JP2009272655A - ポリッシング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリッシング装置は、研磨対象物を研磨する研磨ブロック6と、研磨後の研磨対象物を洗浄、乾燥する洗浄ブロック9と、研磨後の研磨対象物を研磨ブロック6から洗浄ブロック9に移送する移送装置8と、研磨ブロック6を配した第1室27と、搬送装置8及び洗浄ブロック9を配した第2室26とを備える。研磨ブロック6は、ターンテーブル23と、ターンテーブル23上に研磨対象物を支持するトップリング22とを有し、研磨後の研磨対象物を、トップリング22に取り付けられた状態で粗洗浄する洗浄機を有し、粗洗浄後に研磨対象物はトップリング22から離脱され、その後移送装置8によって洗浄ブロック9に移送され、洗浄ブロック9で洗浄、乾燥される。
【選択図】図3
Description
そこで、半導体ウエハの表面を平坦化することが必要となるが、この平坦化法の1手段としてポリッシング装置により研磨することが行われている。
また、ポリッシング装置内に洗浄装置を備えている場合、ポリッシング処理によって発生する塵埃やミストが洗浄装置を汚染するという問題点を有する。
また、ポリッシング装置内に洗浄装置を備えている場合、ポリッシング処理によって発生する塵埃やミストが洗浄されて清浄になったウエハを汚染してしまうという問題点を有する。
更に、ポリッシング装置を構成する大型の部品等を駆動する動力駆動部がポリッシング処理によって発生する汚染物質によって汚染されるという問題点を有する。
また、装置が充分に清浄な空気のダウンフローのある所へ設置される場合は、天井が解放となりフィルタブロックが不要で、降下した空気は設置室の床面へ排気される。
そして、下記に列挙する優れた効果が得られる。
(1)研磨ブロックを配置した第1室で発生する汚染物質が直接クリーンルームを汚染することがない。
(2)また、研磨ブロックで発生する汚染物質が洗浄装置等を汚染することを抑制することができる。
(3)また、ポリッシング処理によって発生する塵埃やミストが洗浄装置で洗浄した清浄なウエハを汚染してしまうことがない。
(4)また、動力駆動部がポリッシング処理によって発生する汚染物質によって汚染されることがない。
(5)また、装置内の各室の気流を少ない調整手段で任意に調整することができる。
(6)また、装置内の気流の方向が明確となり、排気設計が容易となる。
(7)さらに、圧力損失が小さくなり、高い排気効率が得られる。
(8)さらに、装置内においてウエハの汚染が確実に抑えられ、かつ有害なガスも除去されるので、使用する砥液の性状が制約されず、結果として多くの種類の膜の研磨に対応でき、しかもクリーンルームに設置が可能なポリッシング装置を提供できる。
又、フィルタの濾過精度及びケミカルフィルタの設置の必要性等は、クリーンルームに要求される清浄度及び研磨に用いられる砥液の種類等に応じて適宜選定されるべきものである。
2 操作パネル
3 仕切壁
4 ワーキング(クリーン)ゾーン
5 ユーティリティゾーン
6 研磨ブロック
7 ロードアンロードブロック
8 搬送ブロック
9 洗浄ブロック
10 制御ブロック
11 隔壁
12 共通ベース
21 開口(穴)
22 トップリング
23 回転テーブル
24 洗浄槽
25 乾燥槽
26 第2室
27 第1室
41 ファン
42 フィルタ
43 ケミカルフィルタ
45 ダクトヘッダ
50 ポリッシング装置
60 フィルタブロック
Claims (14)
- 研磨対象物を研磨した後に、洗浄するポリッシング装置において、
研磨対象物を研磨する研磨ブロックと、
研磨後の研磨対象物を洗浄、乾燥する洗浄ブロックと、
研磨後の研磨対象物を研磨ブロックから洗浄ブロックに移送する移送装置と、
前記研磨ブロックを配した第1室と、
前記搬送装置及び前記洗浄ブロックを配した第2室とを備え、
前記研磨ブロックは、ターンテーブルと、ターンテーブル上に研磨対象物を支持するトップリングとを有し、
研磨後の研磨対象物を、トップリングに取り付けられた状態で粗洗浄する洗浄機を有し、
粗洗浄後に研磨対象物はトップリングから離脱され、その後前記移送装置によって洗浄ブロックに移送され、洗浄ブロックで洗浄、乾燥されることを特徴とするポリッシング装置。 - 研磨対象物を研磨した後に、洗浄するポリッシング装置において、
研磨対象物を収納したカセットの受け渡しをするロードアンロードブロックと、
研磨対象物を研磨する研磨ブロックと、
研磨対象物を移動させる搬送ブロックと、
研磨後の研磨対象物を洗浄する洗浄ブロックと、
ポリッシング装置内からポリッシング装置外に排気する排気ダクトと、
前記研磨ブロックを配した第1室と、
前記ロードアンロードブロック、前記搬送ブロック、及び前記洗浄ブロックを配した第2室とを備え、
ポリッシング装置の天井にファンとケミカルフィルタとを有したフィルタブロックを配置し、前記ポリッシング装置の床面にはダクトヘッダが取り付けられ、該ダクトヘッダに開けられた穴に降下した空気が吸い込まれることを特徴とするポリッシング装置。 - 前記ダクトヘッダはダクトにより前記フィルタブロックに接続されていることを特徴とする請求項2記載のポリッシング装置。
- 半導体ウエハを研磨した後に洗浄するポリッシング方法であって、
ポリッシング装置をクリーンルーム内に設置し、ポリッシング装置の第2室内のロードアンロードブロックに配置されたカセットに収納された半導体ウエハをセンサにより検知した後に、該カセットから半導体ウエハを取り出して第1室内の研磨ブロックで研磨し、研磨後の半導体ウエハを隔壁に設けられた受け渡し口を介して前記第2室内の洗浄ブロックに搬送し、該洗浄ブロックにて研磨後の半導体ウエハを洗浄し乾燥させ、洗浄乾燥の終了した半導体ウエハを前記カセットに戻すことを特徴とするポリッシング方法。 - 半導体ウエハを研磨した後に洗浄して半導体デバイスを製造する半導体デバイスの製造方法であって、
ポリッシング装置をクリーンルーム内に設置し、ポリッシング装置の第2室内のロードアンロードブロックに配置されたカセットに収納された半導体ウエハをセンサにより検知した後に、該カセットから半導体ウエハを取り出して第1室内の研磨ブロックで研磨し、研磨後の半導体ウエハを隔壁に設けられた受け渡し口を介して前記第2室内の洗浄ブロックに搬送し、該洗浄ブロックにて研磨後の半導体ウエハを洗浄し乾燥させ、洗浄乾燥の終了した半導体ウエハを前記カセットに戻すことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 - 半導体ウエハを研磨した後に洗浄するポリッシング方法であって、
ポリッシング装置をクリーンルーム内に設置し、ポリッシング装置の第2室内のロードアンロードブロックに配置されたカセットに収納された半導体ウエハをセンサにより検知した後に、該カセットから半導体ウエハを取り出して第1室内の研磨ブロックで研磨し、研磨後の半導体ウエハを隔壁に設けられた受け渡し口を介して前記第2室内の洗浄ブロックに搬送し、該洗浄ブロックにて研磨後の半導体ウエハを洗浄し乾燥させ、洗浄乾燥の終了した半導体ウエハを前記カセットに戻して、1枚の半導体ウエハの処理を終了した後、引き続き残りの半導体ウエハの処理を行って、カセット内の全枚数の半導体ウエハの処理を終了した後に、カセットを交換することを特徴とするポリッシング方法。 - 研磨対象物を収納したカセットの受け渡しをするロードアンロードブロックと、
研磨対象物を研磨する研磨ブロックと、
研磨後の研磨対象物を洗浄する洗浄ブロックと、
前記研磨ブロックを配した第1室と、
前記ロードアンロードブロック及び前記洗浄ブロックを配した第2室と、
前記第1室と前記第2室とを区切る隔壁とを有し、
前記洗浄ブロックは研磨後の研磨対象物を洗浄する洗浄槽と、洗浄後の研磨対象物を乾燥させる乾燥槽とを備え、
前記洗浄槽と乾燥槽のそれぞれにミストを排気する排気ダクトを設けたことを特徴とするポリッシング装置。 - 前記排気ダクトにそれぞれ開口調整バルブを設けたことを特徴とする請求項7記載のポリッシング装置。
- 前記研磨ブロックに排気ダクトと開口調整バルブを設けたことを特徴とする請求項7又は8記載のポリッシング装置。
- 研磨対象物を収納したカセットの受け渡しをするロードアンロードブロックと、
研磨対象物を研磨する研磨ブロックと、
研磨後の研磨対象物を洗浄する洗浄ブロックと、
前記研磨ブロックを配した第1室と、
前記ロードアンロードブロック及び前記洗浄ブロックを配した第2室と、
前記第1室と前記第2室とを区切る隔壁と、
研磨対象物を搬送するロボットとを有し、
前記ロードアンロードブロックには装置に投入されたカセットに収納された研磨対象物の数と収納棚の位置を計測するセンサが備えられており、計測終了後に前記ロボットが該カセットに収納された研磨対象物を取り出すことを特徴とするポリッシング装置。 - 装置をコントロールする制御ブロックを更に有し、前記センサで計測された研磨対象物の数と位置の情報は該制御ブロックに記憶されることを特徴とする請求項10記載のポリッシング装置。
- 前記洗浄ブロックは研磨された研磨対象物を洗浄する洗浄槽と、洗浄された対象物を乾燥する乾燥槽とを備え、研磨後に洗浄乾燥された研磨対象物は前記ロボットにより研磨前と同一のカセットに戻されることを特徴とする請求項10又は11記載のポリッシング装置。
- 研磨対象物を収納したカセットの受け渡しをするロードアンロードブロックと、
研磨対象物を研磨する研磨ブロックと、
研磨後の研磨対象物を洗浄する洗浄ブロックと、
前記研磨ブロックを配した第1室と、
前記ロードアンロードブロック及び前記洗浄ブロックを配した第2室と、
前記第1室と前記第2室とを区切る隔壁と、
研磨対象物を搬送するロボットとを有し、
前記研磨ブロックは研磨布を貼付したターンテーブルと、研磨対象物を支持し該研磨布に押圧するトップリングと、研磨後の研磨対象物を該トップリングに取り付けた状態で粗洗浄する洗浄機とを備えることを特徴とするポリッシング装置。 - 前記洗浄ブロックは研磨された研磨対象物を洗浄する洗浄槽と、洗浄された対象物を乾燥する乾燥槽とを備え、前記洗浄機により粗洗浄された対象物は前記洗浄ブロックで洗浄乾燥され、前記ロボットによってロードアンロードブロックに投入されたカセットに戻されることを特徴とする請求項13記載のポリッシング装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113910088A (zh) * | 2021-10-09 | 2022-01-11 | 詹望 | 一种高效的杯子抛光方法 |
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2009
- 2009-08-20 JP JP2009190599A patent/JP4943478B2/ja not_active Expired - Lifetime
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