JP2009280436A - 炭化珪素単結晶薄膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Si、TiおよびAlを黒鉛製るつぼ5に収容し、1850〜2100℃に加熱して、Tiが15at%〜25at%、Alが1at%〜10at%で、残りがSi−Cである融液を生成する。この融液に対し、4H−SiC基板3のジャスト面を表面接触させることにより、SiC結晶薄膜を製造する。
【選択図】図1
Description
(1) Tiが15at%〜25at%、Alが1at%〜10at%で、残りがSi−Cである融液に対し、4H−SiC基板のジャスト面を表面接触させることにより、SiC結晶薄膜を製造する方法。
(2) Si、TiおよびAlを黒鉛製るつぼに収容し、1850〜2100℃に加熱して該融液を生成する、(1)に記載の方法。
(1) 300μm/hを超える高速のSiC膜成長速度が得られ、短時間に厚い膜を得ることができる。
(2) ジャスト面上に平坦かつエピタキシャルな膜が得られ、積層欠陥など多種の格子欠陥が伝搬しない。
黒鉛製るつぼを使用することにより、るつぼからSi−C結晶のC原料が供給される。ただし、C原料はるつぼ以外から供給されてもよく、例えばメタンなどの炭素含有ガスを融液中に吹き込む方法も可能である。
(1) 4H−SiC基板を1cm角に切り出し、黒鉛軸に取り付けた。ここで4H−SiC基板の融液に接する面はジャスト面とした。
(2) 黒鉛るつぼにSi、Ti、Alを投入した。
(3) 上記(1)(2)の各部を、図1の構成のように配置した。
(4) 液相成長炉の周囲環境に大気圧のArを導入した。
(5) 高周波コイルの誘導電流により、黒鉛るつぼおよびそこに収容された融液を1850〜2100℃まで2〜3時間かけて昇温した。融液をこの温度域に管理することで、後段で表面接触させる基板接触面(結晶成長面)と融液の温度勾配をできるだけ大きく保ち、高い成長速度が得られた。
(1) 4H−SiC基板を取り付けた軸を下降させ、基板のジャスト面を融液表面に接近させた。ジャスト面上での平坦なSiC成長が進み、積層欠陥など多種の格子欠陥が伝搬しなかった。
(2) 基板を融液に表面接触させたら、軸の下降を止め、エピタキシャル成長を開始させる。これ以上軸を下降させないことで、基板接触面と融液の温度勾配をできるだけ大きく保ち、高い成長速度が得られた。
(3) 所望の成長終了後、軸を上昇させ、基板を融液から引き上げた。接触時間はおおむね10分程度まで、最大で約20分程度であった。
Ti、Alを共に0at%とし、Siのみを投入し成長をさせた。この成長速度は220μm/hであった。また成長層表面は平坦であったが、異種多形が混入しやすい傾向がみられた。
Tiの供給比を20at%、Alの供給比を5at%とし、上記の成長条件で成長を行った。この成長速度は750μm/hという高い成長速度を達成した。また、成長は二次元的に進行し、図2に示すような平坦な成長層表面を得た。
Tiの供給比を20at%、Alの供給比を10at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は860μm/hという高い成長速度を達成した。しかしながら、成長層において、主に二次元的に成長した部分が存在したが、一部に三次元的に成長した部分が存在した。
Tiの供給比を20at%、Alの供給比を15at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は570μm/hの成長速度を達成した。しかしながら、成長が三次元的に進行し、平坦な成長表面が得られなかった(図3)。
Tiの供給比を20at%、Alの供給比を1at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は470μm/hの成長速度を達成した。また、成長層において、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を20at%、Alの供給比を0at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は190μm/hであり、例A(Ti、Alともに0at%)からの改善は見られなかった。また、成長層においては、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を25at%、Alの供給比を10at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は510μm/hの成長速度を達成した。また、成長層において、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を15at%、Alの供給比を10at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は320μm/hの成長速度を達成した。また、成長層において、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を10at%、Alの供給比を10at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は250μm/hであり、例A(Ti、Alともに0at%)からの大幅な改善は見られなかった。また、成長層においては、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を0at%、Alの供給比を10at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は290μm/hであり、例A(Ti、Alともに0at%)からの大幅な改善は見られなかった。また、成長層においては、部分的に平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を10at%、Alの供給比を5at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は160μm/hであり、例A(Ti、Alともに0at%)からの改善は見られなかった。また、成長層においては、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を10at%、Alの供給比を0at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は270μm/hであり、例A(Ti、Alともに0at%)からの大幅な改善は見られなかった。また、成長層においては、平坦な成長表面(二次元的な成長)を得た。
Tiの供給比を30at%、Alの供給比を0at%とした以外は、実施例1と同様の方法で成長を行った。この成長速度は190μm/hであり、例A(Ti、Alともに0at%)からの改善は見られなかった。また、成長層においては、三次元的な成長が進行し、平坦な成長表面が得られなかった。
2 黒鉛製軸
3 SiC基板
4 Ti−Al−Si−C系溶媒
5 黒鉛製るつぼ
6 断熱材
7 高周波コイル
Claims (2)
- Tiが15at%〜25at%、Alが1at%〜10at%で、残りがSi−Cである融液に対し、4H−SiC基板のジャスト面を表面接触させることにより、SiC結晶膜を製造する方法。
- Si、TiおよびAlを黒鉛製るつぼに収容し、1850〜2100℃に加熱して該融液を生成する、請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008133404A JP5167947B2 (ja) | 2008-05-21 | 2008-05-21 | 炭化珪素単結晶薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2008133404A JP5167947B2 (ja) | 2008-05-21 | 2008-05-21 | 炭化珪素単結晶薄膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009280436A true JP2009280436A (ja) | 2009-12-03 |
JP5167947B2 JP5167947B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=41451318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008133404A Expired - Fee Related JP5167947B2 (ja) | 2008-05-21 | 2008-05-21 | 炭化珪素単結晶薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5167947B2 (ja) |
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2008
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