JP5478427B2 - 画像形成装置 - Google Patents
画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5478427B2 JP5478427B2 JP2010191647A JP2010191647A JP5478427B2 JP 5478427 B2 JP5478427 B2 JP 5478427B2 JP 2010191647 A JP2010191647 A JP 2010191647A JP 2010191647 A JP2010191647 A JP 2010191647A JP 5478427 B2 JP5478427 B2 JP 5478427B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- pixel
- pixel position
- image data
- image forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Editing Of Facsimile Originals (AREA)
Description
12 画像入力処理手段
13 位置合わせ加算手段
14 表示手段
Claims (7)
- 複数フレームの画像データを積算して、画像を形成する画像形成装置において、前記フレーム間の画像データ間のずれをサブ画素単位で検出する位置ずれ検出部を有し、当該位置ずれ検出部によって検出されたサブ画素単位の画像データ間のずれに基づいて、前記画像データの画素位置毎の積算数を判定し、当該画素位置毎の積算数に応じて、当該画素位置毎に異なる処理を施す演算装置を備え、当該演算装置は、積算対象となる1の画素に対し、当該1の画素に積算される他の画素の前記1の画素への重なりに応じた割合で前記他の画素を積算することを特徴とする画像形成装置。
- 請求項1において、
前記演算装置は、前記画素位置毎に、当該画素位置の積算数に応じた値を持って除算することを特徴とする画像形成装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記画素位置毎に、積算数に関する情報を作成し、記憶媒体に記憶する処理を行うことを特徴とする画像形成装置。 - 複数フレームの画像データを積算して、画像を形成する画像形成装置において、
前記フレーム間の画像データ間のずれを検出する位置ずれ検出部を有し、当該位置ずれ検出部によって検出された画像データ間のずれに基づいて、前記画像データの画素位置毎の積算数を判定し、当該画素位置毎の積算数に応じて、当該画素位置毎に異なる処理を施す演算装置を備えたことを特徴とする画像形成装置において、
前記演算装置は、初期画素位置、隣接する画素位置間で積算数が異なる画素位置、及びその変動数に基づいて、各画素位置の加算数を求めることを特徴とする画像形成装置。 - 複数フレームの画像データを積算して、画像を形成する画像形成方法において、
位置ずれ検出部が、前記フレーム間の画像データ間のずれをサブ画素単位で検出し、
演算装置が、当該位置ずれ検出部によって検出されたサブ画素単位の画像データ間のずれに基づいて、前記画像データの画素位置毎の積算数を判定し、当該画素位置毎の積算数に応じて、当該画素位置毎に異なる処理を施し、
当該演算装置は、積算対象となる1の画素に対し、当該1の画素に積算される他の画素の前記1の画素への重なりに応じた割合で前記他の画素を積算することを特徴とする画像形成方法。 - 請求項5において、
前記演算装置は、前記画素位置毎に、当該画素位置の積算数に応じた値を持って除算することを特徴とする画像形成方法。 - 請求項5において、
前記演算装置は、前記画素位置毎に、積算数に関する情報を作成し、記憶媒体に記憶する処理を行うことを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010191647A JP5478427B2 (ja) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010191647A JP5478427B2 (ja) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | 画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012049049A JP2012049049A (ja) | 2012-03-08 |
JP5478427B2 true JP5478427B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=45903674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010191647A Active JP5478427B2 (ja) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5478427B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5948074B2 (ja) | 2012-02-13 | 2016-07-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像形成装置及び寸法測定装置 |
WO2017090204A1 (ja) | 2015-11-27 | 2017-06-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における画像処理方法 |
US11114275B2 (en) * | 2019-07-02 | 2021-09-07 | Fei Company | Methods and systems for acquiring electron backscatter diffraction patterns |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4054402B2 (ja) * | 1997-04-25 | 2008-02-27 | 株式会社東芝 | X線断層撮影装置 |
WO2003044821A1 (fr) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Procede d'imagerie d'echantillon et systeme de faisceau de particules chargees |
JP4616120B2 (ja) * | 2005-08-08 | 2011-01-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像処理装置及び検査装置 |
-
2010
- 2010-08-30 JP JP2010191647A patent/JP5478427B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012049049A (ja) | 2012-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10984981B2 (en) | Charged particle beam device having inspection scan direction based on scan with smaller dose | |
KR101624445B1 (ko) | 화상 형성 장치 및 치수 측정 장치 | |
US8330104B2 (en) | Pattern measurement apparatus and pattern measurement method | |
WO2015045498A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP3749241B2 (ja) | 荷電ビーム照射方法、半導体装置の製造方法および荷電ビーム照射装置 | |
US10553391B2 (en) | SEM image acquisition device and SEM image acquisition method | |
JP4338627B2 (ja) | 荷電粒子線装置と荷電粒子線顕微方法 | |
US10373797B2 (en) | Charged particle beam device and image forming method using same | |
JP5188529B2 (ja) | 電子ビーム照射方法、及び走査電子顕微鏡 | |
US7652249B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP5222994B2 (ja) | 試料観察方法および走査電子顕微鏡 | |
JP5478427B2 (ja) | 画像形成装置 | |
EP3588532B1 (en) | Charged particle beam apparatus and image acquisition method | |
JP6850234B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5022719B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5352261B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡及びその画像保存フォーマットと画像再編集方法 | |
JP2017199453A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6207893B2 (ja) | 試料観察装置用のテンプレート作成装置 | |
JP6101445B2 (ja) | 信号処理装置及び荷電粒子線装置 | |
US20230402252A1 (en) | Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method | |
EP4099359A1 (en) | Charged particle beam apparatus and image acquiring method | |
JP4231891B2 (ja) | 荷電粒子線の調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP2013093251A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2017199452A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2015138609A (ja) | レシピ設定装置及びそれを有する荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120518 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120829 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120829 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130611 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140114 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5478427 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |