JP2009293986A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】発熱素子の温度を直接かつ精度よく検出する半導体装置を提供する。
【解決手段】ICチップ11に搭載された発熱素子12のパッド13は、異種の金属からなる第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30を経由してリードフレーム14の二つの端子15、16に接続している。異種の金属からなる第一ボンディングワイヤ20と第二ボンディングワイヤ30とは、それぞれ熱起電力が異なっている。そのため、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、熱電対を形成する。これにより、端子15と端子16との間の電位差は、パッド13の温度すなわち発熱素子12の温度に相関する。その結果、端子15と端子16との間の電位差を検出することにより、パッド13すなわち発熱素子12の温度が検出される。
【選択図】図1
【解決手段】ICチップ11に搭載された発熱素子12のパッド13は、異種の金属からなる第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30を経由してリードフレーム14の二つの端子15、16に接続している。異種の金属からなる第一ボンディングワイヤ20と第二ボンディングワイヤ30とは、それぞれ熱起電力が異なっている。そのため、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、熱電対を形成する。これにより、端子15と端子16との間の電位差は、パッド13の温度すなわち発熱素子12の温度に相関する。その結果、端子15と端子16との間の電位差を検出することにより、パッド13すなわち発熱素子12の温度が検出される。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置に関し、特に発熱素子の温度を検出する熱電対を形成する半導体装置に関する。
従来、例えばLDMOS(Laterally Diffused MOS)などの発熱素子の温度を検出する場合、発熱素子の近傍にダイオードを配置している。そして、このダイオードの順方向電圧を検出することにより、発熱素子の温度が検出される(特許文献1参照)。
しかしながら、従来の場合、発熱素子の近傍の温度、すなわちダイオードの近傍の温度しか検出することができない。そのため、発熱素子の温度を精度よく検出することが困難であるという問題がある。
特開平5−47891号公報
しかしながら、従来の場合、発熱素子の近傍の温度、すなわちダイオードの近傍の温度しか検出することができない。そのため、発熱素子の温度を精度よく検出することが困難であるという問題がある。
そこで、本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、発熱素子の温度を直接かつ精度よく検出する半導体装置を提供することにある。
請求項1記載の発明では、発熱素子に設けられているパッドには第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤが接続されている。第一ボンディングワイヤと第二ボンディングワイヤとは、リードフレームの異なる端子に接続されている。第一ボンディングワイヤと第二ボンディングワイヤとは、異なる金属で形成されている。本明細書中において、金属とは、金属の単体または合金のいずれも含むものである。異なる金属で形成された第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤで同一のパッドと異なる端子間を接続することにより、熱電対が形成される。その結果、この形成された熱電対により、パッドが設けられた発熱素子の温度が検出される。したがって、発熱素子の温度を直接かつ精度よく検出することができる。
請求項2記載の発明では、中継パッドを備えている。第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤは、一方の端部が同一のパッドに接続していれば、他端の端子までの間に設けられた中継パッドを経由してもよい。これにより、第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤは、内部回路の構造などに応じて配線可能となる。したがって、回路の設計上の自由度を高めることができる。
請求項3の発明では、第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤは、発熱素子に設けられたパッドだけでなく、発熱素子が搭載された導電部材に接続してもよい。これにより、第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤによって形成される熱電対は、導電部材の温度を検出する。例えばこの導電部材をヒートシンクとして利用する場合、熱電対でヒートシンクの温度が検出される。したがって、発熱素子だけでなく発熱部分の温度を直接かつ精度よく検出することができる。
以下、本発明による半導体装置の複数の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、複数の実施形態において実質的に同一の構成部位には同一の符号を付し、説明を省略する。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態による半導体装置を図1に示す。半導体装置10は、図1に示すようにICチップ11、発熱素子12、パッド13およびリードフレーム14を備えている。ICチップ11、発熱素子12およびパッド13、ならびにリードフレーム14の一部は、図示しない樹脂やセラミックスなどのパッケージで覆ってもよい。ICチップ11は、発熱素子12を含む半導体からなる集積回路である。ICチップ11は、例えばシリコン基板上に発熱素子12を含む複数の回路素子が形成されている。発熱素子12は、例えばLDMOSなどの通電により発熱する素子である。発熱素子12は、ICチップ11上に他の回路素子とともに形成されている。パッド13は、発熱素子12に設けられている。パッド13は、例えば銅やアルミニウムなどの導電性の金属によって薄い膜状に形成されている。なお、上述のように、本明細書中において金属とは、金属の単体および合金を含むものとする。図1において、簡単のためパッド13は一つだけ示している。しかし、発熱素子12には、発熱素子12とリードフレーム14とを電気的に接続するためのその他のパッドを設けてもよい。また、ICチップ11にも図示しない複数のパッドが設けられており、ICチップ11のパッドとリードフレーム14とは電気的に接続される。リードフレーム14は、例えばアルミニウムや銅などの導電性の金属によって形成されている。リードフレーム14は、ICチップ11または発熱素子12と接続される複数の端子を有している。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態による半導体装置を図1に示す。半導体装置10は、図1に示すようにICチップ11、発熱素子12、パッド13およびリードフレーム14を備えている。ICチップ11、発熱素子12およびパッド13、ならびにリードフレーム14の一部は、図示しない樹脂やセラミックスなどのパッケージで覆ってもよい。ICチップ11は、発熱素子12を含む半導体からなる集積回路である。ICチップ11は、例えばシリコン基板上に発熱素子12を含む複数の回路素子が形成されている。発熱素子12は、例えばLDMOSなどの通電により発熱する素子である。発熱素子12は、ICチップ11上に他の回路素子とともに形成されている。パッド13は、発熱素子12に設けられている。パッド13は、例えば銅やアルミニウムなどの導電性の金属によって薄い膜状に形成されている。なお、上述のように、本明細書中において金属とは、金属の単体および合金を含むものとする。図1において、簡単のためパッド13は一つだけ示している。しかし、発熱素子12には、発熱素子12とリードフレーム14とを電気的に接続するためのその他のパッドを設けてもよい。また、ICチップ11にも図示しない複数のパッドが設けられており、ICチップ11のパッドとリードフレーム14とは電気的に接続される。リードフレーム14は、例えばアルミニウムや銅などの導電性の金属によって形成されている。リードフレーム14は、ICチップ11または発熱素子12と接続される複数の端子を有している。
半導体装置10は、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30を備えている。第一ボンディングワイヤ20は、発熱素子12のパッド13とリードフレーム14の複数の端子のうち端子15とを接続している。また、第二ボンディングワイヤ30は、発熱素子12のパッド13とリードフレーム14の複数の端子のうち端子15と異なる端子16とを接続している。発熱素子12またはICチップ11の図示しない他のバッドとリードフレーム14の他の端子との間は、図示しないボンディングワイヤによって接続されている。
第一ボンディングワイヤ20と第二ボンディングワイヤ30とは、異なる金属によって形成されている。すなわち、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、例えば図2に示すように例えば白金(Pt)と白金ロジウム(Pt−Rh)との組み合わせが選択される。この他にも、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、アルメルとクロメル、クロメルとコンスタンタン、鉄(Fe)とコンスタンタン、銅(Cu)とコンスタンタン、ナイクロシルとナイシルなどのように異種の金属の組み合わせとして選択される。
パッド13と端子15との間を第一ボンディングワイヤ20で接続し、パッド13と端子16との間を第一ボンディングワイヤ20と材質の異なる第二ボンディングワイヤ30で接続することにより、パッド13と端子15および端子16との間には熱電対が形成される。すなわち、パッド13と端子15との間、およびパッド13と端子16との間は、それぞれ材質の異なる第一ボンディングワイヤ20または第二ボンディングワイヤ30で接続されている。この構成により、パッド13と端子15、16との間の熱起電力に基づいてパッド13の温度を検出する熱電対が形成される。
パッド13は、発熱素子12に設けられている。すなわち、パッド13は、発熱素子12を構成する一部である。そのため、パッド13を含む熱電対で検出した温度は、発熱素子12そのものの温度である。これにより、熱電対は、発熱素子12の温度を直接かつ精度よく検出することができる。
パッド13は、発熱素子12に設けられている。すなわち、パッド13は、発熱素子12を構成する一部である。そのため、パッド13を含む熱電対で検出した温度は、発熱素子12そのものの温度である。これにより、熱電対は、発熱素子12の温度を直接かつ精度よく検出することができる。
以上説明したように、本発明の第1実施形態では、発熱素子12のパッド13とリードフレーム14の二つの端子15、16との間を熱起電力の異なる異種の金属からなる第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30で接続している。これにより、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、熱電対を形成する。そのため、端子15と端子16との間の電位差は、パッド13の温度すなわち発熱素子12の温度に相関する。その結果、端子15と端子16との間の電位差を検出することにより、パッド13すなわち発熱素子12の温度が検出される。したがって、発熱素子12の温度を直接かつ精度よく検出することができる。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態による半導体装置を図3に示す。
第2実施形態では、図3に示すように半導体装置10は中継パッド41、42を備えている。中継パッド41、42は、ICチップ11上に設けられている。パッド13とリードフレーム14の端子15との間は、中継パッド41を経由して第一ボンディングワイヤ20で接続されている。すなわち、パッド13と中継パッド41との間はサブワイヤ21で接続され、中継パッド41と端子15との間はサブワイヤ22で接続されている。これらのサブワイヤ21およびサブワイヤ22は、第一ボンディングワイヤ20を構成している。同様に、パッド13とリードフレーム14の端子16との間は、中継パッド42を経由して第二ボンディングワイヤ30で接続されている。すなわち、パッド13と中継パッド42との間はサブワイヤ31で接続され、中継パッド42と端子16との間はサブワイヤ32で接続されている。これらのサブワイヤ31およびサブワイヤ32は、第二ボンディングワイヤ30を構成している。第一ボンディングワイヤ20を構成するサブワイヤ21およびサブワイヤ22は、同種の金属で形成されている。同様に、第二ボンディングワイヤ30を構成するサブワイヤ31およびサブワイヤ32は、同種の金属で形成されている。一方、サブワイヤ21およびサブワイヤ22からなる第一ボンディングワイヤ20とサブワイヤ31およびサブワイヤ32からなる第二ボンディングワイヤ30とは、第1実施形態と同様に異種の金属で形成されている。
本発明の第2実施形態による半導体装置を図3に示す。
第2実施形態では、図3に示すように半導体装置10は中継パッド41、42を備えている。中継パッド41、42は、ICチップ11上に設けられている。パッド13とリードフレーム14の端子15との間は、中継パッド41を経由して第一ボンディングワイヤ20で接続されている。すなわち、パッド13と中継パッド41との間はサブワイヤ21で接続され、中継パッド41と端子15との間はサブワイヤ22で接続されている。これらのサブワイヤ21およびサブワイヤ22は、第一ボンディングワイヤ20を構成している。同様に、パッド13とリードフレーム14の端子16との間は、中継パッド42を経由して第二ボンディングワイヤ30で接続されている。すなわち、パッド13と中継パッド42との間はサブワイヤ31で接続され、中継パッド42と端子16との間はサブワイヤ32で接続されている。これらのサブワイヤ31およびサブワイヤ32は、第二ボンディングワイヤ30を構成している。第一ボンディングワイヤ20を構成するサブワイヤ21およびサブワイヤ22は、同種の金属で形成されている。同様に、第二ボンディングワイヤ30を構成するサブワイヤ31およびサブワイヤ32は、同種の金属で形成されている。一方、サブワイヤ21およびサブワイヤ22からなる第一ボンディングワイヤ20とサブワイヤ31およびサブワイヤ32からなる第二ボンディングワイヤ30とは、第1実施形態と同様に異種の金属で形成されている。
第2実施形態では、中継パッド41、42を経由してパッド13と端子15または端子16との間をそれぞれ第一ボンディングワイヤ20または第二ボンディングワイヤ30で接続している。そのため、発熱素子12とリードフレーム14の端子15、16との間の距離が大きな大型の半導体装置10の場合でも、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30によって熱電対が形成される。したがって、ICチップ11などの大きさに関わらず、任意の位置における温度を直接かつ精度よく検出することができる。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態による半導体装置を図4に示す。
第3実施形態では、図4に示すように半導体装置10は導電部材としてのヒートシンク43を備えている。ヒートシンク43は、例えばアルミニウムなどの熱伝導率の大きな導電性の金属で形成されている。ICチップ11は、ヒートシンク43に搭載されている。これにより、ICチップ11およびICチップ11に搭載された発熱素子12の放熱は促進される。
第3実施形態では、第一ボンディングワイヤ20はヒートシンク43とリードフレーム14の端子17とを接続し、第二ボンディングワイヤ30はヒートシンク43とリードフレーム14の端子18とを接続している。これにより、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、ヒートシンク43の温度を検出する熱電対を形成している。このように第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30から構成される熱電対は、ヒートシンク43の温度を検出する。
本発明の第3実施形態による半導体装置を図4に示す。
第3実施形態では、図4に示すように半導体装置10は導電部材としてのヒートシンク43を備えている。ヒートシンク43は、例えばアルミニウムなどの熱伝導率の大きな導電性の金属で形成されている。ICチップ11は、ヒートシンク43に搭載されている。これにより、ICチップ11およびICチップ11に搭載された発熱素子12の放熱は促進される。
第3実施形態では、第一ボンディングワイヤ20はヒートシンク43とリードフレーム14の端子17とを接続し、第二ボンディングワイヤ30はヒートシンク43とリードフレーム14の端子18とを接続している。これにより、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、ヒートシンク43の温度を検出する熱電対を形成している。このように第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30から構成される熱電対は、ヒートシンク43の温度を検出する。
第3実施形態では、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30は、端子17または端子18と反対側の端部を発熱素子12のパッドだけでなくヒートシンク43など他の部分に接続している。これにより、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30から形成される熱電対は、発熱素子12の温度だけでなく端子17または端子18と反対側の端部が接続された任意の位置の温度を検出する。したがって、発熱素子12に限らず任意の位置の温度を直接かつ精度よく検出することができる。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態による半導体装置を図5に示す。
第4実施形態では、図5に示すように半導体装置10は中継パッド44、45を備えている。中継パッド44と端子15との間は、第一ボンディングワイヤ20を構成するサブワイヤ23で接続されている。同様に、中継パッド45と端子16との間は、第二ボンディングワイヤ30を構成するサブワイヤ33で接続されている。第一ボンディングワイヤ20を構成するサブワイヤ23と第二ボンディングワイヤ30を構成するサブワイヤ33とは、熱起電力の異なる異種金属で形成されている。
本発明の第4実施形態による半導体装置を図5に示す。
第4実施形態では、図5に示すように半導体装置10は中継パッド44、45を備えている。中継パッド44と端子15との間は、第一ボンディングワイヤ20を構成するサブワイヤ23で接続されている。同様に、中継パッド45と端子16との間は、第二ボンディングワイヤ30を構成するサブワイヤ33で接続されている。第一ボンディングワイヤ20を構成するサブワイヤ23と第二ボンディングワイヤ30を構成するサブワイヤ33とは、熱起電力の異なる異種金属で形成されている。
一方、中継パッド44と発熱素子12のパッド13との間は、ICチップ11および発熱素子12に形成された配線部24で接続されている。同様に、中継パッド45と発熱素子12のパッド13との間は、ICチップ11および発熱素子12に形成された配線部34で接続されている。配線部24は、サブワイヤ23とともに第一ボンディングワイヤ20を構成し、サブワイヤ23と同種の金属で形成されている。また、配線部34は、サブワイヤ33とともに第二ボンディングワイヤ30を構成し、サブワイヤ33と同種の金属で形成されている。
第4実施形態では、第一ボンディングワイヤ20または第二ボンディングワイヤ30の一部、すなわちパッド13と中継パッド44との間、またはパッド13と中継パッド45との間をそれぞれICチップ11および発熱素子12に形成された配線部24または配線部34によって接続している。したがって、配線部24および配線部34の形成に既存の半導体の配線形成技術を適用することができ、技術的な制約が低減され、設計の自由度を高めることができる。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態による半導体装置を図6に示す。
第5実施形態では、図6に示すように半導体装置10は温度検出部50を備えている。温度検出部50は、温度を検出する検出回路を含んでいる。温度検出部50は、ICチップ11に搭載されている。温度検出部50は、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30によって形成される熱電対の熱起電力によってパッド13の温度すなわち発熱素子の温度を検出する。温度検出部50は、中継パッド46および中継パッド47に接続している。パッド13と中継パッド46との間は、第一ボンディングワイヤ20で接続されている。また、パッド13と中継パッド47との間は、第二ボンディングワイヤ30で接続されている。中継パッド46と温度検出部50との間は配線部51で接続され、中継パッド47と温度検出部50との間は配線部52で接続されている。温度検出部50は、図示しない配線部またはボンディングワイヤによってリードフレーム14のいずれかの端子と接続している。
第5実施形態では、ICチップ11に温度検出部50を搭載している。これにより、外部に温度を検出のための回路を必要としない。したがって、半導体装置10に温度検出部50を組み込むことができ、外部の回路の設計および調整を容易にすることができる。
本発明の第5実施形態による半導体装置を図6に示す。
第5実施形態では、図6に示すように半導体装置10は温度検出部50を備えている。温度検出部50は、温度を検出する検出回路を含んでいる。温度検出部50は、ICチップ11に搭載されている。温度検出部50は、第一ボンディングワイヤ20および第二ボンディングワイヤ30によって形成される熱電対の熱起電力によってパッド13の温度すなわち発熱素子の温度を検出する。温度検出部50は、中継パッド46および中継パッド47に接続している。パッド13と中継パッド46との間は、第一ボンディングワイヤ20で接続されている。また、パッド13と中継パッド47との間は、第二ボンディングワイヤ30で接続されている。中継パッド46と温度検出部50との間は配線部51で接続され、中継パッド47と温度検出部50との間は配線部52で接続されている。温度検出部50は、図示しない配線部またはボンディングワイヤによってリードフレーム14のいずれかの端子と接続している。
第5実施形態では、ICチップ11に温度検出部50を搭載している。これにより、外部に温度を検出のための回路を必要としない。したがって、半導体装置10に温度検出部50を組み込むことができ、外部の回路の設計および調整を容易にすることができる。
以上説明した本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の実施形態に適用可能である。
図面中、10は半導体装置、11はICチップ、12は発熱素子、13はパッド、14はリードフレーム、15、16、17、18は端子、20は第一ボンディングワイヤ、30は第二ボンディングワイヤ、41、42は中継パッド、43はヒートシンク(導電部材)を示す。
Claims (3)
- 素子が搭載されているICチップと、
前記ICチップに搭載されている発熱素子と、
前記発熱素子に設けられているパッドと、
前記パッドと電気的に接続される複数の端子を有するリードフレームと、
前記パッドと前記複数の端子のいずれか一つを接続する金属からなる第一ボンディングワイヤと、
前記第一ボンディングワイヤと異なる金属からなり、前記パッドと前記複数の端子の残るいずれか一つを接続して前記第一ボンディングワイヤと熱電対を形成する第二ボンディングワイヤと、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記ICチップは、前記パッドと前記リードフレームとの間に中継パッドを有し、
前記第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤは、前記中継パッドを経由して前記パッドと前記リードフレームとを接続していることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 前記発熱素子が搭載されている導電部材をさらに備え、
前記第一ボンディングワイヤおよび第二ボンディングワイヤは、前記リードフレームと反対側の端部が前記導電部材に接続していることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
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