JP2009294249A - 照明装置、照明方法、表示装置及び加工装置 - Google Patents

照明装置、照明方法、表示装置及び加工装置 Download PDF

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Abstract

【課題】簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置、照明方法、並びに均一性が高い表示装置及び加工装置を提供する。
【解決手段】可干渉性を有する光を出射する光源と、ピッチpで配列した複数のマイクロレンズを有するレンズアレイと、前記光源と前記レンズアレイとの間に設けられ、前記光源から出射された光が入射し、前記入射した光を、互いに隣接する前記マイクロレンズに入射する光の偏光パターンが互いに異なるように変換し、前記変換した光を前記マイクロレンズに入射させる偏光変換素子と、を備えたことを特徴とする照明装置が提供される。
【選択図】図1

Description

本発明は、コヒーレンス光源を用いた照明装置、照明方法、表示装置及び加工装置に関する。
レーザプロジェクタや車載用ヘッドアップディスプレイなどの各種の表示装置に用いられる光源(照明装置)として、高輝度化、低消費電力化、小型化、高寿命化、高安定性化、瞬時動作化、高色再現性化等のために、例えば半導体レーザ等の可干渉性(コヒーレンス)の光源を用いることが考えられる。しかしながら、コヒーレンス光源を用いると、スペックル(干渉縞)が発生し易く、表示ムラが発生する。
一方、例えば、液晶表示装置の製造工程において用いられるレーザアニール装置等の加工装置用の光源においても、同様に干渉縞が発生し、例えば、スキャニング方向に対し、平行に干渉縞が生じ、レーザ照射強度の空間的なムラが発生し、これにより製造された例えば液晶表示装置において表示ムラが発生する。
上記の干渉縞の発生を抑制するために、光強度分布を均一化するレンズアレイを、例えばレーザビームに垂直な平面内で回転する方策や、レーザビームの光路上にランダム位相板を挿入し、この位相板を同じく回転する方策等が考えられる。
さらに、特許文献1には、光のぎらつきの発生を抑えるために、光の偏光面を時間的に変化させる例えば液晶素子(偏光変換素子)を用いる技術が開示されている。
しかしながら、これらの方策では、レンズアレイや位相板の回転等のための回転駆動系や、光の偏光面を時間的に変化させる例えば液晶素子及びその駆動系が必要であり、性能を安定して発揮することは難しく、また、システム全体が大型化し、また、コスト高でもあった。また、コヒーレンス長が長い光の干渉縞を抑制するためにはランダム位相板の例えば凹凸を深くする必要があるが、一般的なランダム位相板は、凹凸が浅いため、コヒーレンス長が長い光の干渉性の抑制効果は小さい。このように、従来の技術では、スペックル(干渉縞)を効果的に抑制できなかった。
なお、特許文献2には、偏光分布変換手段によって、例えば液晶パネルなどの空間変調器の隣接する画素に入射される光の偏光方向を互いに直交させ、スペックルノイズを低減する技術が開示されている。しかしながら、この技術では、液晶パネルの各画素の配置に適合するように、空間変調素子の構造を設計する必要があり、汎用性に乏しく、各種の表示装置に適合する照明装置は実現できない、また、この技術は、空間変調器と偏光分布変換手段を組み合わせたものであり、レーザアニール装置等の加工装置には適用できない。
特開2007−121842号公報 特開2002−62582号公報
本発明は、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置、照明方法、並びに均一性が高い表示装置及び加工装置を提供する。
本発明の一態様によれば、可干渉性を有する光を出射する光源と、ピッチpで配列した複数のマイクロレンズを有するレンズアレイと、前記光源と前記レンズアレイとの間に設けられ、前記光源から出射された光が入射し、前記入射した光を、互いに隣接する前記マイクロレンズに入射する光の偏光パターンが互いに異なるように変換し、前記変換した光を前記マイクロレンズに入射させる偏光変換素子と、を備えたことを特徴とする照明装置が提供される。
本発明の別の一態様によれば、可干渉性のある光を発生し、互いに隣接する複数のマイクロレンズのそれぞれに、前記光の偏光パターンを互いに異ならせて入射させ、前記マイクロレンズから出射した光を投射することを特徴とする照明方法が提供される。
本発明の別の一態様によれば、上記の照明装置と、前記照明装置から出射された光を集光する集光レンズと、前記集光された光を2次元的に走査する走査部と、前記光の走査位置に対応して前記光の強度を変調する制御部と、を備えたことを特徴とする表示装置が提供される。
本発明の別の一態様によれば、上記の照明装置と、前記照明装置から出射された光を点状または帯状に集光する集光レンズと、前記集光された光を走査する走査部と、を備えたことを特徴とする加工装置が提供される。
本発明によれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置、照明方法、並びに均一性が高い表示装置及び加工装置が提供される。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。
図2は、本発明の第1の実施形態に係る照明装置の要部の構成を例示する模式図である。
図2(a)は、本発明の第1の実施形態に係る照明装置10の要部の構成を例示する模式図であり、図2(b)は、レンズアレイに入射する光の偏光面を、光112の伝搬方向から見た模式図である。
図1、図2に表したように、本発明の第1の実施形態に係る照明装置10は、可干渉性(コヒーレンス)を有する光112を出射する光源110と、所定のピッチpで配列したマイクロレンズ131を有するレンズアレイ130と、光源110とレンズアレイ130との間に設けられた偏光変換素子140と、を備える。
光源110には、各種のレーザダイオードやガスレーザ等を用いることができ、また波長も、紫外、可視、赤外など各種波長のレーザ等を用いることができる。また、レンズアレイ130には、1次元のマイクロレンズとして、例えばシリンドリカルレンズやレンチキュラーレンズの他、2次元状にマイクロレンズが配列した各種のレンズアレイを用いることができる。また、レンズアレイ130には、ガラス、石英、各種の樹脂等、光源110から出射された光112に対して透光性のある各種の材料を用いることができる。
そして、偏光変換素子140は、互いに隣接するマイクロレンズ131に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせる。
偏光パターンは、偏光性、及び、偏光性が異なる領域の空間的配置の少なくともいずれかを含む。
例えば、偏光変換素子140は、マイクロレンズ131の配列方向と同じ方向に配列し、ピッチpと同じ幅を有する複数の光学領域(この場合は位相板141)を有する。
この光学領域のn(nは2以上の整数)個が1周期となり、1周期内の光学領域のそれぞれは、180度×(i−1)/m(mはn以上の整数、iは1以上m以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように、入射した光112の偏光面を回転させる。なお、上記において、光学領域は、例えば、各種の位相板とすることができる。なお、位相板がある領域に対して、位相板が無い領域も、1つの光学領域とすることができる。
換言すると、偏光変換素子140は、n(nは2以上の整数)個のマイクロレンズ131を1周期とし、1周期内のマイクロレンズ131において、マイクロレンズ131のそれぞれに、180度×(i−1)/m(mはn以上の整数、iは1以上m以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度の偏光面を有する光をそれぞれ入射させる。
すなわち、互いに隣接する前記マイクロレンズ131に入射する光の偏光性を互いに異ならせる。
なお、1周期内の光学領域のそれぞれにおける偏光面の回転角の順番(配列)が、着目している光学領域とは別の光学領域においても維持され、繰り返される。
すなわち、1周期内のマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる光の偏光面の角度の配列が維持される。
ただし、本発明はこれに限らず、互いに隣接する前記マイクロレンズ131に入射する光の偏光性を互いに異ならせれば良く、1周期内のマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる光の偏光面の角度の配列は維持されなくても良い。
そして、照明装置10から出射した光は、被投射体160に投射される。例えば、被投射体160は、スクリーンや加工材であり、また、これらスクリーンや加工材に対して光を走査するスキャナとすることもできる。
なお、図2に表したように、レンズアレイ130と被投射体160との間に、投射レンズ121を設けても良い。また、図1に表したように、照明装置10は、光源110と偏光変換素子140との間に光源側レンズ120を設けることができる。
具体的には、例えば、図1、2に例示した照明装置10は、n=2、m=2の場合であり、光学領域の2個が1周期となり、この1周期内の光学領域のそれぞれは、180度×(i−1)/2のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように、入射した前記光の偏光面を回転させる。すなわち、1周期内の光学領域のそれぞれは、0度と90度となるように、入射した光の偏光面を回転させる。
すなわち、偏光変換素子140においては、λ/2板がある光学領域とλ/2板が無い光学領域とが交互に配列している。そして、λ/2板のある光学領域及びλ/2板の無い光学領域の幅は、それぞれのマイクロレンズのピッチpと等しい。
さらに、これらの複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズ131のそれぞれの間の境界と実質的に重なっている。
すなわち、互いに隣接する前記マイクロレンズ131に入射する光の偏光性を互いに異ならせている。
換言すると、2個のマイクロレンズ131が1周期となっている。そして、偏光変換素子140は、1周期内のマイクロレンズ131において(2つずつのマイクロレンズ131において)、1番目のマイクロレンズ131(例えば、図面中の一番上のマイクロレンズ)には、例えば0度の偏光面を有する光を入射させ、2番目のマイクロレンズ131(例えば上から2番目のマイクロレンズ)には、180度×(2−1)/2=90度の偏光面を有する光を入射させる。
そして、この場合、1周期内のマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる光の偏光面の角度の配列、すなわち、0度、90度の配列が維持され、この順の偏光面を有する光がそれぞれ、レンズアレイ130内の他のマイクロレンズ131にも入射する。
すなわち、偏光変換素子140として、マイクロレンズ131の1つ置きに、λ/2板(1/2波長板)141が配置されている。
図2に表したように、このような偏光変換素子140に、例えばp偏光(ここでは光112の進行方向を軸として0度の偏光面を有するとする)を入射させると、λ/2板141によって、偏光面は90度回転し、p偏光と偏光面が直交するs偏光が得られる。従って、λ/2板141が無い部分に対応するマイクロレンズ131と、λ/2板141がある部分に対応するマイクロレンズ131には、それぞれ、p偏光とs偏光が入射する。
このとき、p偏光とs偏光とでは、互いに偏光面が異なる(直交している)ので干渉しない。従って、干渉し合うp偏光どうし、及び、s偏光どうしのピッチは、それぞれマイクロレンズ131のピッチpの2倍の2pとなる。
一般的に、周期的な構造(例えばマイクロレンズや回折格子等)に単色光が入射し、その光を、投射レンズで集光した像には、光の干渉による干渉縞が生じる。この時、周期構造のピッチをpとし、光の波長をλとし、投射レンズの焦点距離をfとし、fがpに比べて非常に大きい時、干渉縞のピッチ(周期)pは、近似的に、

=fλ/p (数式1)

と表される。
すなわち、干渉縞のピッチは、周期構造のピッチに反比例する。
本実施形態に係る照明装置10においては、偏光変換素子140を設けることにより、隣接するマイクロレンズ131ごとに、偏光面を直交させて入射させ、マイクロレンズ131の偏光性を含む光学的なピッチが、マイクロレンズ131の物理的(機械構造的)なピッチpの2倍となる。このため、干渉縞のピッチは、偏光変換素子140を用いない場合に比べて1/2となり、結果として、干渉縞による輝度のムラも小さくすることができる。
上記の偏光変換素子140には、例えば、水晶などの結晶、液晶層、延伸高分子などを用いることができる。そして、例えば、それらの厚みを、上記のマイクロレンズ131のピッチに合わせて、周期的に変えることで、上記のような偏光変換素子140が得られる。また、厚みでなく、複屈折率を変化させても良い。また、偏光変換素子140は、レンズアレイ130に貼り合わせて設けてもく、また、レンズアレイ130と離間して設けても良い。
そして、本実施形態に係る照明装置10においては、偏光変換素子140は、光の偏光面を回転させる機能を有するが、偏光変換素子140自体は機械的に回転せず固定であり、従来のような回転駆動系を必要としない。また、光の偏光面は時間的に固定であり、例えば特許文献1に記載されているような、光の偏光面を時間的に変化させる例えば液晶素子やそのための駆動回路も必要としない。また、特許文献1に記載されているような、光路を分離する光路分離素子も必要としない。
さらに、偏光変換素子140は、レンズアレイ130の光学的特性(例えばマイクロレンズ131のピッチ)に適合して設計されれば良く、照明装置10から出射した光を投射する例えば液晶表示装置や、DMD(Digital Micromirror Device)やGLV(Grating Light Valve)等のような各種のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)表示装置の各画素の配置とは独立して設計することができるので、汎用性が高く、また、後述するように、レーザアニール装置等の加工装置にも適用できる。
このように、本実施形態に係る照明装置10に用いられる偏光変換素子140は簡単な構造であり、また、複雑な駆動系を必要とせず、安価に照明装置10を製作することができる。
このように、本実施形態に係る照明装置10によれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
(実施例)
以下、本実施形態に係る照明装置の実施例について、比較例を参照しながら説明する。 図3は、本発明の実施例及び比較例の照明装置の要部の構成及び特性を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)は実施例に対応し、同図(b)は比較例に対応する。また、これらの図において、光源110は省略されている。
図3(a)に表したように、実施例に係る照明装置10aにおいては、レンズアレイ130として、1組の、シリンドリカルレンズアレイ130a及びシリンドリカルレンズアレイ130bが用いられている。そして、これらのレンズアレイ130(シリンドリカルレンズアレイ130a、130b)のマイクロレンズ131のピッチはpである。そして、偏光変換素子140として、このレンズアレイ130の、隣接するマイクロレンズ131の1つ置きに、λ/2板141が配置されている。このような偏光変換素子140に対して、例えば、p偏光を入射させると、マイクロレンズごとに、p偏光とs偏光とを入射させることができる。このため、マイクロレンズ131の光学的な特性は、マイクロレンズ131のピッチpの2倍の2pの周期性を持つ。
一方、図3(b)に表したように、比較例の照明装置91においては、上記の偏光変換素子140が設けられていない。これ以外は、実施例の照明装置10aと同様の構成を有する。従って、照明装置91においては、全てのマイクロレンズ131に例えば、p偏光が入射する。このため、マイクロレンズ131の光学的な特性は、マイクロレンズ131のピッチpの周期性を持つ。
このため、図3(b)の右側の図に例示したように、比較例の照明装置91においては、光強度の変化(干渉縞)のピッチは長く、また、振幅が大きい。
これに対し、図3(a)の右側の図に例示したように、実施例の照明装置10aにおいては、光強度の変化(干渉縞)のピッチは短く、また、振幅も小さくすることができる。 以下、このような照明装置の干渉縞の測定結果について説明する。
図4は、本発明の実施例に係る照明装置の特性の評価光学系を例示する模式図である。 図4に表したように、本発明の第1の実施形態に係る照明装置10aにおいては、光源110として、波長λが1064nmのマルチモードYAGレーザを用いている。そしてレンズアレイ130として、マイクロレンズ131のピッチpが2.5mmのシリンドリカルレンズアレイ130a、130bを有している。そして、焦点距離fが500mmの投射レンズ121を用いて、被投射体160としてCCDに光を投射して、光の干渉縞のパターンを撮像して評価した。そして、光源110から出射した光112の光束の強度分布113、すなわち、M(エムスクウェア)の値を変えて、干渉縞を評価した。なお、比較例の照明装置91も偏光変換素子140を除いて、照明装置10aと同様の光源、レンズアレイ、投射レンズを用い、同様に、Mの値を変えて干渉縞の評価を行った。
なお、Mは、ビームの品質を表すパラメータであり、TEM00モードで、同じウェストサイズを持つ理論的な回折限界ビームの拡がりθに対する実際の拡がり比を示す。すなわち、Dをビームウェスト径、θを拡がり角、λを波長とした時、Mは、以下の数式2で表される。

= πDθ/(4λ) (数式2)

すなわち、Mが小さくなるほどビームの品質が良く、Mが1の時が理想状態である。なお、TEM00モードは、ビームと交差してガウスエネルギー分布を持った、レーザで最も単純な横モード(伝搬方向に垂直な場のベクトルを持つ)である。
図5は、本発明の実施例の照明装置の特性の評価結果を例示する画像及びグラフ図である。 すなわち、同図(a)、(b)は、M=26に対応し、同図(c)、(d)は、M=32に対応する。
図6は、比較例の照明装置の特性の評価結果を例示する画像及びグラフ図である。
すなわち、同図(a)、(b)は、M=10に対応し、同図(c)、(d)は、M=22に対応し、同図(e)、(f)は、M=30に対応する。
そして、図5、図6において、図(b)、(d)、(f)は、CCDで撮像された干渉縞のパターン像の画像を例示し、図(a)、(c)、(e)は、干渉縞の強度の位置による変化を例示する模式的なグラフ図であり、横軸は光強度(任意目盛)を表し、縦軸は位置を表している。
図6(b)、(d)、(f)に表したように、比較例の照明装置91においては、どのMの場合も、干渉縞の輝度変化は大きく、コントラスの高い干渉縞が現れた。また、図6(a)、(c)、(e)に表したように、干渉縞の周期は大きく、またその振幅も大きかった。
これに対し、図5(b)、(d)に表したように、実施例の照明装置10aにおいては、比較例の照明装置91に比べて、どのMの場合も、比較例の照明装置91と比較すると、干渉縞の輝度変化は小さく、干渉縞のコントラストは低かった。また、図5(a)、(c)に表したように、比較例の照明装置91と比較すると、干渉縞の周期は小さく、またその振幅も小さかった。
これらの結果から、干渉縞の発生の程度を表すパラメータとして、干渉縞コントラストCと均一度Uとを導入する。すなわち、CCDによって測定された干渉縞の輝度の最大値をImaxとし、最小値をIminとし、背景輝度をIとした時、

A=Imax−I (数式3)
B=Imin−I (数式4)

とし、干渉縞コントラストCと均一度とUを、以下の数式5、数式6で定義する。

C=(A−B)/(A+B) (数式5)
U=B/A×100(%) (数式6)

すなわち、干渉縞コントラストCが小さいほど、干渉縞のコントラストが低く干渉縞が軽減され、また、均一度Uが大きいほど(100%に近いほど)干渉縞の程度は軽減されていることを表す。
図7は、本発明の実施例及び比較例の照明装置の特性の評価結果を例示するグラフ図である。
すなわち、同図(a)、(b)の横軸は、ビーム品質Mを表し、同図(a)の縦軸は干渉縞コントラストCを表し、同図(b)の縦軸は均一度Uを表す。そして、これらの図において、実線は実施例の照明装置10aに対応し、破線は比較例の照明装置91に対応する。
図7(a)に表したように、実施例及び比較例の両方の場合において、ビーム品質Mが大きくなるにつれ、干渉縞コントラスCが小さくなっている。すなわち、ビーム品質が劣化すると干渉縞が起こりにくくなる。そして、同図に表したように、同じビーム品質Mの場合において、実施例の照明装置10aの干渉縞コントラストCは、比較例の照明装置91よりも、常に小さい。すなわち、実施例の照明装置10aにおいては、比較例の照明装置91よりも、干渉縞が軽減されている。
一方、図7(b)に表したように、実施例及び比較例の両方の場合において、ビーム品質Mが大きくなるにつれ、均一度Uが大きくなっている。すなわち、ビーム品質が劣化すると均一度が向上し干渉縞が起こりにくくなる。そして、同図に表したように、同じビーム品質Mの場合において、実施例の照明装置10aの均一度Uは、比較例の照明装置91よりも、常に大きい。すなわち、実施例の照明装置10aにおいては、比較例の照明装置91よりも、干渉縞が軽減されている。
このように、同じビーム品質Mの光を用いた場合において、実施例の照明装置10aでは、比較例の照明装置91よりも、干渉縞が軽減される。すなわち、光を小さく絞り込む等、ビーム品質が高い(M値が小さい)光を用いた場合においても、本実施例の照明装置10aを用いることで干渉縞の程度の低い、すなわち、均一性の高い照明光が得られる。
図8は、本発明の実施例及び比較例の照明装置の特性の測定結果及び計算結果を例示するグラフ図である。
図8の横軸は、レンズアレイの光学的周期を表し、縦軸は、干渉縞の周期を表す。
既に図3(a)に例示したように、実施例の照明装置10aにおけるレンズアレイ130の光学的周期は2p(pが2.5mmなので5mm)であり、図3(b)に例示したように、比較例の照明装置91におけるレンズアレイ130の光学的周期はp(2.5mm)である。
また、これらの図には、図5、図6の測定結果から求めた干渉縞の周期の実験値と、数式1から求めた干渉縞のピッチpの計算値とを表している。なお、同図は、ビーム品質M=37の場合の結果を例示している。
図8に表したように、実施例の照明装置10aにおいては、干渉縞のピッチpの計算値が106μmであるのに対し、実験値は110μmであり、数式1の近似精度や実験誤差を考慮すると良く一致した。
また、比較例の照明装置91においては、干渉縞のピッチpの計算値が213μmであるのに対し、実験値は198μmであり、この場合も、数式1の近似制度や実験誤差を考慮すると良く一致した。
そして、照明装置10aの干渉縞のピッチは、照明装置91の干渉縞のピッチの1/2であり、上に説明した、本実施形態における干渉縞の程度の軽減の作用及び効果が、理論的にも確認できた。
以下、別の実施例として別の光源を用いた照明装置10bについて説明する。
本発明の別の実施例の照明装置10bは、既に説明した照明装置10aにおいて、光源110をYAGレーザから、Mが1.1のHe−Neレーザに変えたものであり、それ以外の構成は照明装置10aと同様なので説明を省略する。
図9は、本発明の別の実施例及び比較例の照明装置の特性の評価結果を例示する画像である。
すなわち、同図9(a)は、本実施例に係る別の照明装置10bの評価結果であり、CCDで撮像された干渉縞のパターン像を例示している。そして、同図(b)は、比較例の照明装置91bの評価結果を例示している。比較例の照明装置91bは、本実施例の照明装置10bと同様に、光源としてHe−Neレーザを用いているが、偏光変換素子140が設けられていないものである。
図9(b)に表したように、比較例の照明装置91bでは、干渉縞が強く発生し、光強度の均一性が悪かった。すなわち、照明装置91bでは、干渉縞コントラストCは0.9であり、均一度Uは5であった。
これに対し、図9(a)に表したように、本実施例の照明装置10bでは、干渉縞が弱く、光強度の均一性が高かった。すなわち、照明装置10bでは、干渉縞コントラストCは0.61であり、均一度Uは24であった。
このように、本実施例に係る照明装置10bにおいても、偏光変換素子140を設けることにより、比較例に対して干渉縞コントラストCと均一度Uとが改善した。このように、別の光源を用いた本実施例に係る照明装置10bによっても、干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
このように、本実施形態及び実施例に係る照明装置10、10a、10bによれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
なお、上記においては、光源110から出射される光112が直線偏光(例えばp偏光)である場合として説明した。すなわち、互いに隣接する前記マイクロレンズに入射し、偏光変換素子140によって、互いに異ならされた偏光パターンが、異なる偏光面を有する複数の直線偏光である場合である。すなわち、本実施形態に係る照明装置10において、偏光変換素子140は、光源110から出射される光112の偏光面を、180度×(i−1)/mのいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように、回転させる例である。
しかし、本発明はこれに限らず、例えば、偏光変換素子140によって、互いに異ならされた偏光パターンは、異なる旋光方向を有する複数の円偏光でも良い。例えば、光源110から出射される光112が円偏光である場合は、図1、図2に例示した位相板としてλ/4板を用いれば良い。
さらには、旋光方向、楕円率及び軸角度の少なくともいずれかが互いに異なる楕円偏光でも良い。
例えば、光源110から出射される光112が楕円偏光でも良く、その場合は、その楕円偏光に適合する位相板141を配置すれば良い。
すなわち、偏光変換素子140は、楕円偏光の旋光方向、楕円率及び軸角度の少なくいずれか、円偏光の旋光性、及び直線偏光の光の進行方向に対する偏光面、の少なくともいずれかを含む偏光性を、互いに隣接する前記マイクロレンズにおいて互いに異なるように変換すれば良い。
また、レンズアレイ130において、マイクロレンズ131が2次元的に配置されている場合は、偏光変換素子140は、その2次元の2つの方向のそれぞれのピッチに対して、上記の構成が満足されるような2次元的に配置された光学領域を設け、それぞれの光学領域において、上記の偏光性を異ならせれば良い。例えば、2次元的に配列した光学領域で、偏光面が異なるように、偏光面を回転すれば良い。すなわち、偏光変換素子140において、異なる角度で偏光面を回転する位相板が2次元的に配置される。
図10は、本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)は、本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置11の要部の構成を例示する模式図であり、同図(b)は、レンズアレイに入射する光の偏光面を、光112の伝搬方向から見た模式図である。
図10(a)に表したように、本実施形態に係る別の照明装置11は、n=3、m=3の場合である。
そして、偏光変換素子140は、互いに隣接する前記マイクロレンズ131に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせる。
すなわち、偏光変換素子140は、マイクロレンズのピッチpと同じ幅を有する複数の光学領域を有する。
この光学領域の3個が1周期となり、1周期内の光学領域のそれぞれは、180度×(i−1)/3のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように、入射した光の偏光面を回転させる。すなわち、0度、60度、120度に偏光面を回転させる。
これらの複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズ131のそれぞれの間の境界と実質的に重なっている。
なお、1周期内の光学領域のそれぞれにおける偏光面の回転角の順番(配列)が、維持され、繰り返される。
すなわち、図10に表したように、偏光変換素子140においては、位相板が無い光学領域(偏光面を0度回転する光学領域)145、偏光面を60度回転する60度位相板146を有する光学領域、及び、偏光面を120度回転する120度位相板147を有する光学領域が、順番に配列している。
そして、これら3つの光学領域のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズ131のそれぞれの間の境界と実質的に重なっている。
すなわち、偏光変換素子140は、3個のマイクロレンズ131を1周期とし、1周期内のマイクロレンズ131において、マイクロレンズ131のそれぞれに、180度×(i−1)/3(iは1以上3以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度の偏光面を有する光をそれぞれ入射させる。
すなわち、偏光変換素子140は、3個のマイクロレンズ131を1周期とし、1周期内のマイクロレンズ131において、1番目のマイクロレンズ131の偏光面を0度とした時、2番目のマイクロレンズ131に入射する光112の偏光面を、180度×(2−1)/3=60度とし、3番目のマイクロレンズ131に入射する光112の偏光面を(3−1)/3=120度とする。
そして、1周期内のマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる光の偏光面の角度の配列、すなわち、0度、60度、120度の角度の配列(順番)が維持される。
すなわち、レンズアレイ130は、ピッチpの周期で配列したマイクロレンズを有しており、3つのマイクロレンズ131が1周期となり、2番目のマイクロレンズ136に対応した位置に、偏光面を60回転させる60度位相板146が配置され、3番目のマイクロレンズ137に対応する位置に、偏光面を120度回転させる120度位相板147が配置されている。
これにより、図10(a)(b)に表したように、1番目のマイクロレンズ135には、例えばp偏光(0度偏光)が入射し、2番目のマイクロレンズ136には60度偏光が入射し、3番目のマイクロレンズ137には、120度偏光が入射する。これらの0度偏光、60度偏光、120度偏光の内、それぞれの間の互いに平行な成分は干渉するが、直交成分は互いに干渉しない。そして、レンズアレイ130においては、3つずつのマイクロレンズ(1番目のマイクロレンズ135、2番目のマイクロレンズ136、3番目のマイクロレンズ137)が1つの周期となるため、光学的周期は、3pである。従って、本実施形態に係る照明装置11においては、干渉縞のピッチpは偏光変換素子140を設けない場合に比べて1/3となる。そして、干渉縞のピッチpが小さくなると共に、干渉縞のコントラストも小さくなるので、結果として干渉縞が抑制される。
すなわち、図1、図2に例示した照明装置10においては、偏光面が0度と90度の互いに干渉しない2種の光を形成し、それぞれを2個のマイクロレンズの周期でマイクロレンズに入射し光学的な周期を2pとしていた。これに対し、本実施形態に係る照明装置11においては、60度位相板146と120度位相板147によって、偏光面が0度、60度、120度の3種の光を形成する。これら3種の光の一部の成分は、互いに干渉し合うが、光学的な周期は、3pであり、照明装置10よりも大きくすることができる。その結果、干渉縞を抑制することができる。
本実施形態に係る照明装置11によっても、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
なお、偏光面を60度回転する60度位相板146と、偏光面を120度回転する120度位相板147は、例えば、水晶などの結晶、液晶層、延伸高分子などで形成することができ、例えばその厚み等を適切に設定することで形成することができる。
また、照明装置11において、マイクロレンズ135に入射する光の偏光面が必ずしも0度である必要はない。すなわち、3つのマイクロレンズ131において、それぞれのマイクロレンズに入射する偏光面が相対的に0度、60度、120度となっていれば良い。例えば、マイクロレンズ135に対応させた位置にも位相板を設け、マイクロレンズ135に対応する位相板と、マイクロレンズ136に対応する位相板と、マイクロレンズ137に対応する位相板とで、偏光面が相対的に、0度、60度、120度となれば良い。すなわち、偏光変換素子140として、光学領域145に、偏光面をA度回転させる位相板を配置し、他の光学領域には、偏光面をA度+60度回転する位相板を配置し、別の光学領域には、偏光面をA度+120度回転する位相板を配置したものを用いても良い。
なお、照明装置11においては、1周期内のマイクロレンズに入射する光の偏光面の角度の順番は、0度、60度、120度の配列であったが、入射する光の偏光面の角度の配列は、例えば、0度、120度、60度の順のように、配列(順番)を入れ替えても良い。
図11は、本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)は、本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置12の要部の構成を例示する模式図であり、同図(b)は、レンズアレイに入射する光の偏光面を、光112の伝搬方向から見た模式図である。
図11(a)に表したように、本実施形態に係る別の照明装置12は、n=3、m=4の場合である。
そして、偏光変換素子140は、互いに隣接する前記マイクロレンズ131に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせる。
すなわち、偏光変換素子140は、マイクロレンズのピッチpと同じ幅を有する複数の光学領域を有する。
この光学領域の3個が1周期となり、1周期内の光学領域のそれぞれは、180度×(i−1)/4(iは1以上3以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように、入射した光の偏光面を回転させる。すなわち、この場合は、0度、45度、90度、135度から選ばれた角度である、0度、45度、135度に偏光面を回転させる。
これらの複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズ131のそれぞれの間の境界と実質的に重なっている。
なお、1周期内の光学領域のそれぞれにおける偏光面の回転角の順番(配列)が、維持され、繰り返されている。
すなわち、図11に表したように、偏光変換素子140においては、偏光面を0度回転する0度位相板142を有する光学領域、偏光面を45度回転する45度位相板143を有する光学領域、及び、偏光面を135度回転する135度位相板144を有する光学領域が、順番に配列している。なお、上記において、0度、45度、135度の各角度は互いに相対的なものであり、例えば、A度、A度+45度、A度+135度としても良い。従って、上記の0度位相板142、45度位相板143、及び、135度位相板144は便宜的な名称である。
すなわち、偏光変換素子140は、3個のマイクロレンズ131を1周期とし、1周期内のマイクロレンズ131において、マイクロレンズ131のそれぞれに、180度×(i−1)/4(iは1以上3以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度の偏光面を有する光をそれぞれ入射させる。すなわち、0度、45度、90度、135度の4つの角度のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度の偏光面を有する光をそれぞれ入射させる。
また、1周期内のマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる光の偏光面の角度の配列、すなわち、0度、45度、135度の角度の配列が維持されている。
すなわち、レンズアレイ130は、ピッチpの周期で配列したマイクロレンズを有しており、3つのマイクロレンズ131が1周期となり、1番目のマイクロレンズ135に対応する位置に0度位相板142が配置され、2番目のマイクロレンズ136に対応した位置に45度位相板143が配置され、3番目のマイクロレンズ137に対応する位置に135度位相板144が配置されている。
これにより、図11(a)(b)に表したように、1番目のマイクロレンズ135には、例えば0度偏光が入射し、2番目のマイクロレンズ136には45度偏光が入射し、3番目のマイクロレンズ137には、135度偏光が入射する。これらの0度偏光、45度偏光、135度偏光の内、それぞれの間の互いに平行な成分は干渉するが、直交成分は互いに干渉しない。そして、レンズアレイ130においては、3つずつのマイクロレンズ(1番目のマイクロレンズ135、2番目のマイクロレンズ136、3番目のマイクロレンズ137)が1つの周期となるため、光学的周期は、3pである。従って、本実施形態に係る照明装置12においては、干渉縞のピッチpは、偏光変換素子140を設けない場合に比べて1/3となる。そして、干渉縞のピッチpが小さくなると共に、干渉縞のコントラストも小さくなるので、結果として干渉縞が抑制される。
本実施形態に係る照明装置12によっても、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
なお、偏光面を45回転する45度位相板143と、偏光面を135度回転する135度位相板144は、例えば、水晶などの結晶、液晶層、延伸高分子などで形成することができ、例えばその厚み等を適切に設定することで、形成することができる。
なお、照明装置12において、1番目のマイクロレンズ135に対応する位相板による偏光面の回転角は必ずしも0度である必要はなく、マイクロレンズ135に対応する位相板と、マイクロレンズ136に対応する位相板と、マイクロレンズ137に対応する位相板とで、偏光面が相対的に、0度、45度、135度となれば良い。
さらには、照明装置12においては、0度、45度、135度の3つの偏光面を有する光を、3つのマイクロレンズのそれぞれに入射させたが、0度、45度、90度、135度の4つの角度のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度の偏光面を有する光をそれぞれ入射させれば良い。例えば、0度、45度、90度としても良い。
なお、照明装置12においては、1周期内のマイクロレンズに入射する光の偏光面の角度の順番は、0度、45度、135度の配列であったが、入射する光の偏光面の角度の配列は、例えば、0度、135度、45度の順のように、配列(順番)を入れ替えても良い。また、この角度の配列(順番)を維持することができる。
このように、本実施形態に係る照明装置においては、偏光変換素子140は、任意のn個のマイクロレンズ131を1周期とし、1周期内のマイクロレンズ131において、マイクロレンズ131のそれぞれに、180度×(i−1)/mのいずれかから選ばれ、互いに異なる角度の偏光面を有する光をそれぞれ入射させる。
そして、1周期内のマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる光の偏光面の角度の配列を維持することができる。
このような偏光変換素子140を設けることにより、マイクロレンズ131の周期をpとすると、レンズアレイとしての光学的周期は、n×pとなり、結果として、偏光変換素子140を設けない場合に対して、干渉縞のピッチpが、1/nと小さくなる。そして、干渉縞のコントラスも低くなり、干渉縞が抑制される。
このように、本実施形態に係る照明装置によって、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
図12は、本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)は、本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置13の要部の構成を例示する模式図であり、同図(b)は、1つの光学的周期内の偏光状態を例示する模式図である。
図12(a)に表したように、本実施形態に係る別の照明装置13は、n=2、m=2の場合である。すなわち、図1、図2に例示した照明装置10における偏光変換素子140の光学領域を、マイクロレンズの配列に対して1/2ピッチずらした構成をしている。すなわち、マイクロレンズ131のピッチと同じ幅のλ/2板141が、マイクロレンズ131の配列に対して、1/2ピッチシフトした配置で配列されている。
すなわち、照明装置13においては、偏光変換素子140は、マイクロレンズのピッチpと同じ幅を有する複数の光学領域を有する。この光学領域の2個が1周期となり、1周期内の光学領域のそれぞれは、0度または90度に偏光面を回転させる。
そして、照明装置10においては、複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界と実質的に重なっていたが、図12に例示する照明装置13では、複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界のそれぞれの間の中心に配置されている。
図12(b)に表したように、2つのマイクロレンズと、それと1/2ピッチずれて配置されたλ/2板141が1つの周期となる。
すなわち、偏光変換素子140は、互いに隣接する前記マイクロレンズ131に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせる。
これにより、光学的な周期は、2pの長さとなる。これにより、照明装置13によれば、偏光変換素子140を設けない場合に比べて、干渉縞のピッチpを1/2にすることができ、干渉縞を抑制することができる。
このように、本実施形態に係る照明装置13によっても、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
さらに、例えば、図10、図11にそれぞれ例示した照明装置11、12において、偏光変換素子140の光学領域(位相板)のそれぞれの間の境界を、複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界のそれぞれの間の中心に配置しても良い。これによっても、光学的周期は、マイクロレンズ131のピッチよりも大きくなり、偏光変換素子140を設けない場合に比べて、干渉縞のピッチpを小さくすることができ、干渉縞を抑制することができる。
さらに、例えば、上記の照明装置10、11、12において、偏光変換素子140の光学領域(位相板)のそれぞれの間の境界は、複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界の任意の場所に配置することもできる。これによっても、光学的周期は、マイクロレンズ131のピッチよりも大きくなり、偏光変換素子140を設けない場合に比べて、干渉縞のピッチpを小さくすることができ、干渉縞を抑制することができる。
なお、レンズアレイ130において、マイクロレンズ131が2次元的に配置されている場合は、偏光変換素子140に、その2次元の2つの方向のそれぞれのピッチに対して、上記の構成が満足されるような2次元的に配置された光学領域を設け、それぞれの光学領域において、上記の角度で偏光面を回転すれば良く、その際に、光学領域とマイクロレンズ131との配置(例えばそれぞれの境界)を2次元的にシフトさせても良い。すなわち、偏光変換素子140において、上記の角度で偏光面を回転する位相板をマイクロレンズ131に対して2次元的にシフトさせて配置しても良い。
(第2の実施形態)
図13は、本発明の第2の実施形態に係る照明装置の要部の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)〜(c)は、第2の実施形態に係る照明装置21a、21b、21cにおけるマイクロレンズと偏光変換素子140の構成を例示している。
図13(a)に表したように、第2の実施形態に係る照明装置21aにおいては、偏光変換素子140は、マイクロレンズ131の配列方向と同じ方向に配列し、マイクロレンズのピッチpの3分の1の幅を有し、入射した光の偏光面を90度回転する複数の光学領域を有している。この光学領域としては、λ/2板141が用いられている。
そして、偏光変換素子140においては、マイクロレンズ131に対応する部分では、マイクロレンズ131の図面中の上部と下部に対応してλ/2板141が配置されている。そして、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132に対応する部分では、マイクロレンズ132の図面中の中央部に対応してλ/2板141が配置されている。
すなわち、偏光パターンが、偏光性(この場合は直線偏光の偏光面)が異なる領域の空間的配置である例であり、この空間配置が、互いに隣接するマイクロレンズ(例えばマイクロレンズ131、132)で異なっている。
すなわち、偏光変換素子140は、互いに隣接するマイクロレンズ(例えばマイクロレンズ131、132)に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせている。
これにより、光学的周期は、2pとなる。これにより、偏光変換素子140を設けない場合に比べて、干渉縞のピッチpを1/2に小さくし、干渉縞を抑制することができる。
また、図13(b)に表したように、第2の実施形態に係る照明装置21bにおいては、照明装置21aと同様に、マイクロレンズ131のピッチpの3分の1の幅を有し、入射した光の偏光面を90度回転する複数の光学領域、すなわち、λ/2板141が用いられている。ただし、このλ/2板141の配列が照明装置21aとは異なっている。
すなわち、例えば、マイクロレンズ131に対応する部分では、マイクロレンズ131の図面中の上部と中央部に、p/3の幅のλ/2板141が配置されている。そして、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132に対応する部分では、マイクロレンズ132の下部に対応してp/3の幅のλ/2板141が配置されている。
すなわち、偏光変換素子140は、互いに隣接するマイクロレンズ(例えばマイクロレンズ131、132)に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせている。
また、図13(c)に表したように、第2の実施形態に係る照明装置21cにおいては、照明装置21aと同様に、マイクロレンズ131のピッチpの3分の1の幅を有し、入射した光の偏光面を90度回転する複数の光学領域、すなわち、λ/2板141が用いられ、このλ/2板141の配列が照明装置21aとは異なっている。
すなわち、例えば、マイクロレンズ131に対応する部分では、マイクロレンズ131の図面中の中央部と下部にp/3の幅のλ/2板141が配置されている。そして、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132に対応する部分では、マイクロレンズ132の上部にp/3の幅のλ/2板141が配置されている。
すなわち、偏光変換素子140は、互いに隣接するマイクロレンズ(例えばマイクロレンズ131、132)に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせている。
このような構成の偏光変換素子140を有する照明装置21b、21cにおいても、光学的周期は2pとなる。これにより、偏光変換素子140を設けない場合に比べて、干渉縞のピッチpを1/2に小さくし、干渉縞を抑制することができる。
このように、本実施形態に係る照明装置21a、21b、21cによっても、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
なお、照明装置21b、21bは、図1、図2に例示した照明装置10において、偏光変換素子140の光学領域(λ/2板141)の配置を、マイクロレンズ131の配置に対して3分の1ピッチ、すなわち、p/3の距離だけ、シフトした構造である。
また、上記の照明装置21a、21b、21cにおいては、単位となる光学領域(λ/2板141)の幅がp/3の場合であったが、単位となる光学領域(λ/2板141)の幅をp/2とすることもできる。この場合も、偏光変換素子140が、互いに隣接するマイクロレンズ(例えばマイクロレンズ131、132)に入射する光の偏光パターンを互いに異ならせるように、光学領域は配置される。
具体的には、その光学領域の配置(偏光性のことなる領域の空間的配置)は、既に図12に例示した配置である。
既に説明したように、この場合も、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
このように、偏光変換素子140における光学領域の幅が、マイクロレンズ131のピッチpの1/k(kは2以上の整数)である場合にも、干渉縞を抑制できる。
すなわち、偏光変換素子140は、マイクロレンズ131の配列方向と同じ方向に配列し、マイクロレンズのピッチpのk(kは2以上の整数)分の1の幅を有し、入射した光の偏光面を90度回転する複数の光学領域を有することができる。
そして、この場合の光学領域は、互いに隣接するマイクロレンズに入射する光の偏光パターンを互いに異ならせるように、配置される。すなわち、偏光性(この場合は直線偏光の偏光面)が異なる領域の空間的配置が、互いに隣接するマイクロレンズ(例えばマイクロレンズ131、132)で異なっている。
これにより、本実施形態に係る照明装置によっても、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明装置が提供できる。
上記において、kが2と3の場合については既に説明したので、kが4の場合について以下説明する。
図14は、本発明の第2の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)〜(f)は、第2の実施形態に係る別の照明装置22a〜22fにおけるマイクロレンズと偏光変換素子140の構成を例示している。
すなわち、kが4であり、いずれの場合も、偏光変換素子140の光学領域は、互いに隣接するマイクロレンズに入射する光の偏光パターンを互いに異ならせるように、配置される。
図14(a)に表したように、照明装置22aにおいては、p/4の幅を有するλ/2板141が用いられ、例えばマイクロレンズ131においては、図面中の最上部と中下部にλ/2板141が配置され、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132においては、図面中の中上部と最下部にλ/2板141が配置されている。これにより、光学的周期は2pとなる。
また、図14(b)に表したように、照明装置22bにおいては、p/4の幅を有するλ/2板141が用いられ、例えばマイクロレンズ131においては、図面中の最上部と最下部にλ/2板141が配置され、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132においては、図面中の中上部と中下部にλ/2板141が配置されている。これにより、光学的周期は2pとなる。
また、図14(c)に表したように、照明装置22cにおいては、p/4の幅を有するλ/2板141が用いられ、例えばマイクロレンズ131においては、図面中の最上部にλ/2板141が配置され、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132においては、図面中の中上部と中下部と最下部にλ/2板141が配置されている。これにより、光学的周期は2pとなる。
また、図14(d)に表したように、照明装置22dにおいては、p/4の幅を有するλ/2板141が用いられ、例えばマイクロレンズ131においては、図面中の中上部にλ/2板141が配置され、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132においては、図面中の最上部と中下部と最下部にλ/2板141が配置されている。これにより、光学的周期は2pとなる。
また、図14(e)に表したように、照明装置22eにおいては、p/4の幅を有するλ/2板141が用いられ、例えばマイクロレンズ131においては、図面中の中下部にλ/2板141が配置され、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132においては、図面中の最上部と中上部と最下部とにλ/2板141が配置されている。これにより、光学的周期は2pとなる。
また、図14(f)に表したように、照明装置22fにおいては、p/4の幅を有するλ/2板141が用いられ、例えばマイクロレンズ131においては、図面中の最下部にλ/2板141が配置され、マイクロレンズ131に隣接するマイクロレンズ132においては、図面中の最上部と中上部と中下部にλ/2板141が配置されている。これにより、光学的周期は2pとなる。
これら照明装置22a〜22fにおいても、偏光変換素子140を設けない場合に対して、干渉縞のピッチpを1/2にすることができ、干渉縞を抑制できる。
なお、図14(c)、(f)に例示した照明装置22c、22fは、λ/2板141の幅がpであり、マイクロレンズ131に対して、配置ピッチを1/4だけシフトした構成ともいえる。
なお、光学領域(λ/2位相板141)の幅を小さくする(kを大きくする)、すなわち、マイクロレンズ131に入射させる光の個々の偏光パターンの幅を小さくする場合、隣接するマイクロレンズ131を透過した光のp偏光とs偏光と(相対的に直交する2つの偏光面を有する偏光)が重ならないようにする。この時、kを大きくすると、回折により光が広がる現象が発生する。すなわち、回折による広がり角φ(ラジアン)は、λ/2板141の幅(開口幅)をDとし、波長をλとすると、以下の数式7で表される。

φ=λ・D=λ×k/p (数式7)

数式7で表されるように、kが大きくなると、光の広がり角φが大きくなり、解像度の低下や光量の損失に繋がる。この観点では、kは小さい値が望ましいが、用いる光源110、マイクロレンズ131及び照明装置を構成するその他の光学素子を含めた全体の光学系の特性に基づいて、kを適切に定めることができる。
(第3の実施形態)
図15は、本発明の第3の実施形態に係る照明方法を例示するフローチャート図である。
図15に表したように、本発明の第3の実施形態に係る照明方法においては、まず、可干渉性のある光112を発生する(ステップS110)。これには、各種のレーザダイオードやガスレーザ等の光を発生する各種の光源110を用いることができ、また波長も、紫外、可視、赤外など各種の波長とすることができる。
そして、互いに隣接するマイクロレンズのそれぞれに、光112の偏光パターンを互いに異ならせて、入射させる(ステップS120)。これには、上記の各種の偏光変換素子140を用いることができる。
そして、マイクロレンズ131から出射した光を、被投射体160に投射させる(ステップS130)。
これにより、マイクロレンズ131に入射させる光を回転させない場合に比べて、光学的周期を例えば2倍以上に大きくすることができ、これにより干渉縞のピッチpを小さくし、干渉縞を抑制することができる。
このように、本実施形態に係る照明方法によれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明方法が提供できる。
図16は、本発明の第3の実施形態に係る照明方法の要部を例示するフローチャート図である。
すなわち、図16は、図15に例示した、ステップS120(互いに隣接するマイクロレンズのそれぞれに、光の偏光パターンを互いに異ならせて入射させる工程)の具体的方法をさらに説明する図である。
図16に表したように、本発明の第3の実施形態に係る1つの照明方法では、ステップS120として、所定の幅pを有し、前記pのn(nは2以上の整数)倍の周期で配列した複数の光学領域を1周期とし、この1周期内の光学領域のそれぞれで、光112の偏光面を、180度×(i−1)/m(mはn以上の整数、iは1以上m以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように回転させる(ステップS221)。これには、既に説明した各種の偏光変換素子140を用いることができる。
そして、それぞれの光学領域で偏光面が回転させられた光を、pのピッチで、光学領域の配列と同じ方向に配列した複数のマイクロレンズ131に入射させる(ステップS222)。
そして、図15に例示したステップS130に従って、マイクロレンズ131から出射した光を、被投射体160に投射する。
これにより、レンズアレイ130に入射させる光を回転させない場合に比べて、光学的周期を例えば2倍以上に大きくすることができ、これにより干渉縞のピッチpを小さくし、干渉縞を抑制することができる。
このように、本実施形態に係る照明方法によれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明方法が提供できる。
なお、レンズアレイ130において、マイクロレンズ131が2次元的に配置されている場合は、その2次元の2つの方向のそれぞれのピッチに対して上記の構成が満足されるような2次元的に配置された光学領域において、上記の角度で偏光面を回転すれば良い。 また、例えば、本実施形態に係る照明方法において、上記の複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、上記の複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界と実質的に重なるようにすることができる。
さらには、上記の前記複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、上記の複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界のそれぞれの間の中心に配置することができる。
また、例えば、nが2で、前記mが2の時は、上記の1周期内の光学領域のそれぞれで、互いに直交する偏光面となるように、光の偏光面を回転することができる。
さらに、例えば、nが3で、前記mが3の時は、上記の1周期内の光学領域のそれぞれで、0度、60度、120度の偏光面となるように、光の偏光面を回転することができる。なお上記において、互いの偏光面が、60度と120とになるような、任意の3つの角度で偏光面を回転しても良い。
また、例えば、nが3で、前記mが4の時は、上記の1周期内の光学領域のそれぞれで、0度、45度、135度の偏光面となるように、光の偏光面を回転することができる。なお上記において、互いの偏光面が、45度と135とになるような、任意の3つの角度で偏光面を回転しても良い。
これによっても、小型で簡単な構成により、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明方法が提供できる。
図17は、本発明の第3の実施形態に係る照明方法の別の要部を例示するフローチャート図である。
すなわち、図17は、図15に例示したステップS120の別の具体的方法をさらに説明する図である。
図17に表したように、本発明の第3の実施形態に係る別の1つの照明方法では、ステップS120として、マイクロレンズの配列方向と同じ方向に配列し、マイクロレンズ131のピッチpのk(kは2以上の整数)分の1の幅を有する光学領域ごとに、入射した光の偏光面を90度回転させる(ステップS321)。
そして、上記の光学領域は、互いに隣接するマイクロレンズのそれぞれで、光112の偏光パターン、すなわち、偏光性(例えば偏光面)が異なる領域の空間的配置、が互いに異なるように配置される。
そして、回転させた光を、互いに隣接するマイクロレンズ131のそれぞれに入射させる(ステップS322)。
そして、図15に例示したステップS130に従って、マイクロレンズ131から出射した光を、被投射体160に投射する。
これによっても、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、光強度の均一性が高い照明方法が提供できる。
(第4の実施の形態)
図18は、本発明の第4の実施形態に係る表示装置の構成を例示する模式図である。
図18に表したように、本発明の第4の実施形態に係る表示装置40においては、上記の照明装置10と、照明装置10から出射された光112を集光する集光レンズ210と、集光された光112を2次元的に走査する走査部220と、照明装置10に接続され、光112の走査位置に対応して光112の強度を変調する制御部230、を備える。
なお、表示装置40においては、光源110と偏光変換素子140との間に、2つのレンズ122、123が設けられている。
また、集光レンズ210は、照明装置10から出射された光112を、例えば点状に集光することができる。
そして、表示装置40は、例えばスクリーン310に光を走査しつつ投射する。
すなわち、図18に例示したように、スクリーン310に対して、例えば往復した走査方向221で、光を2次元的に走査する。その際、制御部230によって、照明装置10の例えば光源110を制御して、それぞれの走査位置における光112の強度を変調することによって、所望の画像を表示することができる。
すなわち、表示装置40は、レーザ走査型の表示装置であり、レーザプロジェクタや車載用ヘッドアップディスプレイ等に応用できる。
また、図18に例示した照明装置10と走査部220とを、例えば3組設け、照明装置10の光源110が発生する光の波長を例えば赤、緑、青の3色とすることで、多色表示を行うこともできる。
本実施形態に係る表示装置40においては、照明装置として、本発明の実施形態に係る照明装置10を用いているので、干渉縞が抑制された均一な表示を得ることができる。
このように、本実施形態に係る表示装置40によれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、均一性が高い表示装置が提供できる。
なお、表示装置40の照明装置10においては、被投射体160が、走査部220またはスクリーン310であり、照明装置10は被投射体160に対して干渉縞が抑制された均一な光を投射している。
また、表示装置40では、図1、図2に例示した照明装置10を用いたが、本発明はこれに限らず、本実施形態に係る表示装置は、既に説明した本発明の実施形態に係る全ての照明装置を用いることができる。
なお、本実施形態に係る表示装置は、例えば、液晶表示装置、DMD、GLVと組み合わせて表示装置とすることもでき、その場合も、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、均一性が高い表示装置が提供できる。
(第5の実施の形態)
本実施形態に係る加工装置は、例えば液晶表示装置を製造する際に用いられるレーザアニール装置である。
図19は、本発明の第5の実施形態に係る表示装置の構成を例示する模式図である。
図19に表したように、本発明の第5の実施形態に係る加工装置50においては、上記の照明装置10と、照明装置10から出射された光を点状または帯状に集光する集光レンズ240と、集光された光を走査する走査部220と、を備える。
図19に例示した加工装置50においては、集光レンズ240は、照明装置10から出射した光を帯状に集光している。そして帯状の光が、液晶表示装置となる基板320に投射される。
本実施形態に係る加工装置50においては、照明装置として、本発明の実施形態に係る照明装置10を用いているので、干渉縞が抑制された均一な強度の光を投射することができる。
このように、本実施形態に係る加工装置50によれば、簡単で小型の構成により、安定して干渉縞の発生を効率良く抑制し、均一性が高い加工装置が提供できる。
すなわち、加工装置50によって製造された例えば液晶表示装置の特性の均一性が向上し、加工装置50によれば、より均一な高性能の液晶表示装置を製造することができる。
なお、加工装置50の照明装置10においては、被投射体160が、走査部220または基板320であり、照明装置10は被投射体160に対して干渉縞の抑制された均一な光を投射している。
また、加工装置50では、図1、図2に例示した照明装置10を用いたが、本発明はこれに限らず、本実施形態に係る表示装置は、既に説明した本発明の実施形態に係る全ての照明装置を用いることができる。
なお、本実施形態に係る加工装置として、液晶表示装置を製造する際のレーザアニール装置を例示したが、本発明はこれに限らず、例えばITO(Indium Tin Oxide)膜や各種金属膜の加工や除去、レーザリペア、各種の部材の切断や加工、レーザマーキング等の各種の加工を行う加工装置に応用することができる。
このような加工装置に本実施形態に係る加工装置を応用した場合、干渉縞が抑制されるので、各種の加工精度が向上する。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、照明装置、照明方法、表示装置及び加工装置を構成する各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述した照明装置、照明方法、表示装置及び加工装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての照明装置、照明方法、表示装置及び加工装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
本発明の第1の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る照明装置の要部の構成を例示する模式図である。 本発明の実施例及び比較例の照明装置の要部の構成及び特性を例示する模式図である。 本発明の実施例に係る照明装置の特性の評価光学系を例示する模式図である。 本発明の実施例の照明装置の特性の評価結果を例示する画像及びグラフ図である。 比較例の照明装置の特性の評価結果を例示する画像及びグラフ図である。 本発明の実施例及び比較例の照明装置の特性の評価結果を例示するグラフ図である。 本発明の実施例及び比較例の照明装置の特性の測定結果及び計算結果を例示するグラフ図である。 本発明の別の実施例及び比較例の照明装置の特性の評価結果を例示する画像である。 本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。 本発明の第2の実施形態に係る照明装置の要部の構成を例示する模式図である。 本発明の第2の実施形態に係る別の照明装置の要部の構成を例示する模式図である。 本発明の第3の実施形態に係る照明方法を例示するフローチャート図である。 本発明の第3の実施形態に係る照明方法の要部を例示するフローチャート図である。 本発明の第3の実施形態に係る照明方法の別の要部を例示するフローチャート図である。 本発明の第4の実施形態に係る表示装置の構成を例示する模式図である。 本発明の第5の実施形態に係る表示装置の構成を例示する模式図である。
符号の説明
10、10a、11、12、13、21a〜21c、22a〜22f、91 照明装置
40 表示装置
50 加工装置
110 光源
112 光
113 強度分布
120 光源側レンズ
121 投射レンズ
122、123 レンズ
130 レンズアレイ
130a、130b シリンドリカルレンズアレイ
131、132、135、136、137 マイクロレンズ
140 偏光変換素子
141 位相板(λ/2板、光学領域)
142 0度位相板
143 45度位相板
144 135度位相板
145 光学領域
146 60度位相板
147 120度位相板
160 被投射体
210、240 集光レンズ
220 走査部
221 走査方向
230 制御部
310 スクリーン
320 基板

Claims (17)

  1. 可干渉性を有する光を出射する光源と、
    ピッチpで配列した複数のマイクロレンズを有するレンズアレイと、
    前記光源と前記レンズアレイとの間に設けられ、前記光源から出射された光が入射し、前記入射した光を、互いに隣接する前記マイクロレンズに入射する光の偏光パターンが互いに異なるように変換し、前記変換した光を前記マイクロレンズに入射させる偏光変換素子と、
    を備えたことを特徴とする照明装置。
  2. 前記偏光パターンは、偏光性、及び、偏光性が異なる領域の空間的配置の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1記載の照明装置。
  3. 前記偏光性は、楕円偏光の旋光方向、楕円率及び軸角度の少なくいずれか、円偏光の旋光性、及び直線偏光の光の進行方向に対する偏光面、の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1または2記載の照明装置。
  4. 前記偏光変換素子は、前記マイクロレンズの配列方向と同じ方向に配列し、それぞれが前記ピッチpと同じ幅を有する複数の光学領域を有し、
    前記光学領域の隣接するn(nは2以上の整数)個が1周期となり、前記1周期内の前記光学領域のそれぞれは、180度×(i−1)/m(mはn以上の整数、iは1以上m以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように、入射した前記光の偏光面を回転させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の照明装置。
  5. 前記nが2であり、前記mが2であり、
    前記偏光変換素子は、隣接する前記マイクロレンズのそれぞれに、互いに直交する偏光面を有する光を入射させることを特徴とする請求項4記載の照明装置。
  6. 前記nが3であり、前記mが3であり、
    前記偏光変換素子は、隣接する前記マイクロレンズの3つを1周期として、前記1周期内のマイクロレンズのそれぞれに、第1の偏光面を有する第1の光と、前記第1の偏光面に対し60度の偏光面を有する第2の偏光面を有する第2の光と、前記第1の偏光面に対して120度の偏光面を有する第3の偏光面を有する第3の光と、をそれぞれ入射させることを特徴とする請求項4記載の照明装置。
  7. 前記nが3であり、前記mが4であり、
    前記偏光変換素子は、隣接する前記マイクロレンズの3つを1周期として、前記1周期内のマイクロレンズのそれぞれに、第1の偏光面を有する第1の光と、前記第1の偏光面に対し45度の偏光面を有する第5の偏光面を有する第5の光と、前記第1の偏光面に対して135度の偏光面を有する第6の偏光面を有する第6の光と、をそれぞれ入射させることを特徴とする請求項4記載の照明装置。
  8. 前記複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、前記複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界と実質的に重なることを特徴とする請求項4〜7のいずれか1つに記載の照明装置。
  9. 前記複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、前記複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界のそれぞれの間の中心に対応することを特徴とする請求項4〜7のいずれか1つに記載の照明装置。
  10. 前記偏光変換素子は、前記マイクロレンズの配列方向と同じ方向に配列し、前記ピッチpのk(kは2以上の整数)分の1の幅を有し、入射した光の偏光面を90度回転する複数の光学領域を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の照明装置。
  11. 可干渉性のある光を発生し、
    互いに隣接する複数のマイクロレンズのそれぞれに、前記光の偏光パターンを互いに異ならせて入射させ、
    前記マイクロレンズから出射した光を投射することを特徴とする照明方法。
  12. 前記光の偏光パターンを互いに異ならせて入射させる工程は、
    所定の幅pを有し、前記幅pのn(nは2以上の整数)倍の周期で配列した複数の光学領域を1周期とし、前記1周期内の前記光学領域のそれぞれで、前記光の偏光面を、180度×(i−1)/m(mはn以上の整数、iは1以上m以下の整数)のいずれかから選ばれ、互いに異なる角度となるように回転させ、
    前記それぞれの光学領域で偏光面が回転させられた光を、前記pのピッチで前記配列と同じ方向に配列した複数の前記マイクロレンズに入射させる工程を含むことを特徴とする請求項11記載の照明方法。
  13. 前記複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、前記複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界と実質的に重なることを特徴とする請求項12記載の照明方法。
  14. 前記複数の光学領域のそれぞれの間の境界は、前記複数のマイクロレンズのそれぞれの間の境界のそれぞれの間の中心に対応することを特徴とする請求項12記載の照明方法。
  15. 前記光の偏光パターンを互いに異ならせて入射させる工程は、
    前記マイクロレンズの配列方向と同じ方向に配列し、前記pのk(kは2以上の整数)分の1の幅を有する光学領域ごとに、入射した光の偏光面を90度回転させ、
    前記互いに隣接するマイクロレンズのそれぞれに入射させる工程を含むことを特徴とする請求項11記載の照明方法。
  16. 請求項1〜10のいずれか1つに記載の照明装置と、
    前記照明装置から出射された光を集光する集光レンズと、
    前記集光された光を2次元的に走査する走査部と、
    前記光の走査位置に対応して前記光の強度を変調する制御部と、
    を備えたことを特徴とする表示装置。
  17. 請求項1〜10のいずれか1つに記載の照明装置と、
    前記照明装置から出射された光を点状または帯状に集光する集光レンズと、
    前記集光された光を走査する走査部と、
    を備えたことを特徴とする加工装置。
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