JP2009507378A - 空乏可能コレクタ列を備えた改良されたbvceo/rcs相殺を有するバイポーラ構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一実施の形態によれば、バイポーラトランジスタは、基板と、複数の交互にドープされた領域を含み、複数の交互にドープされた領域は正味の第1導電型から正味の第2導電型へ横方向に交互に配置されたコレクタと、コレクタと電気的にコンタクトするコレクタコンタクトからなるように構成できる。また、バイポーラトランジスタは、コレクタの下において高濃度にドープされた埋め込み層と、ベースコンタクトと電気的にコンタクトし、正味の第2導電型にドープされ、複数の交互にドープされた領域の一部にかかるベースと、ベース内に配置され、正味の第1導電型にドープされたエミッタからなり、エミッタの下の複数の交互にドープされた領域の一部が、約3×1012cm-2未満の濃度でドープされていることを特徴とすることができる。
【選択図】図3A
Description
102 N+コレクタ
202、252、302、352、448、449 コレクタ
203a〜i、253a〜i、303a〜g、353a〜e、445、446、447 列
104、204、304 N+埋め込み層
254、354、502、602 P+埋め込み層
106、206、306、450 Pベース
256、356、460、612 Nベース
108、208、308 N+シンカー
258、358、606 P+シンカー
110、210、310、470 N+エミッタ
260、360、480 P+エミッタ
112、212、312 P+ベースコンタクト
262、362 N+ベースコンタクト
114、214、314 N+コレクタコンタクト
264、364 P+コレクタコンタクト
200、300、600 NPNバイポーラトランジスタ
250、350 PNPバイポーラトランジスタ
400、500 集積回路
410 素子層
417 半導体ウェハ
419 結合酸化物
422 N+埋め込み領域
424 P+埋め込み領域
430 第1エピタキシャル層
440 第2エピタキシャル層
432 マスク層
435、436、437 領域
504、604、 N+エピタキシャル層
505、506、605 P+シンカー注入物
508、608 フィールド酸化膜
510、610 N+エピタキシャル層の一部
512、634 ベースコンタクト
514 酸化物
516、618 フォトレジスト
518、616 ホール(開口部)
520 P型列
522 N型真性ベース
524、526 スペーサ
528 エミッタコンタクト
530 コレクタコンタクト
532、626 エミッタ
534、536、538 ベースコンタクト金属
611 ベース注入
614 ベース酸化物
620 コレクタ列
622 エミッタポリ
624 ベースコンタクト領域
632 ILD
636 エミッタコンタクト金属
638 コレクタコンタクト金属
Claims (40)
- 基板と、
正味の第1導電型から正味の第2導電型へ横方向に交互に配置された、複数の交互にドープされた領域からなるコレクタと、
前記コレクタと電気的に接触するコレクタコンタクトと、
前記コレクタの下の高濃度にドープされた埋め込み層と、
ベースコンタクトと電気的に接触し、正味の第2導電型にドープされ、前記複数の交互にドープされた領域の一部まで広がるベースと、及び
ベース内に配置され、正味の第1導電型にドープされたエミッタとからなり、
エミッタの下の交互にドープされた領域の一部が横方向に約3×1012cm-2未満の濃度でドープされていることを特徴とするバイポーラトランジスタからなる集積回路。 - 前記エミッタの下の前記交互にドープされた領域の一部は、横方向に約2×1012cm-2未満の濃度でドープされていることを特徴とする請求項1に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された交互にドープされた領域の一部は、正味の第1導電型にドープされていることを特徴とする請求項1に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域の幅は、前記エミッタの幅とほぼ同じであることを特徴とする請求項3に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域は、前記ベースから高濃度にドープされた埋め込み層に延びることを特徴とする請求項3に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記ベースから前記埋め込み層まで画定される、前記エミッタの下の前記交互にドープされた領域の長さは、BVCEO/Ecritで定義されることを特徴とする請求項5に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記コレクタコンタクトと電気的に接触し、前記高濃度にドープされた埋め込み層と電気的に接触する電気的シンカーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域に隣接するよう配置された少なくとも1つの第2のドープされた領域を更に含み、前記少なくとも1つの第2のドープされた領域が正味の第2導電型にドープされることを特徴とする請求項3に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域は、BVCEOの絶対値未満の大きさの逆バイアス・コレクタ・ベース電圧で空乏することを特徴とする請求項8に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域に隣接する前記第2のドープされた領域は、BVCEO未満の逆バイアス・コレクタ・ベース電圧下で空乏することを特徴とする請求項8に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 第2のバイポーラトランジスタを更に含み、前記バイポーラトランジスタが前記第2のバイポーラトランジスタより大きい降伏電圧を有することを特徴とする請求項1に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域に隣接するよう配置された前記第2のドープされた領域は、BVCEO降伏電圧の大きさより小さい逆バイアス・コレクタ・ベース電圧では完全に空乏しないことを特徴とする請求項8に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下の前記ドープされた領域の幅にわたる全体は、約3E12ions/cm2未満の値を有することを特徴とする請求項1に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下の前記ドープされた領域の一部は、前記エミッタに自己整合することを特徴とする請求項1に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 基板と、
基板上に形成されたベースと、
正味の第2導電型にドープされた前記ベースの下に配置され、正味の第1導電型にドープされた第1のドープされた領域と、前記第1のドープされた領域の反対側に配置され、正味の第2導電型にドープされた第2のドープされた領域からなるコレクタと、
前記コレクタと電気的に接触するコレクタコンタクトと、
前記第1のドープされた領域と前記第2のドープされた領域の下で高濃度にドープされた埋め込み層と、及び
前記ベース内に配置され、正味の第1導電型にドープされたエミッタとからなり、
前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域は、BVCEOの絶対値未満の大きさの逆バイアス・コレクタ・ベース電圧で空乏することを特徴とするバイポーラトランジスタからなる集積回路。 - 前記第1のドープされた領域に隣接して配置された前記第2のドープされた領域は、コレクタ・ベース接合の逆バイアス下では完全に空乏しないことを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記バイポーラトランジスタは、少なくとも69ボルトのBVCEOからなるNPNバイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記バイポーラトランジスタは、少なくとも82ボルトのBVCEOからなるPNPバイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記バイポーラトランジスタはNPNバイポーラトランジスタであり、前記コレクタは少なくとも約2×1015atoms/cm3でドープされることを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記バイポーラトランジスタはNPNバイポーラトランジスタであり、前記第1のドープされた領域は約4μm〜約6μmの長さと約7μm〜約9μmの幅を有することを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記バイポーラトランジスタはPNPバイポーラトランジスタであり、前記コレクタは少なくとも約4×1015atoms/cm3でドープされることを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記バイポーラトランジスタはPNPバイポーラトランジスタであり、前記第1のドープされた領域は約3μm〜約5μmの長さと約3μm〜約5μmの幅を有することを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 少なくとも82ボルトのBVCEOからなるPNPバイポーラトランジスタをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 前記エミッタの下に配置された前記ドープされた領域は、前記エミッタに自己整合することを特徴とする請求項15に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路。
- 基板上への素子層を形成する工程と、
前記素子層に埋め込み領域を形成する工程と、
前記素子層上に正味の第1導電型にドープされた第1の層を形成する工程と、
前記第1の層に第2の導電型のドーパント材料を使用して、前記第1導電型にドープされた少なくとも1つの領域に結合した少なくとも1つの第2の導電型領域を形成する工程と、
前記第1の層にベース領域を形成する工程と、及び
前記ベース領域の一部にエミッタを形成する工程からなることを特徴とするバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。 - 前記エミッタは前記少なくとも1つの第2の導電型領域のうち1つの上に形成されることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記エミッタは前記少なくとも1つの第1の導電型領域のうち1つの上に形成されることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記素子層への第2の埋め込み領域を形成する工程を更に含み、前記第1の埋め込み領域は正味の第1導電型にドープされ、前記第2の埋め込み領域は正味の第2導電型にドープされ、更に、NPNバイポーラトランジスタは前記第1の埋め込み領域を使用して形成され、PNPバイポーラトランジスタは前記第2の埋め込み領域を使用して形成されることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 上に前記エミッタが形成される領域は、前記エミッタの幅とほぼ同じ幅からなることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記上にエミッタが形成される領域に隣接する領域は、コレクタ・ベース接合の逆バイアス下では完全に空乏しないことを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- VCBの絶対値がBVCEOの絶対値未満の場合、前記上にエミッタが形成される領域は完全に空乏しないことを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記バイポーラトランジスタは、少なくとも69ボルトのBVCEOからなるNPNバイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記バイポーラトランジスタは、少なくとも82ボルトのBVCEOからなるPNPバイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記バイポーラトランジスタはNPNバイポーラトランジスタであり、前記第1の層は少なくとも約2×1015atoms/cm3でドープされることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記バイポーラトランジスタはNPNバイポーラトランジスタであり、第1のエピタキシャル層から第1の埋め込み領域に第2の導電型のドーパント材料の一部を拡散することによって形成された少なくとも1つの第2の導電型領域は、約4μm〜約6μmの長さを有し、更に第1の導電型にドープされた領域は約7μm〜約9μmの幅を有することを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記バイポーラトランジスタはPNPバイポーラトランジスタであり、少なくとも1つの前記第2の導電型領域は、少なくとも約4×1015atoms/cm3でドープされることを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 前記バイポーラトランジスタはPNPバイポーラトランジスタであり、前記第1導電型にドープされた少なくとも1つの領域は、約3μm〜約5μmの長さと、更に約3μm〜約5μmの幅を有することを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 第2のバイポーラトランジスタを形成する工程を更に含み、前記バイポーラトランジスタは前記第2のバイポーラトランジスタより大きい降伏電圧を有することを特徴とする請求項25に記載のバイポーラトランジスタからなる集積回路の製造方法。
- 基板上に素子層を形成する工程と、
前記素子層の下に埋め込み領域を形成する工程と、
前記素子層の一部が露出する開口部からなるパターン化層を前記素子層上に形成する工程と、
前記素子層の露出部に第1の導電型ドーパントを設け、前記素子層内に第1の導電型ドーパントの列を形成する工程と、
前記素子層の露出部に第2の導電型ドーパントを設け、前記素子層内に真性ベースを形成する工程と、
前記露出した素子層に接触するエミッタを形成する工程と、及び
前記エミッタの上にエミッタコンタクトを形成する工程とからなるバイポーラトランジスタの製造方法。 - 基板上に素子層を形成する工程と、
前記素子層の下に埋め込み領域を形成する工程と、
前記素子層の第1の部分を露出する第1の開口部からなるパターン化絶縁体を前記素子層上に形成する工程と、
前記素子層の前記露出した第1の部分に第1の導電型ドーパントを設け、前記素子層内にベースを形成する工程と、
前記素子層の前記第1の部分の領域を露出する第2の開口部からなるパターン化ベース絶縁体を前記素子層の前記露出した第1の部分の上に形成する工程と、
前記素子層の前記第1の部分の前記露出領域に第2の導電型ドーパントを設け、前記素子層内に第2の導電型ドーパントの列を形成する工程と、
前記素子層の前記第1の部分の前記露出領域の一部に接触するエミッタを形成する工程と、及び
前記エミッタの上にエミッタコンタクトを形成する工程からなるバイポーラトランジスタの製造方法。
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