JP2009280683A5 - モノマー、ポリマー、感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法

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下記一般式：

（式中、Ｒ₁は（メタ）アクリロイルオキシ基であり、Ｒ₂は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、ｎは１〜４の整数である）
で表される構造を有することを特徴とするモノマー。
下記一般式：

（式中、Ｒ₃は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、Ｒ₄は水素、アルキル基又はフェニル基であり、ｍは１〜４の整数である）
で表される構造を構成単位として含むことを特徴とするポリマー。
下記一般式：

（式中、Ｒ₅は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、Ｒ₆は水素又はメチル基であり、ｋは１〜４の整数である）
で表される構造を構成単位として含むことを特徴とするポリマー。
請求項２又は３に記載のポリマーと光酸発生剤とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
請求項４に記載の感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を形成した後、露光し、現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法。