN106173789A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-12-07 | 宿迁市江南大学产业技术研究院 | 一种节能高质饮料杀菌控制系统 |
CN106693411A (zh) * | 2017-01-25 | 2017-05-24 | 天津中医药大学 | 适用于中药液的高效常压低温浓缩系统 |
CN108046359B (zh) * | 2017-12-25 | 2020-11-17 | 宁波乔登电子科技有限公司 | 一种具有自动续水和自清洗功能的蒸馏水机 |
CN108408815A (zh) * | 2018-02-02 | 2018-08-17 | 张国梁 | 一种氨氮吹脱塔 |
AU2019325567A1 (en) | 2018-08-22 | 2021-03-04 | Gradiant Corporation | Liquid solution concentration system comprising isolated subsystem and related methods |
CN112010480A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-12-01 | 陈俊吉 | 一种物联网个人定制含多种微量元素饮用水生产用水处理装置 |
CN116075346A (zh) * | 2020-08-17 | 2023-05-05 | 鲁姆斯科技有限责任公司 | 醚化、醚分解和异辛烯生产中的氧汽提 |
TWM608093U (zh) * | 2020-10-26 | 2021-02-21 | 魏均倚 | 蒸餾式飲水機之冷凝裝置 |
CA3197204A1 (en) | 2020-11-17 | 2022-05-27 | Richard STOVER | Osmotic methods and systems involving energy recovery |
Family Cites Families (95)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3350279A (en) * | 1965-03-09 | 1967-10-31 | American Mach & Foundry | Distillation apparatus |
US3646906A (en) | 1968-02-01 | 1972-03-07 | Purolator Products Inc | Pressure indicator and surge control device |
GB1384390A (en) | 1971-11-16 | 1975-02-19 | Sensors Systems Ltd | Electronic surveillance apparatus |
US3805880A (en) | 1972-04-24 | 1974-04-23 | Allied Chem | Circulating cooling system |
US3860492A (en) | 1973-06-27 | 1975-01-14 | Jr Alvin Lowi | Liquid separation system |
US3925176A (en) | 1973-10-10 | 1975-12-09 | Adolph P Okert | Apparatus and method for electrolytic sewage treatment |
US3907683A (en) * | 1973-10-29 | 1975-09-23 | Gilmont Instr Inc | Multitubular constant head reflux condenser |
US3935077A (en) * | 1974-04-29 | 1976-01-27 | Dennison Clifford C | Automatic water distiller |
US3980526A (en) | 1975-08-11 | 1976-09-14 | Kirschmann John D | Liquid distillation apparatus |
US4081331A (en) * | 1976-04-05 | 1978-03-28 | Gunther Weiss | Portable water distillation apparatus |
US4110170A (en) | 1976-04-28 | 1978-08-29 | Kirschman Fred C | Home water distiller |
NL7701812A (nl) | 1977-02-21 | 1978-08-23 | Philips Nv | Zonnecollector, voorzien van zonnevolgmiddelen. |
US4089662A (en) | 1977-06-22 | 1978-05-16 | Allen Filters, Inc. | Oil treatment system |
JPS6044033B2 (ja) | 1977-11-07 | 1985-10-01 | バブコツク日立株式会社 | 多重効用型造水装置 |
GB2022428B (en) | 1978-06-02 | 1982-10-20 | Nazareth Hospital Emms | Water distilling apparatus |
US4234391A (en) | 1978-10-13 | 1980-11-18 | University Of Utah | Continuous distillation apparatus and method |
US4336825A (en) | 1980-06-17 | 1982-06-29 | Factory Mutual Research Corporation | Liquid level control system |
US4342623A (en) * | 1980-10-02 | 1982-08-03 | Arthur D. Little, Inc. | Portable water distiller |
US4415075A (en) | 1981-09-16 | 1983-11-15 | General Molding, Inc. | Wall mounted light weight automatic water distiller |
DE3419171A1 (de) * | 1984-05-23 | 1985-11-28 | Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen | Verfahren zur kontinuierlichen erzeugung von kesselspeisewasser |
US4657639A (en) * | 1985-05-31 | 1987-04-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Apparatus for electrostatic filtration of N2 O4 for removal of solid and vapor contaminants |
JPS62216695A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-24 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 純水の製造方法及び装置 |
CH671832A5 (en) | 1986-07-18 | 1989-09-29 | Herbert Dr Pete | Parabolic mirror for electromagnetic waves - with inflatable space bounded by specified plastics foils |
JPS63305917A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Hitachi Ltd | 超純水製造方法及びその製造装置 |
US4818344A (en) * | 1987-12-17 | 1989-04-04 | Glucksman Dov Z | Water distilling apparatus |
US5021128A (en) | 1988-02-25 | 1991-06-04 | Pure Water, Inc. | Water distillation system and method with controls |
US4943353A (en) | 1988-03-10 | 1990-07-24 | Pure Water, Inc. | Control for modular water distiller |
US4938868A (en) | 1988-05-02 | 1990-07-03 | Nelson Thomas R | Method of distilling under partial vacuum |
NL8802179A (nl) | 1988-09-02 | 1990-04-02 | B & D Ingenieursburo | Inrichting voor het behandelen van vloeistof voor het verhinderen en/of verwijderen van ketelsteenafzettingen. |
US4946558A (en) | 1988-12-09 | 1990-08-07 | Terrill Designs, Inc. | Water distilling apparatus |
US5348623A (en) | 1988-12-09 | 1994-09-20 | Terrill Designs, Inc. | Water heating and distilling apparatus |
US5365920A (en) | 1989-03-01 | 1994-11-22 | Bomin Solar Gmbh & Co. Kg | Solar concentrator system |
JP2665377B2 (ja) | 1989-05-26 | 1997-10-22 | オルガノアクア株式会社 | 高純度蒸溜水製造装置 |
US5059287A (en) | 1989-06-16 | 1991-10-22 | Charles W. Harkey, Sr. | Portable water distiller |
US5512142A (en) | 1989-11-11 | 1996-04-30 | Hoiss; Jakob | Process and device for purifying organically polluted waste water |
JPH03181302A (ja) | 1989-12-12 | 1991-08-07 | Hitachi Ltd | 蒸留装置 |
JP3107215B2 (ja) | 1990-08-01 | 2000-11-06 | 株式会社日立製作所 | 蒸留装置 |
DE4035563A1 (de) | 1990-10-31 | 1992-05-07 | Wilhelm Meurer | Wasseraufbereitungsgeraet und verfahren zum aufbereiten von wasser |
FR2677434A1 (fr) | 1991-06-10 | 1992-12-11 | Bourgeois Ste Coop Prod | Generateur de vapeur pilote par pressostat. |
US5441606A (en) | 1992-03-23 | 1995-08-15 | Fsr Patented Technologies, Ltd. | Liquid purifying and vacuum distillation process |
US5286350A (en) | 1992-12-14 | 1994-02-15 | Huang Shan Meng | Water distiller |
CA2092612C (en) * | 1993-03-12 | 1998-02-24 | George Raymond Field | Water distillation apparatus |
US5472622A (en) | 1993-04-20 | 1995-12-05 | Ionics, Incorporated | Salt basket for crystallizer and method of use in zero liquid discharge industrial facilities |
US5435891A (en) | 1993-06-01 | 1995-07-25 | Snitchler; William H. | Home water distillation apparatus |
WO1995007124A1 (en) | 1993-09-10 | 1995-03-16 | Emerson Electric Co. | Water purifier having a demister |
US5587055A (en) | 1993-10-26 | 1996-12-24 | Michael O. Hartman | Water distilling apparatus and method |
US5484510A (en) | 1993-10-26 | 1996-01-16 | Dew Enterprises, Inc. | Water distilling apparatus |
JPH07155561A (ja) | 1993-12-07 | 1995-06-20 | Shimizu Corp | 造水チューブ |
US5810895A (en) | 1994-07-19 | 1998-09-22 | Regenerative Environmental Equipment Company, Inc. | Rotating pack bed filter with continuous cleaning system |
DE4431546A1 (de) | 1994-09-05 | 1996-03-07 | Jakob Dr Ing Hois | Verfahren und Vorrichtung zum Entsalzen von Meerwasser |
US5609732A (en) | 1995-03-14 | 1997-03-11 | Genesis, An Environmental Corp. | Distilling apparatus |
US5614066A (en) | 1995-03-15 | 1997-03-25 | Williamson; William R. | Water distillation apparatus |
FI105894B (fi) * | 1995-10-19 | 2000-10-31 | Pam Solutions Ltd Oy | Automaattinen laboratorioliuottimien ja haihtuvien kemikaalien kierrätyslaite |
CA2167127A1 (en) | 1996-01-12 | 1997-07-13 | James Munro | Water distillation apparatus |
US5968321A (en) | 1996-02-13 | 1999-10-19 | Ridgewood Waterpure Corporation | Vapor compression distillation system and method |
US5833812A (en) | 1996-02-21 | 1998-11-10 | Hartman; Michael Orban | Low maintenance water distiller |
US5729987A (en) | 1996-02-27 | 1998-03-24 | Miller; Joel V. | Desalinization method and apparatus |
US6117275A (en) | 1996-03-01 | 2000-09-12 | Didda Maria Janina Baumann | Process and device for regenerating a contaminated solvent |
JPH09257234A (ja) | 1996-03-19 | 1997-09-30 | Ebara Corp | 廃棄物のボイラへの供給方法 |
US6290819B1 (en) * | 1996-05-16 | 2001-09-18 | Environmental Technology Enterprises, Llc | Distillation apparatus |
DE19637932C1 (de) * | 1996-09-17 | 1998-02-26 | Johnson & Johnson Gmbh | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen eines Tamponapplikators für die Frauenhygiene |
US6365005B1 (en) | 1997-01-27 | 2002-04-02 | James W. Schleiffarth | Apparatus and method for vapor compression distillation |
US6009238A (en) | 1997-03-18 | 1999-12-28 | The West Bend Company | Water distiller with improved automatic shutoff feature |
US6030504A (en) | 1997-03-18 | 2000-02-29 | The West Bend Company | Control circuit for water distiller |
DK1044049T3 (da) | 1997-12-12 | 2006-11-27 | Hydrotech Veolia Water Systems | Drejeligt diskfilter |
US6423187B1 (en) | 1998-12-11 | 2002-07-23 | Ovation Products Corporation | Heat exchanger mechanism using capillary wipers for a thin film distiller |
US6168416B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-01-02 | Husky Injection Molding Systems Ltd. | Cooling device for molded articles |
US6406597B1 (en) | 1998-12-29 | 2002-06-18 | Chi-Hsiang Wang | Water distilling device |
US6294054B1 (en) | 1999-02-02 | 2001-09-25 | Douglas E. Sutter | Water purification system |
EP1159048A4 (en) | 1999-02-18 | 2002-07-31 | Psi Ets | WATER COOLED DISTILLATION APPARATUS |
GB9914398D0 (en) | 1999-06-22 | 1999-08-18 | Bp Exploration Operating | Reduction in solids deposition |
JP3434238B2 (ja) | 1999-06-23 | 2003-08-04 | 哲夫 宮坂 | 減圧蒸留装置 |
US6436242B1 (en) | 2000-02-10 | 2002-08-20 | Pedro Joaquin Sanchez Belmar | Device and method for distilling water |
JP2002022102A (ja) | 2000-07-12 | 2002-01-23 | Shinei Kk | 清浄蒸気発生装置 |
US6582563B1 (en) | 2000-09-27 | 2003-06-24 | Innowave, Inc. | Water purification system |
AU2002226959B2 (en) | 2000-11-17 | 2005-06-30 | Stephan B. Sears | Water processing device |
US6539171B2 (en) | 2001-01-08 | 2003-03-25 | Watlow Polymer Technologies | Flexible spirally shaped heating element |
US6689251B2 (en) | 2001-01-18 | 2004-02-10 | Ovation Products Corporation | Cycled-concentration distiller |
US6530307B2 (en) | 2001-02-16 | 2003-03-11 | Romar Llc | Cooking machine |
DE10108528C1 (de) * | 2001-02-22 | 2002-06-13 | Neubert Susanne | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von Flüssigkeiten |
FI20010570A (fi) | 2001-03-20 | 2002-09-21 | Fortum Oyj | Menetelmä ja erotuslaite kahden faasin erottamiseksi toisistaan |
DE60115605T2 (de) | 2001-05-14 | 2006-09-07 | De Smet Engineering N.V. | Vorrichtung und Verfahren zur physikalischen Raffinierung und/oder Deodorisierung von essbaren Ölen und Fetten |
US6830661B1 (en) | 2001-10-02 | 2004-12-14 | Environmental Technology Enterprises, L.L.C. | Point of use water purification method and apparatus |
CN2533933Y (zh) * | 2002-01-25 | 2003-02-05 | 杨全壬 | 蒸馏器 |
US8366883B2 (en) | 2002-11-13 | 2013-02-05 | Deka Products Limited Partnership | Pressurized vapor cycle liquid distillation |
WO2005056153A1 (en) | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Sylvan Source, Inc. | An improved self-cleaning water processing apparatus |
JP2007512953A (ja) | 2003-12-02 | 2007-05-24 | シルバン ソース、 インク. | 完全に自動化された水処理制御システム |
US20070012556A1 (en) * | 2003-12-02 | 2007-01-18 | Lum Gary W | Water processing apparatus |
US7678235B2 (en) | 2005-10-19 | 2010-03-16 | Sylvan Source, Inc. | Water purification system |
WO2006118912A2 (en) | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Sylvan Source, Inc. | Solar alignment device |
US20070068791A1 (en) * | 2003-12-02 | 2007-03-29 | Thom Douglas M | Automated water processing control system |
WO2007008491A2 (en) | 2005-07-06 | 2007-01-18 | Sylvan Source, Inc. | Water purification system |
US20090218210A1 (en) | 2005-10-14 | 2009-09-03 | Laura Demmons | Energy-efficient distillation system |
US8562824B2 (en) | 2006-03-03 | 2013-10-22 | Sylvan Source, Inc. | Contaminant prevention |
WO2008115578A2 (en) | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Sylvan Source, Inc. | Water purification system |
-
2005
- 2005-10-19 US US11/255,083 patent/US7678235B2/en active Active
-
2006
- 2006-10-13 WO PCT/US2006/040103 patent/WO2007047443A2/en active Application Filing
- 2006-10-13 JP JP2008536697A patent/JP2009512549A/ja active Pending
- 2006-10-13 EP EP06816868A patent/EP1937383A2/en not_active Withdrawn
- 2006-10-13 CN CN2006800476632A patent/CN101355994B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-10-13 KR KR20087011895A patent/KR20080061399A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-10-13 CA CA 2626508 patent/CA2626508A1/en not_active Abandoned
- 2006-10-18 AR ARP060104543 patent/AR057557A1/es unknown
- 2006-10-19 TW TW095138576A patent/TWI347926B/zh not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009512549A5 (ja) | ||
JP2009512549A (ja) | 浄水システム | |
CN106166398B (zh) | 大规模水净化和脱盐 | |
JP2010522081A (ja) | 浄水システム | |
US1866193A (en) | Purification of furnace or other gases | |
JP2014528825A5 (ja) | ||
US6113744A (en) | Water distillation apparatus | |
SK284946B6 (sk) | Spôsob odstraňovania nečistôt z prúdu obsahujúceho nečistoty použitím vyhrievaného separátora a tepelného výmenníka | |
US20070012556A1 (en) | Water processing apparatus | |
JP2009500164A (ja) | 浄水システム | |
US20070068791A1 (en) | Automated water processing control system | |
CN204973107U (zh) | 一种工业废水的蒸发处理装置 | |
US20070209987A1 (en) | Water purification devices | |
KR20070047278A (ko) | 액체 정화장치 | |
KR20210150586A (ko) | 무방류 수처리 장치 및 방법 | |
US4261796A (en) | Self-cleaning fractional water distiller | |
JP2007513752A (ja) | 改良された自浄式水処理装置 | |
JP4623914B2 (ja) | 液体浄化装置 | |
KR100505794B1 (ko) | 순환로에서 증기의 형태로 유체를 세정하는 장치 | |
CN105641963B (zh) | 液体处理设备 | |
KR200258812Y1 (ko) | 정수기 | |
US3256159A (en) | Water purification apparatus | |
KR970004196Y1 (ko) | 증류 정수기 | |
KR20020085686A (ko) | 열에너지 효율이 높은 수냉 증류식 정수장치. | |
US619513A (en) | Feed-water heater and purifier |