KR20170043629A

KR20170043629A - 광학 시스템용 무아레 패턴 방지 확산기

Info

Publication number: KR20170043629A
Application number: KR1020177007564A
Authority: KR
Inventors: 요나단 마손; 그로스 크리스토프 르; 루시오 킬처
Original assignee: 인텔 코포레이션
Priority date: 2014-10-22
Filing date: 2015-10-22
Publication date: 2017-04-21
Also published as: TW201629532A; TWI617841B; WO2016065166A1; JP2017534897A; EP3210059A1; US9927560B2; US10845510B2; US20180217301A1; KR102315504B1; US20160116647A1; CN106716248A; EP3210059A4

Abstract

본 명세서에는 광학 확산기, 특히 투사된 이미지의 무아레-패턴을 감소시키기 위한 확산기에 관련된 디바이스 및 기법이 개시되어 있다. 이 디바이스는 마이크로-초점 요소의 어레이 또는 반사체 및 광 편광 그리드를 포함할 수 있다. 광 빔의 일부와 반사체의 마이크로-초점 요소(5) 사이에서 편광을 변화시키도록 구성된 광 편광 그리드는 편광의 차이를 갖는 광 빔의 일부가 일 점에서 만날 수 있도록 광 빔을 확산시킨다.

Description

광학 시스템용 무아레 패턴 방지 확산기{ANTI-MOIRE PATTERN DIFFUSER FOR OPTICAL SYSTEMS}

관련 출원의 상호 참조

본 출원은 "광학 시스템용 무아레 패턴 방지 확산기"라는 명칭으로 2014년 10월 22일에 출원된 미국 가특허출원 번호 62/067,352의 이익 및 우선권을 주장하고, 이것의 요지는 원용에 의해 그 전체가 본원에 포함된다.

본 명세서에서 실시형태는 일반적으로 광학 시스템, 특히 광학 시스템 확산기에 관한 것이다.

현대의 이미지 투사 시스템은 하나 이상의 광학 확산기를 포함할 수 있다. 일반적으로, 광학 확산기는 광 빔을 확산시키도록 구현될 수 있다. 투사 시스템에 관하여, 확산기는 이미지가 투사될 수 있는 시야를 형성하도록 구현될 수 있다. 현대의 투사 시스템은 확산기를 구현하기 위해 마이크로-렌즈 또는 마이크로-미러를 사용할 수 있다. 그러나, 마이크로-미러 또는 마이크로-렌즈로 구현된 확산기는 투사된 이미지에 나타나는 무아레-패턴을 유발할 수 있다.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결할 수 있는 광학 시스템용 무아레 패턴 방지 확산기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

이를 위해, 본 발명의 일 실시예에서는, 광 빔을 수광하고 상기 광 빔의 일부의 편광을 변화시키는 광 편광 그리드(light polarization grid); 및 상기 광 빔을 확산시키기 위해 상기 광 편광 그리드에 광학적으로 결합되는 마이크로-초점 요소의 어레이(array of micro-focal elements)를 포함하는 장치가 제공된다.

도 1은 제 1 실시예의 광학 시스템을 도시한다.
도 2는 제 2 실시예의 광학 시스템을 도시한다.
도 3은 제 3 실시예의 광학 시스템을 도시한다.
도 4는 제 4 실시예의 광학 시스템을 도시한다.
도 5는 제 5 실시예의 광학 시스템을 도시한다.
도 6은 제 6 실시예의 광학 시스템을 도시한다.
도 7은 제 1 실시예의 광 편광 그리드의 블록도를 도시한다.
도 8은 제 2 실시예의 광 편광 그리드의 블록도를 도시한다.
도 9는 제 3 실시예의 광 편광 그리드의 블록도를 도시한다.
도 10은 제 4 실시예의 광 편광 그리드의 블록도를 도시한다.
도 11은 제 1 실시예의 논리 흐름의 블록도를 도시한다.
도 12는 제 2 실시예의 논리 흐름의 블록도를 도시한다.
도 13은 제조 중의 제 1 실시예의 확산기의 블록도를 도시한다.
도 14는 일 실시형태에 따른 컴퓨터 가독 매체를 도시한다.
도 15는 일 실시형태에 다른 디바이스를 도시한다.

본 명세서에 기술된 다양한 실시형태는 일반적으로 광학 확산기에 관한 것이다. 특히, 본 개시는 이미지 투사 시스템용 광학 확산기를 제공하기 위해 구현될 수 있다. 다양한 실시예는 다중 코히런트(coherent) 광파를 확산시키도록 구성된 마이크로-초점 요소의 어레이 및 광파들 사이에 편광의 차이를 발생시키도록 구성되는 광 편광 그리드를 포함하는 광학 확산기를 제공할 수 있다.

이하 도면이 참조되고, 여기서 동일한 참조 번호는 전체를 통해 동일한 요소를 지칭하기 위해 사용된다. 다음의 설명에서, 설명의 목적을 위해, 많은 구체적 세부사항이 그것의 철저한 이해를 위해 설명된다. 그러나, 이러한 구체적 세부사항 없이도 새로운 실시형태가 실시될 수 있음은 분명하다. 다른 경우에서, 그 설명을 용이화하기 위해 공지의 구조 및 디바이스가 블록도의 형태로 도시되어 있다. 의도는 청구항의 범위 내에서 모든 개조, 균등 및 대안이 충분히 설명되도록 철저한 설며을 제공하는 것이다.

또한, "a", "b", "c"와 같은 변수가 참조될 수 있고, 이것은 2개 이상의 컴포넌트가 구현될 수 있는 컴포넌트를 표시하기 위해 사용된다. 다중 컴포넌트가 반드시 있을 필요는 없고, 더욱이 다중 컴포넌트가 구현되는 경우에는, 이들이 동일할 필요가 없다는 것을 아는 것이 중요하다. 대신에, 도면에서 컴포넌트를 참고하기 위한 변수는 편리성 및 명확한 도시를 위해 사용된다.

도 1는 광학 시스템(100)의 일 실시예를 도시하는 블록도이다. 일반적으로, 이 광학 시스템(100)은 임의의 다양한 투사 시스템으로 구현될 수 있다. 일부의 실시예에서, 시스템(100)은 헤드업 디스플레이(HUD) 시스템으로 구현될 수 있다. 이러한 HUD 시스템은, 예를 들면, 자동차, 비행기, 열차, 보트, 안경, 머리에 착용되는 디바이스 등에서 구현될 수 있다. 본 광학 시스템(100)은 광 투사 시스템으로서 참조될 수 있는 것으로 주목된다. 그러나, 실시예는 이러한 맥락에 제한되지 않는다.

본 시스템(100)은 광원(103)을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 광원(103)은 레이저 광원일 수 있고, 이것은 광 빔(105)을 방출한다. 일부의 실시예에서, 광 빔(105)은 선형 편광을 가질 수 있다. 광 빔(105)은 다수의 광파로 구성될 수 있고, 각각의 광파는 실질적으로 동일한 편광을 갖는다. 또한, 광 빔(105)은 코히런트일 수 있다.

본 시스템(100)은 또한 스캐닝 미러 시스템(106)을 포함한다. 광원(103) 및 스캐닝 미러 시스템(106)은 스캐닝 미러 시스템(106)이 광원(103)에 의해 방출되는 광을 수광할 수 있도록 배치된다.

일부의 실시예에서, 스캐닝 미러 시스템(106)은 마이크로-전기-기계 시스템(MEMS) 스캐닝 미러일 수 있다. 이러한 MEMS 시스템은, 예를 들면, 미러(107)를 포함하는 이동가능한 플레이트를 포함할 수 있고, 이것은 2개의 상호 직각의 축선을 중심으로 회전되도록 배치된다. 예를 들면, 본 도는 축선(109a, 109b)을 중심으로 회전되도록 배치되는 미러(107)를 포함하는 시스템(106)을 도시한다. 일부의 실시예에서, 미러(107)는 단일 축선만을 중심으로 회전될 수 있다. 다른 실시예로서, 시스템(106)은 다중 미러, 예를 들면, 상호 직각의 축선을 중심으로 회전되도록 배치되는 2개의 미러를 포함할 수 있다. 그러나, 실시예는 이러한 맥락에 제한되지 않는다.

일반적으로, 스캐닝 미러 시스템(106)은 표면 상에 실상을 투사하기 위해 투사 표면 상에 광 빔(105)을 스캐닝할 수 있다. 이 시스템(100)은 또한 확산기(111) 상에 입사되는 광을 확산시키기 위한 광 확산기(111)를 포함한다. 특히, 확산기(111)는 이 확산기(111) 상에 입사되는 광을 투과 및 확산시키도록 구성된다. 예를 들면, 광 빔(105)으로부터의 광은 확산기(111) 상에의 입사광으로서 도시되어 있고, 확산된 광(예를 들면, 파(105-1, 105-2) 등)은 확산기(111)를 통해 투과되는 것으로서 도시되어 있다. 광파(105-1, 105-2)는 광선으로도 지칭될 수 있다는 것에 주의한다. 일부의 실시예에서, 확산기(111)는 제 1 투명한 기재(113) 및 제 2 투명한 기재(115)를 포함한다. 일부의 실시예에서, 기재(111 및/또는 113)는 유리, 석영, 사파이어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트, 폴리(메틸 메타크릴레이트)(PMMA), 폴리머, 플라스틱 또는 위의 재료들의 조합을 포함할 수 있다.

확산기(111)는 또한 마이크로-초점 요소의 어레이(117)를 포함한다. 일부의 실시예에서, 마이크로-초점 요소의 어레이(117)는 기재(115) 상에 배치될 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-초점 요소(117)는 볼록한 형상을 가질 수 있다. 일반적으로, 마이크로-초점 요소(117)는 광 빔(105)에 대해 적어도 부분적으로 투과형이다(또는 투명하다). 일부의 실시예에서, 마이크로-초점 요소(117)는 유리, 석영, 사파이어, PET, 폴리카보네이트, PMMA, 폴리머, 플라스틱 또는 위의 재료의 조합을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-초점 요소(117)는 1㎛ 내지 5000㎛의 직경을 가질 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-초점 요소(117)는 50㎛ 내지 1000㎛의 직경을 가질 수 있다.

확산기(111)는 또한 광 편광 그리드(118)를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 광 편광 그리드(118)는 제 1 기재(113)와 제 2 기재(115) 사이에 배치된다. 일반적으로, 광 편광 그리드(118)는 다수의 셀(또는 영역)(119-a)(여기서, a는 양의 정수임)을 포함하는 패턴화된 구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 셀(119-1, 119-2, 119-3, 119-4)이 묘사되어 있다. 일반적으로, 셀(119-a)의 일부(또는 전부)는 이 셀을 통해 투과되는 광의 편광을 수정 또는 변화시키도록 구성될 수 있다. 일부의 실시예에서, 셀(119-a)의 일부는 다수의 방식으로 셀을 통해 투과되는 광의 편광을 변화시키도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 셀(119-1, 119-3)은 이러한 셀을 통과하는 광의 편광을 제 1 방식으로 변화시키도록 구성될 수 있고, 셀(119-2, 119-4)은 편광을 실질적으로 수정함이 없이 광을 투과시키도록 구성될 수 있다. 다른 실시예로서, 셀(119-1, 119-3)은 이러한 셀을 통과하는 광의 편광을 수정하도록 구성될 수 있고, 셀(119-2, 119-4)는 이러한 셀을 통과하는 광의 편광을 제 2 방식으로 수정하도록 구성될 수 있고, 여기서 제 1 방식과 제 2 방식은 다를 수 있다. 이하에서 편광이 수정될 수 있는 방법의 추가의 실시예를 더 상세히 설명한다.

일반적으로, 셀(119-a)은 셀 그룹(120)으로 그룹화된다. 예를 들면, 제 1 셀 그룹(120-1) 및 제 2 셀 그룹(120-2)이 제공될 수 있다. 각각의 셀 그룹(120)은 각각 교호하는 셀(119)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 셀(119-1, 119-3) 등은 셀 그룹(120-1)에 포함될 수 있고, 셀(119-2, 119-4) 등은 셀 그룹(120-2)에 포함될 수 있다. 일부의 실시예에서, 셀(119-a)은 각각의 마이크로-초점 요소(117)를 위해 제공될 수 있다. 더욱이, 일부의 실시예에서, 셀(119-a)은 각각의 마이크로-초점 요소(117)와 정렬될 수 있다. 2개의 직교하는 선형 편광은 서로 실질적으로 간섭하지 않거나 또는 우선(right handed) 원형 편광 및 좌선(left handed) 원형 편광은 서로 실질적으로 간섭하지 않는다는 것이 주목된다. 예를 들면, 2개의 연속적인 마이크로-초점 요소(117)를 통해 투과되는 광이 서로 직교하는 선형 편광을 갖는다면, 이들 2개의 연속적인 마이크로-초점 요소를 통해 투과되는 광은 서로 실질적으로 간섭하지 않는다. 따라서, 적어도 한번 셀(119-3) 및 셀(119-4)을 투과(예를 들면, 통과)한 확산된 광파는 서로 간섭하지 않는다.

예를 들면, 연속적인 셀(예를 들면, 셀(119-3, 119-4) 등)에 입력되는 광파(예를 들면, 광 빔(105)의 부분)가 선형 편광을 갖는다면, 이들 셀로부터 방출되는 확산된 광파(예를 들면, 광파(105-1, 105-2) 등)는 서로 직교하는 편광을 갖는다. 다른 한편, 입력 광파가 원형 또는 타원형 편광을 갖는다면, 확산된 광파는 반대 전계의 회전 방향을 갖는다. 특히, 하나의 광파(예를 들면, 파(105-1))의 회전 방향은 왼쪽일 수 있고, 다른 광파(예를 들면, 파(105-2))의 회전 방향은 오른쪽일 수 있다. 또는 다시 말하면, 확산된 광파의 편광의 핸디드니스(handedness)는 상이하다. 일부의 실시예에서, 입력 광파는 선형 편광을 가질 수 있고, 이것은 우선 및/또는 좌선의 원형 또는 타원형 편광으로 변환된다. 일부의 실시예에서, 입력 광은 원형 편광을 가질 수 있고, 출력 파는 2개의 직교하는 선형 편광된 광파일 수 있다.

위에서 언급된 바와 같이, 일부의 실시예에서, 선택된 수의 셀(예를 들면, 셀(119-1, 119-3) 등)을 포함하는 셀의 제 1 그룹(예를 들면, 그룹(120-1) 등)은 광 빔의 편광을 변화시키도록 배치되고, 다른 셀(예를 들면, 셀(119-2, 119-4) 등)을 포함하는 셀의 다른 그룹(예를 들면, 그룹(120-2) 등)은 이들을 통과하는 광의 편광을 실질적으로 수정하지 않도록 구성된다. 예를 들면, 셀(119-a)에 입사되는 광파가 선형 편광을 갖는 것으로 가정하면, 도 1은 실질적으로 90도만큼 편광을 회전시키도록 구성된 셀(119-1, 119-3 등)을 도시하므로, 얻어지는 편광은 입사광의 편광에 대해 직교한다. 따라서, 확산기(111)를 통해 투과되는 확산된 광파는 서로 실질적으로 간섭하지 않을 수 있다. 예를 들면, 광파(105-1, 105-2)는 점(121)에 입사되는 것으로 도시된다. 그러나, 광파(105-1)의 편광이 90도 회전되고, 광파(105-2)의 편광에 직교하므로 이들 파는 서로 실질적으로 간섭하지 않을 수 있다.

일부의 실시예에서, 광 편광 그리드(118)의 다수의 셀(119-a)는 지연기(retarder)로도 알려진 파장 플레이트(wave plate)일 수 있다. 특정의 실시예로서, 이들 셀(119-a)은 선형으로 편광된 광의 편광 방향을 시프트시키도록 구성된 1/2 파장 플레이트일 수 있다. 다른 특정의 실시예로서, 이들 셀(119-a)는 선형으로 편광된 광을 원형으로 편광된 광으로 변환시키거나 원형으로 편광된 광을 선형으로 편광된 광으로 변화시키도록 구성된 1/4 파장 플레이트일 수 있다. 일부의 실시예에서, 1/4 파장 플레이트는 타원형 편광을 생성하도록 구현될 수 있다. 일부의 실시예에서, 이들 셀(119-a)은 광-정렬된(photo-aligned) 파장 플레이트일 수 있다. 일부의 실시예에서, 광 편광 요소(118) 및 특히 파장 플레이트는, 예를 들면, 석영, 액정, 가교결합 가능한(cross linkable) 액정, 플라스틱 또는 운모와 같은 복굴절 재료로 구성될 수 있다. 일부의 실시예에서, 이 복굴절은 재료를 통과하는 광의 배향과 상이한 굴절률을 가질 수 있다.

광 편광 그리드(118)의 셀(119-a)이 1/4 파장 플레이트이라면, 셀(예를 들면, 셀(119-1, 119-3) 등)의 제 1 그룹의 광축은 우선 원형 편광을 획득하기 위해 입력 편광에 대해 +45 도로 정렬될 수 있다. 셀(예를 들면, 셀(119-2, 119-4) 등)의 제 2 그룹의 광축은 출력 편광이 좌선 원형 편광이 될 수 있도록 입력 편광에 대해 -45 도로 배향될 수 있다. 우선 및 좌선의 원형 편광된 광은 서로에 대해 실질적으로 간섭하지 않으며, 그 결과 무아레 패턴이 생성되지 않거나 점(121)에서 감소된다.

일부의 실시예에서, 광 편광 그리드(118)는 가교결합 가능한 액정을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 제 1 그룹의 셀(예를 들면, 셀(119-1, 119-3) 등)은 제 1 결합가능한 액정 재료를 포함할 수 있는 반면, 제 2 그룹의 셀(예를 들면, 셀(119-2, 119-4) 등)은 제 2 결합가능한 액정 재료를 포함하고, 여기서 제 1 재료와 제 2 재료는 상이하다. 일부의 실시예에서, 셀(119-a)은 동일한 유형의 결합가능한 액정 재료를 포함할 수 있으나 그 광축은 상이한 배향을 가질 수 있다. 특히, 셀(119-1, 119-3 등)은 그 광축의 제 1 배향을 가질 수 있는 반면, 셀(119-2, 119-4 등)은 그 광축의 제 2 배향을 가질 수 있고, 여기서 제 1 배향과 제 2 배향은 상이하다.

파장 플레이트의 거동은 시스템 구현형태, 예를 들면, 결정의 두께, 광 빔의 입사각, 광의 파장, 광축의 배향 및 굴절률의 변화에 따라 달라질 수 있다. 이들 파라미터 사이의 관계의 적절한 선택에 의해, 광파의 2개의 편광 성분(수평 및 수직 편광 성분) 사이의 제어된 위상 이동(phase shift)을 도입함으로써 그 편광을 변경하는 것이 가능하다.

도 2는 광학 시스템(200)의 일 실시예를 도시하는 블록도이다. 이 광학 시스템(200)은 설명의 편리함 및 명료함을 위해 도 1의 숫자 부호를 참조하고 사용하여 설명된다. 그러나, 이 실시예는 이 문맥에 제한되지 않는다.

본 시스템(200)은 광원(103) 및 스캐닝 미러 시스템(106)을 포함하는 시스템(100)에 도시된 바와 같은 다수의 유사한 및/또는 동일한 컴포넌트를 포함할 수 있다. 그러나, 본 시스템(200)은 마이크로-초점 요소의 어레이(217)를 포함하는 확산기(211)를 포함한다. 일반적으로, 마이크로-초점 요소(217)는 마이크로-초점 요소(117)와 유사할 수 있고, 뚜렷한 차이는 도시된 바와 같이 마이크로-초점 요소(217)는 오목한 형상인 것이다. 확산기(211)는 광 빔(105)으로부터의 파가 확산기(211)를 통해 투과되고, 편광 그리드(118)에 의해 그 편광이 변조될 수 있으므로 이 편광 그리드(118)의 인접한 셀(119-a)을 통해 투과되는 광파가 서로 실질적으로 간섭하지 않을 수 있다는 점에서 확산기(111)와 유사하게 동작할 수 있다.

도 3은 광학 시스템(300)의 일 실시예의 블록도이다. 이 광학 시스템(300)은 설명의 편리함 및 명료함을 위해 도 1의 숫자 부호를 참조하고 사용하여 설명된다. 그러나, 이 실시예는 이 문맥에 제한되지 않는다.

본 시스템(300)은 광원(103) 및 스캐닝 미러 시스템(106)을 포함하는 시스템(100)에 도시된 바와 같은 다수의 유사한 및/또는 동일한 컴포넌트를 포함할 수 있다. 그러나, 본 시스템(300)은 (도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 광 빔(105)을 투과시키는 것과 대조적으로) 광 빔(105)을 반사시킴으로써 동작하는 확산기(311)를 포함한다. 이 확산기(311)는 패턴화된 반사면(323) 상에 배치된 마이크로-초점 요소의 어레이(117)를 포함할 수 있다. 특히, 이 마이크로-초점 요소의 어레이(117)는 스캐닝 미러 시스템(106)과 대면하는 패턴화된 반사면 상에 배치된 것으로 도시되어 있다. 이와 같이, 광원(103)에 의해 방출되고, 미러(107)에 의해 반사되는 광 빔은 마이크로-초점 요소의 어레이(217)를 통과하여 표면(323)에 의해 반사된다.

일부의 실시예에서, 패턴화된 반사면(323)의 표면적은 마이크로-초점 렌즈의 어레이(117)의 정면의 표면적과 실질적으로 동일할 수 있다. 이 확산기(311)는 또한 예를 들면, 패턴화된 반사면(323)과 후면 반사면(325) 사이에 배치된 1/4 파장 플레이트와 같은 편광 그리드(318)를 포함할 수 있다. 도시된 바와 같이, 패턴화된 반사면(323)은 반사면(323)이 마이크로-초점 요소의 어레이(117)의 교번 렌즈들 사이에 배치되도록 패턴화되어 있다. 이 반사면(323)은 표면(318) 상에 패턴화될 수 있는 위에서 논의된 셀(119-a)과 유사한 셀 또는 부분을 가질 수 있다.

동작 중에, 광 빔(105)이 마이크로-초점 렌즈의 어레이(117) 상에 입사되는 경우, 이것은 어레이를 통해 투과된다. 반사면(323) 상에 배치된 렌즈의 경우, 광 빔(105)은 마이크로-초점 렌즈로 재반사되고, 이것은 동일한 입력 편광으로 확산되어 확산된 광 빔을 형성한다. 특히, 광 빔(105)의 광파(105-2)는 반사면(323) 상에 입사되고, 실질적으로 동일한 편광으로 재반사된다. 반대로, 광 빔(105)이 반사면(323) 상에 입사되지 않으면, 이 광 빔(105)은 광 편광 그리드(318)를 통과하여 표면(325)에 의해 반사된다. 특히, 광 빔(105)이 편광 그리드(318)를 처음으로 통과함에 따라, 편광은 선형 편광으로부터 원형 편광으로 변화된다. 다음에 이 빔은 미러(325)에 의해 반사되고, 편광 핸디드니스는 우선 원형 편광으로부터 좌선 원형 편광으로 변화된다. 다음에 이 빔은 다시 편광 그리드(319)를 통과하고, 편광은 원형 편광으로부터 선형 편광으로 변화된다. 그러나, 핸디드니스가 미러(325)에 의해 변화됨에 따라 광 빔의 편광은 최초의 편광에 직각이다. 예를 들면, 광 빔(105-1)의 편광은 편광 그리드(318) 및 미러(325)의 작동에 의해 최초의 편광으로부터 직각으로 변화된다.

따라서, 확산된 광파(105-1, 105-2)는 서로 실질적으로 간섭하지 않을 수 있고, 파가 점(121)에서 만나는 경우에 무아레 패턴을 감소시킬 수 있다.

도 4는 광학 시스템(400)의 일 실시예를 도시하는 블록도이다. 이 광학 시스템(400)은 설명의 편리함 및 명료함을 위해 도 1 내지 도 3의 숫자 부호를 참조하고 사용하여 설명된다. 그러나, 이 실시예는 이 문맥에 제한되지 않는다.

본 시스템(400)은 광원(103) 및 스캐닝 미러 시스템(106)을 포함하는 시스템(300)에 도시된 바와 같은 다수의 유사한 및/또는 동일한 컴포넌트를 포함할 수 있다. 그러나, 본 시스템(400)은 마이크로-초점 요소의 어레이(217)를 포함하는 확산기(411)를 포함한다. 일반적으로, 마이크로-초점 요소(217)는 마이크로-초점 요소(117)와 유사할 수 있고, 뚜렷한 차이는 도시된 바와 같이 마이크로-초점 요소(217)는 오목한 형상인 것이다. 확산기(411)는 광 빔(105)으로부터의 파가 확산기(411)에 의해 반사되고, 그 편광이 편광 그리드(318)에 의해 변조될 수 있으므로 확산기에 의해 반사된 광파(예를 들면, 확산된 광파(105-1, 105-2), 확산된 광 빔 등)이 서로 실질적으로 간섭하지 않을 수 있다는 점에서 확산기(311)와 유사하게 동작할 수 있다.

도 5는 광학 시스템(500)의 일 실시예의 블록도이다. 이 광학 시스템(500)은 설명의 편리함 및 명료함을 위해 도 1의 숫자 부호를 참조하고 사용하여 설명된다. 그러나, 이 실시예는 이 문맥에 제한되지 않는다.

본 시스템(500)은 광원(103) 및 스캐닝 미러 시스템(106)을 포함하는 시스템(100)에 도시된 바와 같은 다수의 유사한 및/또는 동일한 컴포넌트를 포함할 수 있다. 그러나, 본 시스템(500)은 (도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 광 빔(105)을 투과시키는 것과 대조적으로) 광 빔(105)을 반사시킴으로써 동작하는 확산기(511)를 포함한다. 확산기(511)는 기재(115) 상에 배치된 마이크로-미러의 어레이(527)를 포함할 수 있다. 특히, 이 마이크로-미러의 어레이(527)는 스캐닝 미러 시스템(106)과 대면하는 기재(115) 상에 배치된 것으로 도시되어 있다.

일부의 실시예에서, 마이크로-미러(527)는 볼록한 형상을 가질 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-미러(527)는 구리, 니켈, 알루미늄, 금, 강, 또는 상기의 임의의 조합과 같은 금속을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-미러(527)는 실리콘, 유리, 폴리머, 포토레지스트, PMMA, 폴리카보네이트, 석영, 사파이어, PET, 또는 상기의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-미러(527)는 알루미늄, 은, 니켈, 금, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 반사 코팅을 가질 수 있다.

확산기(511)는 마이크로-미러(527)와 스캐닝 미러 시스템(106) 사이에 배치된 편광 그리드(518)를 추가로 포함한다. 편광 그리드(518)는 셀(519-a)을 포함할 수 있다. 특히, 요소(518)는 제 1 그룹의 셀(520-1)(예를 들면, 셀(519-1) 등을 포함함) 및 제 2 그룹의 셀(520-2)(예를 들면, 셀(519-2) 등을 포함함)을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 제 1 그룹(520-1)의 셀(519-a)은 1/4 파장 플레이트를 포함할 수 있고, 제 2 그룹(520-2)의 셀(519-a)은 통과된 광의 편광을 실질적으로 변화시키지 않도록 구성된 투명한 재료를 포함할 수 있다. 도시된 바와 같이, 제 1 셀 그룹(520-1) 및 제 2 셀 그룹(520-2)은 광 편광 그리드(518) 내에 교대로 배치될 수 있다.

동작 중에, 선형 편광을 갖는 광 빔(105)이 그룹의 셀(520-1)(예를 들면, 편광 그리드(518)의 1/4 파장 플레이트 부분, 셀(519-1) 등) 상에 입사되는 경우, 입력 편광은 우선 원형 편광으로 변환된다. 다음에 광은 마이크로-미러(527) 상에서 반사되고, 제 1 그룹(520-1) 내의 셀 내로 좌선 원형 편광으로 재확산된다. 따라서, 확산된 광 빔(105)(예를 들면, 광파(105-1) 등)은 입력 편광에 비해 약 90도만큼 회전되는 선형 편광을 갖는다.

입력 광 빔(105)이, 예를 들면, 제 2 그룹(520-2)의 셀(519-a) 상에 입사되는 경우, 이것은 편광 방향을 실질적으로 변화시키지 않고 투과된다. 이것은 마이크로-미러(527)에 의해 확산되어 입력 빔(105)과 동일한 편광을 갖는 확산된 빔을 형성한다. 그러나, 이 확산된 빔은 인접한 셀(예를 들면, 셀(519-1) 등)을 통해 투과되는 빔에 수직인 편광을 갖는다. 따라서, 확산된 빔(105-1, 105-2)은 간섭을 일으키지 않을 수 있고, 점(121)에서 무아레 패턴을 생성하지 않거나 감소시킬 수 있다.

도 6는 광학 시스템(600)의 일 실시예를 도시하는 블록도이다. 이 광학 시스템(600)은 설명의 편리함 및 명료함을 위해 도 1 및 도 5의 숫자 부호를 참조하고 사용하여 설명된다. 그러나, 이 실시예는 이 문맥에 제한되지 않는다.

본 시스템(600)은 광원(103) 및 스캐닝 미러 시스템(106)을 포함하는 시스템(500)에 도시된 바와 같은 다수의 유사한 및/또는 동일한 컴포넌트를 포함할 수 있다. 그러나, 본 시스템(600)은 마이크로-미러의 어레이(627)를 포함하는 확산기(611)를 포함한다. 일반적으로, 마이크로-미러(627)는 마이크로-미러 요소(527)와 유사할 수 있고, 뚜렷한 차이는 도시된 바와 같이 마이크로-미러(527)는 오목한 형상인 것이다. 확산기(611)는 광 빔(105)으로부터의 파가 확산기(611)에 의해 반사되고, 그 편광이 편광 그리드(519)에 의해 변조될 수 있으므로 확산기에 의해 반사된 광파(예를 들면, 확산된 광파(105-1, 105-2), 확산된 광 빔 등)이 서로 실질적으로 간섭하지 않을 수 있다는 점에서 확산기(511)와 유사하게 동작할 수 있다.

도 7 내지 도 10은 전술한 다양한 확산기에서 구현될 수 있는 예시적인 광 편광 그리드를 예시하는 블록도이다. 특히, 이들 광 편광 그리드는, 예를 들면, 요소(118, 318, 또는 518)와 같은 전술한 광 편광 그리드 중 임의의 하나로서 구현될 수 있다. 더욱이, 광 편광 그리드는 전술한 임의의 확산기(예를 들면, 확산기(111, 211, 311, 411, 511, 및/또는 611 등)에 구현될 수 있다. 도 1 내지 도 6에 도시된 편광 그리드 및 확산기는 측면도로 도시되는 반면, 도 7 내지 도 10에 도시된 요소는 정면도로 도시되어 있다. 일반적으로, 이들 도면과 관련하여 설명된 요소는 전술한 셀(119-a, 519-a)을 참조하여 설명된다. 그러나, 이들 도면은, 예를 들면, 패턴화된 미러(323)를 갖는 요소(318)를 제공하도록 구현될 수 있다. 그러나, 실시예는 이러한 맥락에 제한되지 않는다.

더 구체적으로 도 7을 참조하면, 광 편광 그리드(718)가 도시되어 있다. 이 요소(718)는 셀 그룹(720-1, 720-2)으로 그룹화된 셀(719-a)을 포함할 수 있다. 제 1 그룹의 셀(720-1)(예를 들면, 셀(719-1, 719-3, 719-5, 719-7 등을 포함함)은 순방향 해싱으로 식별되는 반면, 제 2 그룹의 셀(720-2)(예를 들면, 셀(719-2, 719-4, 719-6 등)은 순방향 해싱을 갖지 않는다. 일부의 실시예에서, 개개의 셀(719-a)은 육각형 형상을 가질 수 있다. 또한, 셀 어레이의 전체 형상은 육각형일 수 있다. 도시된 육각형 형상 대신에 개개의 셀(719-a)의 형상은 이 셀 어레이가 배치되는 인접한 미러 및/또는 렌즈의 형상으로 구현될 수 있음에 주목해야 한다.

일부의 실시예에서, 마이크로-초점 렌즈의 어레이(예를 들면, 어레이(117 및/또는 217))의 개개의 마이크로-초점 렌즈 또는 마이크로-미러의 어레이(예를 들면, 어레이(527 및/또는627))의 개개의 마이크로-미러는 개개의 셀(719-a)과 실질적으로 유사한 정면의 형상 및/또는 크기를 가질 수 있다.

동작 중에, 스캐닝 미러 시스템(106)의 미러(107)가 다수의 축을 중심으로 회전함에 따라, 광 빔(105)은 광 빔(105)을 확산시키도록 확산기의 가로질러 스캐닝되어 확산된 광파(105-1, 105-2 등)를 포함하는 확산된 광파를 생성한다. 일부의 실시예에서, 광 빔(105)은 화살표(729)에 의해 표시된 패턴으로 확산기를 가로질러 스캐닝될 수 있다. 특히, 광 빔(105)은 교번 패턴으로 셀(720-1, 720-2) 상에스캐닝될 수 있다. 더 구체적으로, 광 빔(105)은 제 1 그룹(720-1)으로부터의 셀 상에, 다음에 제 2 그룹(720-2)으로부터의 셀 상에, 다음에 다시 제 1 그룹(719-1)으로부터의 셀에 의해 스캐닝될 수 있다. 일부의 실시예에서, 제 1 그룹의 셀(720-1) 및 제 2 그룹의 셀(720-2)로부터의 셀은 이와 같은 스캐닝 프로세스를 용이화하도록 확산기 내에 배치 및/또는 배열될 수 있다.

일부의 실시예에서, 확산기는 동작 중에 고정될 수 있고, 스캐닝 미러 시스템(106)은 확산기를 가로질러 광 빔(105)을 스캐닝하도록 구현된다. 일부의 실시예에서, 광 빔(105)은 풋프린트(footprint)(또는 스폿 사이즈(spot size))(731)를 가질 수 있고, 이것은 셀(719-a)의 치수를 최대화하기 위해 실질적으로 유사한 직경을 갖는다. 일부의 실시예에서, 광 빔(105)은 스폿 사이즈(731)가 최대 광 강도의 약 1/2에 대응할 수 있는 가우스 광 강도 분포를 가질 수 있다. 일부의 실시예에서, 최대 광 강도는 스폿 사이즈(731)의 중심에서 획득 및/또는 측정될 수 있다. 가우스 강도 분포로 인해, 특정의 셀(719-a)로 향하는 광 빔(105)의 일부는 인접하는 셀(719-a)의 적어도 일부 및 이에 따라 또한 이 셀의 후측에 위치되는 마이크로-초점 요소를 조명한다. 그러나, 디프저를 구비하는 종래의 광학 시스템에서 무아레 패턴의 원인이 되는 이러한 기구의 부정적인 영향은 인접한 셀로부터 확산된 광 빔이 서로 실질적으로 간섭하지 않는 본 개시의 실시예에 의해 제거될 수 있다.

더 구체적으로 도 8을 참조하면, 광 편광 그리드(818)가 도시되어 있다. 이 요소(818)는 셀 그룹(820-1, 820-2)으로 그룹화된 개개의 셀(819-a)을 포함할 수 있다. 제 1 그룹의 셀(820-1)(예를 들면, 셀(819-1 ,819-2 등))은 순방향 해싱으로 식별되는 반면, 제 2 그룹의 셀(820-2)(예를 들면, 셀(819-3, 819-4 등))은 순방향 해싱을 갖지 않는다. 일부의 실시예에서, 개개의 셀(819-a)은 삼각형 형상을 가질 수 있다. 이 요소(818)에서, 다수의 셀(819-a)은 마이크로-초점 렌즈의 어레이(예를 들면, 어레이(117 및/또는 217))의 각각의 개개의 마이크로-초점 렌즈 또는 마이크로-미러의 어레이(예를 들면, 어레이(527 및/또는 627))의 개개의 마이크로-미러에 결합(예를 들면, 이들 상측이나 이들 근처에 배치)될 수 있다. 예를 들면, 이 도면에서, 점선은 개개의 셀(819-a)의 주위의 경계를 나타낼 수 있는 반면, 실선은 개개의 렌즈 또는 미러와 결합된 다수의 셀(819-a)의 주위의 경계를 나타낼 수 있다. 따라서, 본 실시예에서, 각각의 렌즈 또는 미러는 6개의 셀(819-a)과 결합될 수 있다. 그러나, 이 문맥에서의 실시예는 제한되지 않으며, 렌즈 또는 미러는 적어도 하나인 경우에 임의의 수의 셀(819-a)과 결합될 수 있다.

더 구체적으로 도 9을 참조하면, 광 편광 그리드(918)가 도시되어 있다. 이 요소(918)는 셀 그룹(920-1, 920-2)으로 그룹화된 셀(919-a)을 포함할 수 있다. 제 1 그룹의 셀(920-1)(예를 들면, 셀(919-2, 919-4, 919-6, 919-8 등을 포함함)은 순방향 해싱으로 식별되는 반면, 제 2 그룹 의 셀(920-2)(예를 들면, 셀(919-1, 919-3, 919-5, 919-7, 919-9 등))은 순방향 해싱을 갖지 않는다. 일부의 실시예에서, 개개의 셀(919-a)은 정사각형 형상을 가질 수 있다. 또한, 셀 어레이의 전체 형상은 정사각형일 수 있다. 일부의 실시예에서, 마이크로-초점 렌즈의 어레이(예를 들면, 어레이(117 및/또는 217))의 개개의 마이크로-초점 렌즈 또는 마이크로-미러의 어레이(예를 들면, 어레이(527 및/또는 627))의 개개의 마이크로-미러는 개개의 셀(919-a)과 실질적으로 유사한 정면의 형상 및/또는 크기를 가질 수 있다.

더 구체적으로 도 10을 참조하면, 광 편광 그리드(1018)가 도시되어 있다. 이 요소(1018)는 셀 그룹(1020-1, 1020-2)으로 그룹화된 개개의 셀(1019-a)을 포함할 수 있다. 제 1 그룹의 셀(1020-1)(예를 들면, 셀(1019-1 ,1019-3 등))은 순방향 해싱으로 식별되는 반면, 제 2 그룹의 셀(1020-2)(예를 들면, 셀(1020-2, 1020-4 등))은 순방향 해싱을 갖지 않는다. 일부의 실시예에서, 개개의 셀(1020-a)은 삼각형 형상을 가질 수 있다. 이 요소(1018)에서, 다수의 셀(1019-a)은 마이크로-초점 렌즈의 어레이(예를 들면, 어레이(117 및/또는 217))의 각각의 개개의 마이크로-초점 렌즈 또는 마이크로-미러의 어레이(예를 들면, 어레이(527 및/또는 627))의 개개의 마이크로-미러에 결합(예를 들면, 이들 상측이나 이들 근처에 배치)될 수 있다. 예를 들면, 이 도면에서, 점선은 개개의 셀(1019-a)의 주위의 경계를 나타낼 수 있는 반면, 실선은 개개의 렌즈 또는 미러와 결합된 다수의 셀(1019-a)의 주위의 경계를 나타낼 수 있다. 따라서, 본 실시예에서, 각각의 렌즈 또는 미러는 4개의 셀(1019-a)과 결합될 수 있다. 그러나, 이 문맥에서의 실시예는 제한되지 않으며, 렌즈 또는 미러는 적어도 하나인 경우에 임의의 수의 셀(1019-a)과 결합될 수 있다.

일부의 실시예에서, 확산기(예를 들면, 셀(119-a, 319-a), 미러 부분(323), 셀(519-a, 719-a, 819-a, 919-a 및/또는 1019-a))의 셀의 정면의 형상은 여기에 도시되지 않은 다른 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 이 형상은 원형, 팔각형, 타원형 등일 수 있다.

더욱이, 일부의 실시예에서, 확산기(예를 들면, 확산기(118, 218, 318, 418, 518, 618))는 직선 측면 프로파일(예를 들면, 도 1 내지 도 6을 참조할 것)을 갖는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 일부의 실시예에서, 확산기는, 예를 들면, 실질적으로 구형, 반구형, 또는 포물선형 프로파일과 같은 만곡된 프로파일로 구형될 수 있다. 일부의 실시예에서, 확산기의 프로파일은 셀(예를 들면, 셀(119-a, 323-a, 519-a 등)이 스캐닝 미러 시스템(106)으로부터 실질적으로 동일한 거리 내에 있도록 제공될 수 있다.

도 11은 본 개시의 실시예에 따른 광 빔을 확산시키기 위한 논리 흐름(1100)을 도시한다. 이 논리 흐름(1100)은 블록(1110)의 "광 빔을 수광하는 단계"에서 개시될 수 있다. 블록(1110)에서, 스캐닝 미러 시스템(106)은 광 빔을 수광할 수 있다. 예를 들면, 본 시스템(106)은 광원(103)으로부터 광 빔(105)을 수광할 수 있다. 일부의 실시예에서, 광 빔(105)은 코히런트 광 빔 및/또는 선형으로 편광된 광 빔일 수 있다.

계속해서 블록(1120)의 확산기를 가로질러 광 빔을 스캐닝하는 단계로 이어진다. 블록(1120)에서, 스캐닝 미러 시스템(106)은, 예를 들면, 확산기(111, 211, 311, 411, 511, 611 등)과 같은 확산기를 가로질러 광 빔(105)을 스캐닝하도록 작동된다. 특히, 이 시스템(106)의 미러(107)는 확산기의 상이한 부분에 광 빔의 파를 반사시키기 위해 다수의 축을 중심으로 회전될 수 있다. 예를 들면, 이 시스템(106)은 광 빔의 제 1 파(들)을 확산기의 광 편광 그리드의 제 1 셀에, 그리고 광 빔의 제 2 파(들)을 확산기의 광 편광 그리드의 제 2 셀에 반사할 수 있다.

계속해서 블록(1130)의 "광 빔의 부분들 사이의 편광 차이를 발생시키는 단계"로 이어진다. 블록(1130)에서, 편광 그리드(예를 들면, 118, 318, 518 등)는 광 빔(105)의 부분(예를 들면, 파 등)들 사이의 편광의 차이를 발생시키기 위해 광 빔(105)의 적어도 하나의 파의 편광을 변화시킬 수 있다. 예를 들면, 요소(118)은 파(105-1)와 파(105-2)가 편광의 차이를 갖도록 파(105-1)의 편광을 변화시킨다.

계속해서 블록(1140)의 "광 빔을 확산시키는 단계"로 이어진다. 블록(1140)에서, 확산기(예를 들면, 확산기(111, 211, 311, 411, 511, 611 등))는 광 빔의 적어도 2개의 파가 뷰포인트(viewpoint)에서 만나게 하기 위해 상이하게 편광된 부분들을 포함하는 광 빔을 확산시킬 수 있다. 일부의 실시예에서, 뷰포인트에서 만나도록 확산된 파는 파들 사이의 간섭을 감소시키기 위해 실질적으로 직교하는 편광을 갖는다. 예를 들면, 광파(105-1, 105-2)는 점(121)에서 만나도록 확산된다. 그러나, 파(105-1, 105-2)는 직교 편광을 가지므로, 이들 파는 점(121)에서 실질적으로 간섭되지 않아 광 빔(105)으로 투사되는 이미지 내에서 무아레 패턴을 감소시킬 수 있다.

도 12는 본 개시의 실시예에 따라 배치된 확산기를 제조하기 위한 논리 흐름(1200)을 도시하고, 도 13은 제조 공정의 일부 동안 확산기(1311)를 도시한다. 이 논리 흐름(1200)은 확산기(1311)와 관련하여 설명된다. 특히, 도 12 및 도 13은 함께 설명된다. 그러나, 이 논리 흐름(1200)은, 예를 들면, 확산기(111, 211, 311, 411, 511, 및/또는 611)와 같은 본 개시에 따른 임의의 다양한 확산기를 제조하기 위해 구현될 수 있다. 그러나, 실시예는 이러한 맥락에 제한되지 않는다.

이 논리 흐름(1200)은 블록(1210)에서 개시될 수 있다. 블록(1210)의 "기재 및 정렬 층을 제공하는 단계"에서, 기재(113) 및 정렬 층(133)이 제공될 수 있다. 일부의 실시예에서, 이 정렬 층(133)은 기재(113) 상에 증착될 수 있다. 일부의 실시예에서, 이 정렬 층(133)은 폴리머 기재의 재료를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 이 정렬 층(133)은, 예를 들면, 열을 사용하여 경화될 수 있다.

계속하여 블록(1220)의 "기재 상에 광 편광 변화 층을 형성하는 단계"에서, 광 편광 그리드 층(예를 들면, 그리드(118))이 기재(113) 상에 형성될 수 있다. 예를 들면, 이 정렬 층(133) 내에 광축이 형성될 수 있다. 특히, 정렬 층(133)은 마스킹될 수 있고, 광축을 형성하기 위해 이 층에 자외선(UV)이 가해진다. 이어서, 이 정렬 층(133) 상에 광 편광 재료가 증착되거나 적층될 수 있다. 예를 들면, 이 층(133) 상에 액정 폴리머가 증착될 수 있다. 폴리머의 성질로 인해, 이것의 광축은 층(133)에 형성된 광축과 정렬된다. 광 편광 재료는, 예를 들면, 자외선을 가함으로써 경화될 수 있다. 일부의 실시예에서, 광 편광 재료는 자외선을 가함으로써 가교결합될 수 있다. 이와 같이, 요소(118)의 셀(119-1, 119-2 등)이 형성될 수 있다.

계속하여 블록(1230)의 상기 광 편광 층 상에 마이크로-초점 요소 재료를 증착시키는 단계에서, 요소(118)의 재료 상에 마이크로-초점 요소 재료가 증착된다.

계속하여 블록(1240)의 "마스터 기재를 제공하는 단계"에서, 마스터 기재(135)가 제공된다. 이 마스터 기재(135)는 마이크로-초점 요소를 형성하기 위한 주형 또는 패턴일 수 있다. 마스터 기재는 구리, 니켈, 유리, 폴리머 등을 포함할 수 있다.

계속하여 블록(1250)의 "마이크로-초점 요소를 형성하는 단계"에서, 마이크로-초점 요소(117)가 형성될 수 있다. 예를 들면, 이 마이크로-초점 요소(117)는 압력의 적용, 고온 엠보싱(hot embossing) 공정 등을 통해 형성될 수 있다. 또한, 마이크로-초점 요소(117)는, 예를 들면, 자외선을 가함으로써 경화될 수 있다. 일부의 실시예에서, (예를 들면, 반사 요소 또는 미러 요소 등을 형성하기 위해) 요소(117) 상에 반사면이 증착될 수 있다. 예를 들면, 이 반사면은 알루미늄, 은, 금 표면, 보호용 부식 방지 물질, 또는 이들 중 일부의 조합을 포함할 수 있다. 이러한 보호용 부식 방지 물질은 실리콘 이산화물, 실리콘 질화물, 타이타늄 산화물, 또는 탄탈륨 오산화물 코팅, 또는 이들 중 일부의 조합을 포함할 수 있다.

도 14는 저장 매체(2000)의 일 실시형태를 도시한다. 이 저장 매체(2000)는 제조품을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에서, 저장 매체(2000)는 광학, 자기 또는 반도체 저장장치와 같은 임의의 비-일시적 컴퓨터 가독 매체 또는 기계 가독 매체를 포함할 수 있다. 저장 매체(2000)는 다양한 유형의 컴퓨터 실행가능 명령, 예를 들면, 2002를 저장할 수 있다. 예를 들면, 저장 매체(2000)는 기법(1100)을 구현하기 위한 다양한 유형의 컴퓨터 실행가능 명령을 저장할 수 있다. 다른 실시예로서, 저장 매체(2000)는 기법(1200)을 구현하기 위한 다양한 유형의 컴퓨터 실행가능 명령을 저장할 수 있다.

컴퓨터 가독 또는 기계 가독 저장 매체의 예는 휘발성 메모리 또는 비-휘발성 메모리, 제거가능 또는 제거불가능 메모리, 소거가능 또는 소거불가능 메모리, 기입가능 또는 재-기입가능 메모리 등을 포함하는 전자 데이터를 저장할 수 있는 임의의 유형(tangible) 매체를 포함할 수 있다. 컴퓨터 실행가능 명령의 예는 소스 코드, 컴파일된 코드, 해석된 코드, 실행가능 코드, 정적 코드, 동적 코드, 오브젝트 지향된 코드, 비주얼 코드 등과 같은 임의의 적절한 유형의 코드를 포함할 수 있다. 이 실시예는 이 문맥에 제한되지 않는다. 도 15는 예시적인 시스템 실시형태의 다이어그램이며, 특히 다양한 요소를 포함할 수 있는 플랫폼(3000)을 도시하고 있다. 예를 들면, 이 도면은 플랫폼(시스템)(3000)이 프로세서/그래픽스 코어(3002), 칩셋/플랫폼 제어 허브(PCH)(3004), 입력/출력(I/O) 디바이스(3006), 랜덤 액세스 메모리(RAM)(예를 들면, 동적 RAM(DRAM))(3008), 및 리드 온리 메모리(ROM)(3010), 디스플레이 전자기기(3020), 투사기(3022)(예를 들면, 확산기(111, 211, 311, 411, 511, 611 등)), 및 다양한 기타 플랫폼 컴포넌트(3014)(예를 들면, 팬, 횡류 블로어, 히트싱크, DTM 시스템, 냉각 시스템, 하우징, 통기구 등)를 포함할 수 있다는 것을 도시하고 있다. 시스템(3000)은 또한 무선 통신 칩(3016) 및 그래픽스 디바이스(3018)를 포함할 수 있다. 그러나, 본 실시형태는 이들 요소에 제한되지 않는다.

도시된 바와 같이, I/O 디바이스(3006), RAM(3008), 및 ROM(3010)은 칩셋(3004)을 통해 프로세서(3002)에 결합된다. 칩셋(3004)은 버스(3012)에 의해 프로세서(3002)에 결합될 수 있다. 따라서, 버스(3012)는 다수의 라인을 포함할 수 있다.

프로세서(3002)는 하나 이상의 프로세서 코어를 포함하는 중앙 처리 유닛일 수 있고, 임의의 수의 프로세서 코어를 갖는 임의의 수의 프로세서를 포함할 수 있다. 이 프로세서(3002)는, 예를 들면, CPU, 다중-처리 유닛, 축소 명령 세트 컴퓨터(RISC), 파이프라인을 갖는 프로세서, 복수 명령 세트 컴퓨터(CISC), 디지털 신호 프로세서(DSP) 등과 같은 임의의 유형의 처리 유닛을 포함할 수 있다. 일부의 실시형태에서, 프로세서(3002)는 별개의 집적 회로 칩 상에 설치된 다수의 별개의 프로세서일 수 있다. 일부의 실시형태에서, 프로세서(3002)는 집적 그래픽스를 갖는 프로세서일 수 있고, 한편 다른 실시형태에서, 프로세서(3002)는 그래픽스 코어 또는 코어들일 수 있다.

일부의 실시형태는 "하나의 실시형태" 또는 "일 실시형태"라는 표현 및 이들의 파생어를 사용하여 설명될 수 있다. 이들 용어는 이 실시형태와 관련하여 설명된 특정의 기구, 구조, 또는 특성이 적어도 하나의 실시형태에 포함됨을 의미한다. 본 명세서의 다양한 곳에서 나타나는 "하나의 실시형태에서"라는 문구는 반드시 동일한 실시형태를 지칭하는 것은 아니다. 또한, 일부의 실시형태는 "결합된" 및 "연결된"이라는 표현과 함께 그 파생어를 사용하여 설명될 수 있다. 이들 용어는 반드시 서로 동의어로서 사용되는 것은 아니다. 예를 들면, 일부의 실시형태는 2개 이상의 요소가 서로 직접적으로 물리적 또는 전기적으로 접촉하고 있음을 나타내기 위해 "연결된" 및/또는 "결합된"이라는 용어를 사용하여 설명될 수 있다. 그러나 "결합된"이라는 용어는 2개 이상의 요소가 서로 직접적으로 접촉하고 있지는 않지만 여전히 서로 공동작용하거나 상호작용함을 의미할 수도 있다. 또한, 상이한 실시형태로부터의 양태 또는 요소가 조합될 수 있다.

개시의 요약서는 독자가 본 기술적 개시의 성격을 신속하게 확인할 수 있도록 제공됨을 강조한다. 이것은 청구항 범위 또는 의미를 해석하거나 제한하는데 사용되지 않을 것이라는 양해 하에 제출되었다. 또한, 전술한 상세한 설명에서, 다양한 특징들이 개시내용을 간소화할 목적으로 단일의 실시형태에서 함께 그룹화되는 것을 알 수 있다. 이 개시 방법은 청구된 실시형태가 각각의 청구항에 명시적으로 열거된 것보다 많은 특징을 필요로 한다는 의도를 반영하는 것으로 해석되어서는 안된다. 오히려, 이하의 청구항이 반영하는 바와 같이, 발명의 주제는 단일의 개시된 실시형태의 모든 특징보다 적다. 따라서, 이하의 청구항은 상세한 설명 내에 포함되며, 각각의 청구항은 별개의 실시형태가 된다. 첨부된 청구항에서, "포함하다(including)" 및 "여기서(in which)"라는 용어는 각각 "포함하다(comprising)" 및 "여기서(wherein)"라는 용어와 균등한 평이한 영어로서 사용되었다. 또한, "제 1", "제 2", "제 3" 등의 용어는 단순히 레이블로서 사용되고, 해당 목적물에 수치적 요건을 부과하기 위한 것이 아니다.

위에서 설명된 것은 개시된 구조(architecture)의 실시예를 포함한다. 물론 컴포넌트 및/또는 방법론의 상상할 수 있는 모든 조합을 기술하는 것을 가능하지 않지만 본 기술분야의 당업자는 많은 추가적 조합 및 치환이 가능하다는 것을 인식할 수 있다. 따라서, 새로운 구조는 첨부된 청구항의 사상 및 범위 내에 속하는 그러한 모든 변경, 개조 및 변화를 포함하고자 하는 의도를 갖는다. 추가의 실시형태에 관련된 실시예를 제공하는 것에 대해 상세히 개시한다. 이하에 제공된 실시예는 제한하려는 의도를 갖지 않는다.

실시예 1. 광 빔을 수광하며 상기 광 빔의 일부의 편광을 변화시키는 광 편광 그리드; 및 상기 광 빔을 확산시키기 위해 광 편광 그리드에 광학적으로 결합된 마이크로-초점 요소의 어레이를 포함하는 장치.

실시예 2. 제 1 항의 장치로서, 상기 광 편광 그리드는 복수의 셀을 포함하고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 광 빔의 적어도 제 1 파의 편광을 변화시키는, 장치.

실시예 3. 제 2 항의 장치로서, 상기 복수의 셀의 제 2 그룹은 실질적으로 최초의 편광을 갖는 상기 광 빔의 적어도 제 2 파를 투과시키는, 장치.

실시예 4. 제 3 항의 장치로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 제 1 파 및 제 2 파를 확산시켜서 일 점에서 만나게 하는, 장치.

실시예 5. 제 3 항의 장치로서, 상기 제 1 파의 편광 및 상기 제 2 파의 편광은 상기 일 점에서 실질적으로 비간섭성인, 장치.

실시예 6. 제 3 항의 장치로서, 상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀의 광축의 배향은 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀의 광축의 배향과 상이한, 장치.

실시예 7. 제 3 항의 장치로서, 상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀은 적어도 제 1 재료를 포함하고, 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀은 적어도 제 2 재료를 포함하고, 상기 제 1 재료는 상기 제 2 재료와 상이한, 장치.

실시예 8. 제 3 항의 장치로서, 상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀은 실질적으로 투명한 재료를 포함하고, 셀들의 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀은 반사 재료를 포함하는, 장치.

실시예 9. 제 3 항의 장치로서, 상기 광 빔은 코히런트이며 선형으로 편광되고, 상기 광 빔의 확산된 제 1 파는 제 1 선형 편광을 갖고, 상기 광 빔의 확산된 제 2 파는 상기 제 1 선형 편광에 대해 직각인 제 2 선형 편광을 갖는, 장치.

실시예 10. 제 3 항의 장치로서, 상기 광 빔은 원형으로 또는 타원형으로 편광되고, 상기 광 빔의 확산된 제 1 파는 제 1 원형 또는 타원형 편광을 갖고, 상기 광 빔의 확산된 제 2 파는, 핸디드니스가 상기 제 1 원형 또는 타원형 편광에 대해 반대인 제 2 원형의 또는 타원형 편광을 갖는, 장치.

실시예 11. 제 3 항의 장치로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이의 각각의 요소는 상기 복수의 셀의 적어도 하나의 셀과 관련되는, 장치.

실시예 12. 제 3 항의 장치로서, 적어도 상기 제 1 그룹의 셀들 또는 상기 제 2 그룹의 셀들은 실질적으로 직사각형, 육각형, 원형 또는 삼각형의 정면 형상을 갖는, 장치.

실시예 13. 제 1 항의 장치로서, 상기 광 편광 그리드는 1/4 파장 플레이트, 1/2 파장 플레이트, 액정 재료, 광-정렬된 액정 재료, 또는 광-정렬된 가교결합 가능한 액정 재료를 포함하는, 장치.

실시예 14. 제 1 항의 장치로서, 상기 광 편광 그리드는, 광 빔의 부분의 편광이 변화된 후에 상기 광 빔을 확산시키도록 상기 마이크로-초점 요소의 어레이에 광학적으로 결합되는, 장치.

실시예 15. 제 1 항의 장치로서, 상기 마이크로-초점 요소는 적어도 하나의 마이크로-렌즈 또는 마이크로-미러를 포함하는, 장치.

실시예 16. 제 1 항의 장치로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 실질적으로 반구형인 형상을 갖는, 장치.

실시예 17. 광학 확산기; 및 광 빔을 수광하고, 상기 광학 확산기를 가로질러 상기 광 빔을 스캐닝하는 스캐닝 미러 시스템을 포함하고, 상기 광학 확산기는, 광 빔을 수광하며 상기 광 빔의 부분의 편광을 변화시키는 광 편광 그리드; 및 상기 광 빔을 확산시키기 위해 상기 광 편광 그리드에 광학적으로 결합되는 마이크로-초점 요소의 어레이를 포함하는, 시스템.

실시예 18. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 광 빔을 방출하기 위한 광원을 포함하는, 시스템.

실시예 19. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 스캐닝 미러 시스템은 상기 광학 확산기를 가로질러 상기 광 빔을 스캐닝하도록 적어도 하나의 축선을 중심으로 회전하는 미러를 포함하는, 시스템.

실시예 20. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 광 편광 그리드는 복수의 셀을 포함하고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 광 빔의 적어도 제 1 파의 편광을 변화시키는, 시스템.

실시예 21. 제 20 항의 시스템으로서, 상기 복수의 셀의 제 2 그룹은 실질적으로 최초의 편광을 갖는 상기 광 빔의 적어도 제 2 파를 투과시키는, 시스템.

실시예 22. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 제 1 파 및 제 2 파를 확산시켜서 일 점에서 만나게 하는, 시스템.

실시예 23. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 제 1 파의 편광 및 상기 제 2 파의 편광은 상기 일 점에서 실질적으로 비간섭성인, 시스템.

실시예 24. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀의 광축의 배향은 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀의 광축의 배향과 상이한, 시스템.

실시예 25. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀은 적어도 제 1 재료를 포함하고, 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀은 적어도 제 2 재료를 포함하고, 상기 제 1 재료는 상기 제 2 재료와 상이한, 시스템.

실시예 26. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀은 실질적으로 투명한 재료를 포함하고, 셀들의 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀은 반사 재료를 포함하는, 시스템.

실시예 27. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 광 빔은 코히런트이며 선형으로 편광되고, 상기 광 빔의 확산된 제 1 파는 제 1 선형 편광을 갖고, 상기 광 빔의 확산된 제 2 파는 상기 제 1 선형 편광에 대해 직각인 제 2 선형 편광을 갖는, 시스템.

실시예 28. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 광 빔은 원형으로 또는 타원형으로 편광되고, 상기 광 빔의 확산된 제 1 파는 제 1 원형 또는 타원형 편광을 갖고, 상기 광 빔의 확산된 제 2 파는, 핸디드니스가 상기 제 1 원형 또는 타원형 편광에 대해 반대인 제 2 원형 또는 타원형 편광을 갖는, 시스템.

실시예 29. 제 21 항의 시스템으로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이의 각각의 요소는 상기 복수의 셀의 적어도 하나의 셀과 관련되는, 시스템.

실시예 30. 제 21 항의 시스템으로서, 적어도 상기 제 1 그룹의 셀들 또는 상기 제 2 그룹의 셀들은 실질적으로 직사각형, 육각형, 원형 또는 삼각형의 정면 형상을 갖는, 시스템.

실시예 31. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 광 편광 그리드는 1/4 파장 플레이트, 1/2 파장 플레이트, 액정 재료, 광-정렬된 액정 재료 또는 광-정렬된 가교결합 가능한 액정 재료를 포함하는, 시스템.

실시예 32. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 광 편광 그리드는, 광 빔의 부분의 편광이 변화된 후에 상기 광 빔을 확산시키기 위해 마이크로-초점 요소의 어레이에 광학적으로 결합되는, 시스템.

실시예 33. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 마이크로-초점 요소는 적어도 하나의 마이크로-렌즈 또는 마이크로-미러를 포함하는, 시스템.

실시예 34. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 실질적으로 반구형인 형상을 갖는, 시스템.

실시예 35. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 스캐닝 미러 시스템과 상기 광 편광 그리드 사이에 배치되는, 시스템.

실시예 36. 제 17 항의 시스템으로서, 상기 광 편광 그리드는 상기 스캐닝 미러 시스템과 상기 마이크로-초점 요소의 어레이 사이에 배치되는, 시스템.

실시예 37. 광원으로부터 광 빔을 수광하는 단계; 상기 광 빔의 제 1 부분의 편광을 변화시키는 단계; 및 상기 광 빔의 제 1 부분 및 상기 광 빔의 제 2 부분을 뷰포인트로 전송하기 위해 상기 광 빔을 확산시키는 단계를 포함하는 방법.

실시예 38. 제 37 항의 방법으로서, 상기 광 빔의 제 1 부분 및 상기 광 빔의 제 2 부분은 상기 뷰포인트에서 상이한 편광을 갖는, 방법.

실시예 39. 제 38 항의 방법으로서, 상기 광 빔의 제 1 부분의 편광은 상기 광 빔의 제 2 부분의 편광에 직교하는, 방법.

실시예 40. 제 38 항의 방법으로서, 상기 광 빔의 제 1 부분의 편광은 상기 광 빔의 제 2 부분의 편광에 대해 반대의 핸디드니스를 갖는, 방법.

실시예 41. 제 38 항의 방법으로서, 상기 광 빔을 확산시키기 전에 상기 광 빔의 부분의 편광을 변화시키는 단계를 포함하는, 방법.

실시예 42. 기재 상에 광 편광 그리드를 증착시키는 단계로서, 상기 광 편광 그리드는 제 1 광 편광 영역 및 제 2 광 편광 영역을 포함하고, 상기 제 2 광 편광 영역은 제 1 광 편광 영역에 입사되는 광의 제 1 파와 제 2 광 편광 영역에 입사되는 광의 제 2 파 사이에 편광의 차이를 발생시키도록 구성되는, 광 편광 그리드 증착 단계; 상기 광 편광 요소 상에 투명한 기재를 증착시키는 단계; 및 성형된 마스크로 상기 투명한 기재를 패턴화하는 단계를 포함하는 방법.

실시예 43. 제 42 항의 방법으로서, 상기 투명한 기재를 경화시키는 단계를 포함하는, 방법.

실시예 44. 제 43 항의 방법으로서, 상기 투명한 기재를 패턴화하는 단계는 마이크로-패턴화된 표면을 생성하기 위해 압력을 가하거나, 스탬핑(stamping)하거나, 또는 고온 엠보싱하는 단계를 포함하는, 방법.

실시예 45. 제 44 항의 방법으로서, 상기 투명한 기재를 경화시키는 단계는 마이크로-패턴화된 표면을 경화시키는, 방법.

실시예 46. 제 45 항의 방법으로서, 상기 마스크는 롤러 상에 있고, 상기 투명한 기재를 패턴화하는 단계는, 회전 축선을 중심으로 상기 롤러를 회전시키는 단계; 상기 롤러에 대해 상기 기재를 가압하는 단계; 및 상기 기재의 다양한 영역이 패턴화될 수 있도록 상기 기재를 이동시키는 단계를 포함하는, 방법.

실시예 47. 프로세서에 의해 실행될 때, 상기 프로세서가 제 37 항 내지 제 46 항 중 어느 한 항의 방법을 구현하도록 하는 명령을 포함하는, 적어도 하나의 비-일시적 컴퓨터-가독 저장 매체.

실시예 48. 제 37 항 내지 제 46 항 중 어느 한 항의 방법을 수행하기 위한 수단을 포함하는, 장치.

실시예 49. 광 빔의 복수의 파를 수광하는 광 편광 그리드로서, 상기 복수의 파의 각각은 최초의 편광을 갖고, 상기 광 편광 그리드는 복수의 셀을 포함하고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 복수의 파의 적어도 제 1 파의 상기 최초의 편광을 변화시키고, 상기 복수의 셀의 제 2 그룹은 상기 최초의 편광을 갖는 상기 복수의 파의 적어도 제 2 파를 투과시키는, 상기 광 편광 그리드; 및 상기 광 빔을 확산시키기 위해 상기 광 편광 그리드에 광학적으로 결합되는 마이크로-초점 요소의 어레이를 포함하는, 시스템.

실시예 50. 제 49 항의 시스템으로서, 상기 광 빔을 수광하고 상기 광 편광 그리드를 가로질러 상기 광 빔을 스캐닝하는 스캐닝 미러 시스템을 포함하는, 시스템.

실시예 51. 제 50 항의 시스템으로서, 상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 복수의 파의 제 1 파 및 제 2 파를 확산시켜서 일 점에서 만나게 하고, 상기 제 1 파의 편광 및 상기 제 2 파의 편광은 상기 일 점에서 실질적으로 비간섭성인, 시스템.

실시예 52. 제 51 항의 시스템으로서, 상기 최초의 편광은 직선형이고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 복수의 파의 적어도 제 1 파의 상기 최초의 편광을 상기 최초의 편광에 대해 직각이 되도록 변화시키는, 시스템.

실시예 53. 제 51 항의 시스템으로서, 상기 최초의 편광은 원형이고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 복수의 파의 적어도 제 1 파의 상기 편광의 핸디드니스를 변화시키는, 시스템.

Claims

광 빔을 수광하고 상기 광 빔의 일부의 편광을 변화시키는 광 편광 그리드(light polarization grid); 및
상기 광 빔을 확산시키기 위해 상기 광 편광 그리드에 광학적으로 결합되는 마이크로-초점 요소의 어레이(array of micro-focal elements)를 포함하는
장치.
제 1 항에 있어서,
상기 광 편광 그리드는 복수의 셀을 포함하고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 광 빔의 적어도 제 1 파의 편광을 변화시키는
장치.
제 2 항에 있어서,
상기 복수의 셀의 제 2 그룹은 실질적으로 최초의 편광을 갖는 상기 광 빔의 적어도 제 2 파를 투과시키는
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 제 1 파 및 제 2 파를 확산시켜서 일 점(point)에서 만나게 하는
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 제 1 파의 편광 및 상기 제 2 파의 편광은 상기 일 점에서 실질적으로 비간섭성인
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀의 광축의 배향(orientation)은 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀의 광축의 배향과 상이한
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀은 적어도 제 1 재료를 포함하고, 상기 제 2 그룹 내의 복수의 셀은 적어도 제 2 재료를 포함하고, 상기 제 1 재료는 상기 제 2 재료와 상이한
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 제 1 그룹 내의 복수의 셀은 실질적으로 투명한 재료를 포함하고, 상기 셀의 제 2 그룹 내의 복수의 셀은 반사 재료를 포함하는
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 광 빔은 코히런트(coherent)이며 선형으로 편광되고, 상기 광 빔의 확산된 제 1 파는 제 1 선형 편광을 갖고, 상기 광 빔의 확산된 제 2 파는 상기 제 1 선형 편광에 대해 직각인 제 2 선형 편광을 갖는
장치.
제 3 항에 있어서,
상기 광 빔은 원형으로 또는 타원형으로 편광되고, 상기 광 빔의 확산된 제 1 파는 제 1 원형 또는 타원형 편광을 갖고, 상기 광 빔의 확산된 제 2 파는, 핸디드니스(handedness)가 상기 제 1 원형 또는 타원형 편광에 대해 반대인 제 2 원형 또는 타원형 편광을 갖는
장치.
광학 확산기; 및
광 빔을 수광하고, 상기 광학 확산기를 가로질러 상기 광 빔을 스캐닝하는 스캐닝 미러 시스템(scanning mirror system)을 포함하고,
상기 광학 확산기는,
광 빔을 수광하고 상기 광 빔의 일부의 편광을 변화시키는 광 편광 그리드; 및
상기 광 빔을 확산시키기 위해 상기 광 편광 그리드에 광학적으로 결합되는 마이크로-초점 요소의 어레이를 포함하는
시스템.
제 11 항에 있어서,
상기 스캐닝 미러 시스템은 상기 광학 확산기를 가로질러 상기 광 빔을 스캐닝하도록 적어도 하나의 축선을 중심으로 회전하는 미러를 포함하는
시스템.
제 11 항에 있어서,
상기 광 편광 그리드는 복수의 셀을 포함하고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 광 빔의 적어도 제 1 파의 편광을 변화시키고, 상기 복수의 셀의 제 2 그룹은 실질적으로 최초의 편광을 갖는 상기 광 빔의 적어도 제 2 파를 투과시키는
시스템.
제 13 항에 있어서,
상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 제 1 파 및 제 2 파를 확산시켜서 일 점에서 만나게 하고, 상기 제 1 파의 편광 및 상기 제 2 파의 편광은 상기 일 점에서 실질적으로 비간섭성인
시스템.
제 11 항에 있어서,
상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 스캐닝 미러 시스템과 상기 광 편광 그리드 사이에 배치되는
시스템.
제 11 항에 있어서,
상기 광 편광 그리드는 상기 스캐닝 미러 시스템과 상기 마이크로-초점 요소의 어레이 사이에 배치되는
시스템.
광원으로부터 광 빔을 수광하는 단계;
상기 광 빔의 제 1 부분의 편광을 변화시키는 단계; 및
상기 광 빔의 제 1 부분 및 상기 광 빔의 제 2 부분을 뷰포인트(view point)로 전송하기 위해 상기 광 빔을 확산시키는 단계를 포함하는
방법.
제 17 항에 있어서,
상기 광 빔의 제 1 부분 및 상기 광 빔의 제 2 부분은 상기 뷰포인트에서 상이한 편광을 갖는
방법.
광원으로부터 광 빔을 수광하는 수단;
상기 광 빔의 제 1 부분의 편광을 변화시키기 위한 수단; 및
상기 광 빔의 제 1 부분 및 상기 광 빔의 제 2 부분을 뷰포인트로 전송하기 위해 상기 광 빔을 확산시키기 위한 수단을 포함하는
장치.
제 19 항에 있어서,
상기 광 빔을 확산시키기 전에 상기 광 빔의 일부의 편광을 변화시키기 위한 수단을 포함하는
장치.
광 빔의 복수의 파를 수광하는 광 편광 그리드로서, 상기 복수의 파의 각각은 최초의 편광을 갖고, 상기 광 편광 그리드는 복수의 셀을 포함하고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 복수의 파의 적어도 제 1 파의 상기 최초의 편광을 변화시키고, 상기 복수의 셀의 제 2 그룹은 상기 최초의 편광을 갖는 상기 복수의 파의 적어도 제 2 파를 투과시키는, 상기 광 편광 그리드; 및
상기 광 빔을 확산시키기 위해 상기 광 편광 그리드에 광학적으로 결합되는 마이크로-초점 요소의 어레이를 포함하는
시스템.
제 21 항에 있어서,
상기 광 빔을 수광하고 상기 광 편광 그리드를 가로질러 상기 광 빔을 스캐닝하는 스캐닝 미러 시스템을 포함하는
시스템.
제 22 항에 있어서,
상기 마이크로-초점 요소의 어레이는 상기 복수의 파의 제 1 파 및 제 2 파를 확산시켜서 일 점에서 만나게 하고, 상기 제 1 파의 편광 및 상기 제 2 파의 편광은 상기 일 점에서 실질적으로 비간섭성인
시스템.
제 23 항에 있어서,
상기 최초의 편광은 직선형이고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 복수의 파의 적어도 제 1 파의 상기 최초의 편광을 상기 최초의 편광에 대해 직각이 되도록 변화시키는
시스템.
제 23 항에 있어서,
상기 최초의 편광은 원형이고, 상기 복수의 셀의 제 1 그룹은 상기 복수의 파의 적어도 제 1 파의 편광의 핸디드니스를 변화시키는
시스템.