JP2009280683A - モノマー、ポリマー及び感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
架橋型のネガ型感光性樹脂組成物としては、カルボン酸等のアルカリ可溶性基及びラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する樹脂と、光ラジカル開始剤とを組み合わせたものが使用されている。また、アルカリ可溶性樹脂と、アルカリ可溶性樹脂と反応し得る架橋剤と、光酸発生剤とからなる組成物も使用されている。
従って、本発明の目的は、酸存在下での極性変化の反応性に優れるポリマーを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、モノマーとして安定に存在し、且つ重合時の反応性に優れ、上記ポリマーの原料として使用可能なモノマーを提供することにある。
更に、本発明の他の目的は、液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子、プリント配線基板等の回路形成に使用することのできる、パターン形成時の感度、基材処理後のレジストパターンの剥離性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。
で表される構造を有することを特徴とするモノマーである。
反応させる際のモル比はヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート類1.0モルに対して、2,3−エポキシ−1−プロパノールを好ましくは1.0モル〜1.5モル、更に好ましくは1.0モル〜1.1モル、最も好ましくは1.0モル〜1.05モルである。2,3−エポキシ−1−プロパノールが少な過ぎても多過ぎても、得られるモノマーの純度が低下するため好ましくない。
なお、このポリマーの重量平均分子量は、ゲル・パーミッション・クロマトグラフィー(GPC)を用いて、下記条件にて測定し、ポリスチレン換算にて算出されるものである。
カラム:ショーデックス KF−801+KF−802+KF−802+KF−803
カラム温度:40℃
展開溶媒:テトラヒドロフラン
検出器:示差屈折計(ショーデックス RI−101)
流速:1mL/min
また、一般式(II)の構成単位を含むポリマーは、一般式(I)の構成単位を含むポリマーを製造するのと同様に、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート類を構成単位として含むポリマーに、2,3−エポキシ−1−プロパノールを反応させることにより製造することもできる。反応条件については、ノボラック樹脂と2,3−エポキシ−1−プロパノールとの反応と同様の条件を採用することができる。
なお、このポリマーの重量平均分子量は、一般式(I)で表される構造を構成単位として含むポリマーと同様に算出されるものである。
上記の特性をより向上させる観点から、ラジカル重合可能なモノマー全量に対して、一般式(III)におけるR1がアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であるモノマーを10モル%〜80モル%とすることが好ましく、15モル%〜70モル%とすることが更に好ましく、20モル%〜60モル%とすることが最も好ましい。一般式(III)におけるR1がアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であるモノマーが10モル%未満であると、解像度、残膜率が低下する場合があり、また、80モル%を超えると、感度が低下する可能性がある。特に、アルカリ水溶液で現像する場合には、一般式(III)におけるR1がアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であるモノマーを20〜50モル%の割合で共重合させたものが好ましい。上記範囲とすることで、解像度及び現像性に優れたポリマーとすることができる。
有機溶媒は、感光性樹脂組成物の固形分が好ましくは5質量%〜40質量%、更に好ましくは10質量%〜30質量%になるように添加すればよい。
まず、ガラス基板、シリコンウエハー又はこれらの表面に各種金属層が形成された基板上に、本発明の感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。感光性樹脂組成物の塗布方法には、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等の公知の方法を制限なく採用することができる。乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて適宜設定すればよいが、通常、60℃〜110℃で30秒〜15分である。塗膜の膜厚は、用途に応じて適宜変えればよいが、通常、0.5μm〜50μmである。
[実施例1]
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート100質量部、トリエチルアミン1.0質量部及びエタノール40質量部を仕込み、攪拌した。液温を70℃に調節しながら、2,3−エポキシ−1−プロパノール43.7質量部を5時間掛けて滴下した。滴下終了後、70℃で2時間攪拌し反応を完結させた。エタノールを減圧下で蒸留により除去し、4−(2,3−ジヒドロキシプロピル)オキシフェニルメタクリレート143質量部を得た。なお、反応の完結は、赤外分光(IR)測定により反応を追跡し、エポキシ基に由来する754cm-1、829cm-1、903cm-1及び1260cm-1が消失すること、並びにエーテル結合に由来する1045cm-1が出現することにより確認した。
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート100質量部、トリエチルアミン1.0質量部及びエタノール40質量部を仕込み、攪拌した。液温を70℃に調節しながら、2,3−エポキシ−1−プロパノール43.7質量部を5時間掛けて滴下した。滴下終了後、70℃で2時間攪拌し反応を完結させた。エタノールを減圧下で蒸留により除去し、3−(2,3−ジヒドロキシプロピル)オキシフェニルメタクリレート143質量部を得た。なお、反応の完結は、赤外分光(IR)測定により反応を追跡し、エポキシ基に由来する754cm-1、829cm-1、903cm-1及び1260cm-1が消失すること、並びにエーテル結合に由来する1045cm-1が出現することにより確認した。
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、p−ヒドロキシフェニルアクリレート100質量部、トリエチルアミン1.0質量部及びエタノール40質量部を仕込み、攪拌した。液温を70℃に調節しながら、2,3−エポキシ−1−プロパノール47.4質量部を5時間掛けて滴下した。滴下終了後、70℃で2時間攪拌し反応を完結させた。エタノールを減圧下で蒸留により除去し、4−(2,3−ジヒドロキシプロピル)オキシフェニルアクリレート147質量部を得た。なお、反応の完結は、赤外分光(IR)測定により反応を追跡し、エポキシ基に由来する754cm-1、829cm-1、903cm-1及び1260cm-1が消失すること、並びにエーテル結合に由来する1045cm-1が出現することにより確認した。
[実施例4]
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート15質量部、実施例1で得られたモノマー85質量部、乳酸エチル300質量部及びアゾビスイソブチロニトリル4.0質量部を仕込み、攪拌した。液温を80℃に調節しながら、2時間撹拌し重合反応を行った。更に、アゾビスイソブチロニトリル2.0質量部を添加し、80℃で3時間撹拌し反応を完結させ、ポリマーを得た。なお、反応の完結は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定でモノマーが消失していることにより確認した。
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート15質量部、実施例2で得られたモノマー85質量部、乳酸エチル300質量部及びアゾビスイソブチロニトリル4.0質量部を仕込み、攪拌した。液温を80℃に調節しながら、2時間撹拌し重合反応を行った。更に、アゾビスイソブチロニトリル2.0質量部を添加し、80℃で3時間撹拌し反応を完結させ、ポリマーを得た。なお、反応の完結は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定でモノマーが消失していることにより確認した。
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、p−ヒドロキシフェニルアクリレート14.7質量部、実施例3で得られたモノマー85.3質量部、乳酸エチル300質量部及びアゾビスイソブチロニトリル4.0質量部を仕込み、攪拌した。液温を80℃に調節しながら、2時間撹拌し重合反応を行った。更に、アゾビスイソブチロニトリル2.0質量部を添加し、80℃で3時間撹拌し重合反応を完結させ、ポリマーを得た。なお、反応の完結は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定でモノマーが消失していることにより確認した。
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート62.2質量部、実施例1で得られたモノマー37.8質量部、乳酸エチル300質量部及びアゾビスイソブチロニトリル4.0質量部を仕込み攪拌を開始した。液温を80℃に調節しながら、2時間撹拌し重合反応を行った。更に、アゾビスイソブチロニトリル2.0質量部を添加し、80℃で3時間撹拌し重合反応を完結させ、ポリマーを得た。なお、反応の完結は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定でモノマーが消失していることにより確認した。
還流冷却器及び攪拌機を備えたフラスコに、BRM−565(昭和高分子株式会社製、m−クレゾールノボラック樹脂)100質量部、トリエチルアミン2.0質量部及びエタノール40質量部を仕込み、攪拌した。液温を80℃に調節ししながら、2,3−エポキシ−1−プロパノール37.6質量部を5時間掛けて滴下した。滴下終了後、80℃で2時間攪拌し反応を完結させ、ポリマーを得た。なお、反応の完結は、IR測定でエポキシ基に由来する754cm-1、829cm-1、903cm-1及び1260cm-1が消失していることにより確認した。
[実施例9]
実施例4で得られたポリマーの固形分100質量部に対し、トリフルオロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム5.0質量部を添加し、続いて、組成物の固形分が20質量%になるように乳酸エチルを添加し、感光性樹脂組成物を調製した。得られた感光性樹脂組成物をスピンコーターでガラス基板に塗布し、ホットプレートにより110℃で90秒間乾燥させた。乾燥後、塗膜の膜厚は2.0μmであった。次に、塗膜上にパターンマスクを介して超高圧水銀灯(波長300〜450nmを主波長とする連続光)で露光を行い、ホットプレートにより130℃で5分間の後加熱を行った。25℃のエタノールで5分間現像を行った結果、パターンマスクのパターンが転写された。
実施例4で得られたポリマーの代わりに、実施例5で得られたポリマーを用いること以外は実施例9と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、露光、現像を行ったところ、パターンマスクのパターンが転写された。なお、パターン形成後の塗膜を25℃のメタノールに5分間浸漬したところ、完全に溶解した。
実施例4で得られたポリマーの代わりに、実施例6で得られたポリマーを用いること以外は実施例9と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、露光、現像を行ったところ、パターンマスクのパターンが転写された。なお、パターン形成後の塗膜を25℃のメタノールに5分間浸漬したところ、完全に溶解した。
実施例4で得られたポリマーの代わりに、実施例7で得られたポリマーを用いること以外は実施例9と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、露光、現像を行ったところ、パターンマスクのパターンが転写された。また、現像を2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液で行ったところ、同様にパターンマスクのパターンが転写された。なお、パターン形成後の塗膜を25℃のメタノールに5分間浸漬したところ、完全に溶解した。
実施例4で得られたポリマーの代わりに、実施例8で得られたポリマーを用いること以外は実施例9と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、露光、現像を行ったところ、パターンマスクのパターンが転写された。また、現像を2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液で行ったところ、同様にパターンマスクのパターンが転写された。なお、パターン形成後の塗膜を25℃のメタノールに5分間浸漬したところ、完全に溶解した。
Claims (4)
- 請求項2又は3に記載のポリマーと光酸発生剤とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4974929A (ja) * | 1972-11-20 | 1974-07-19 | ||
JPH0211612A (ja) * | 1988-04-02 | 1990-01-16 | Hoechst Ag | 高分子量結合剤、その製造法、感光性混合物および感光性複写材料 |
JP2002138125A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Showa Highpolymer Co Ltd | 硬化性樹脂及び感光性樹脂組成物 |
WO2003070800A1 (fr) * | 2002-02-19 | 2003-08-28 | Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Resine durcissable et composition contenant la resine durcissable |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4974929A (ja) * | 1972-11-20 | 1974-07-19 | ||
JPH0211612A (ja) * | 1988-04-02 | 1990-01-16 | Hoechst Ag | 高分子量結合剤、その製造法、感光性混合物および感光性複写材料 |
JP2002138125A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Showa Highpolymer Co Ltd | 硬化性樹脂及び感光性樹脂組成物 |
WO2003070800A1 (fr) * | 2002-02-19 | 2003-08-28 | Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Resine durcissable et composition contenant la resine durcissable |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013100473A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-23 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
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