JP2009295371A - 断面観察用走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】観察試料103に近い位置に配置され、2次電子信号又は反射電子信号を検出する第1の信号検出器104と、該第1の信号検出器104の出力を記憶する第1の画像メモリ114と、観察試料103の上部に配置され、2次電子信号又は反射電子信号を検出する第2の信号検出器105と、該第2の信号検出器105の出力を記憶する第2の画像メモリ124と、前記第1の画像メモリ114の出力と前記第2の画像メモリ124の出力とを受けて、何れかの画像をマスクしてマスクした画像とマスクしない画像との論理演算を行ない、前記試料の試料断面の画像を強調した画像を得る画像演算装置121と、を具備して構成される。
【選択図】図1
Description
1)断面観察用走査電子顕微鏡を用いて観察断面109の像を取得すると、試料表面が明るくなりすぎてしまい、観察断面109の像の見栄えが悪くなる。
2)観察断面109が見える位置に検出器を移動すると、試料表面の高分解能観察ができない。
前記第1の画像メモリの出力と前記第2の画像メモリの出力とを受けて、何れかの画像をマスクしてマスクした画像とマスクしない画像との論理演算を行ない、前記試料の試料断面の画像を強調した画像を得る画像演算装置と、を具備することを特徴とする。
1)断面観察用走査電子顕微鏡を用いて、観察断面の像を取得した時、試料表面が明るくなりすぎるのを防ぎ、観察断面の像の見栄えをよくすることができる。
2)実施の形態1の場合、観察断面の像の見栄えをよくすることと、試料表面の高分解能観察とを両立することができる。
104 信号検出器
105 信号検出器
109 観察断面
113 信号検出器
114 画像メモリ1
121 画像演算装置
122 画像メモリ3
123 信号増幅器
124 画像メモリ2
125 ディスプレイ
Claims (2)
- イオンビームを走査しながら試料表面を加工する集束イオンビーム鏡筒と、加工した試料断面に電子ビームを照射する走査電子顕微鏡筒とからなる断面観察用走査電子顕微鏡において、
観察試料に近い位置に配置され、2次電子信号又は反射電子信号を検出する第1の信号検出器と、
該第1の信号検出器の出力を記憶する第1の画像メモリと、
観察試料の上部に配置され、2次電子信号又は反射電子信号を検出する第2の信号検出器と、
該第2の信号検出器の出力を記憶する第2の画像メモリと、
前記第1の画像メモリの出力と前記第2の画像メモリの出力とを受けて、何れかの画像をマスクしてマスクした画像とマスクしない画像との論理演算を行ない、前記試料の試料断面の画像を強調した画像を得る画像演算装置と、
を具備することを特徴とする断面観察用走査電子顕微鏡。 - イオンビームを走査しながら試料表面を加工する集束イオンビーム鏡筒と、加工した試料断面に電子ビームを照射する走査電子顕微鏡筒とからなる断面観察用走査電子顕微鏡において、
観察試料の上部に配置され、2次電子信号又は反射電子信号を検出する信号検出器と、
該信号検出器に第1のバイアス電圧を与えた時の該信号検出器の出力を記憶する第1の画像メモリと、
前記信号検出器に第2のバイアス電圧を与えた時の該信号検出器の出力を記憶する第2の画像メモリと、
前記第1の画像メモリの出力と前記第2の画像メモリの出力とを受けて、何れかの画像をマスクしてマスクした画像とマスクしない画像との論理演算を行ない、前記試料の試料断面の画像を強調した画像を得る画像演算装置と、
を具備することを特徴とする断面観察用走査電子顕微鏡。
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