JPH0647657A - 自動研磨システム - Google Patents
自動研磨システムInfo
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- JPH0647657A JPH0647657A JP691292A JP691292A JPH0647657A JP H0647657 A JPH0647657 A JP H0647657A JP 691292 A JP691292 A JP 691292A JP 691292 A JP691292 A JP 691292A JP H0647657 A JPH0647657 A JP H0647657A
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- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manipulator (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
効率よく行うことのできる研磨システムを得る。 【構成】 略直線方向に互いに間隔を隔てて研磨装置
2、4、6を配設し、これら研磨装置の近傍に、ロボッ
トアームの可動領域が研磨装置2と研磨装置4のプレー
ト載置部2a、4aに重複する第1ロボット8と、ロボ
ットアームの可動領域が研磨装置4と研磨装置6のプレ
ート載置部4a、6aに重複する第2ロボット22を配
設する。また、第1ロボット8のロボットアームの可動
領域と第2ロボット22のロボットアームの可動領域の
重複範囲内に、キャリアプレート載置部材28を配置す
る。
Description
たキャリアプレートを複数台の研磨装置によって複数
回、研磨するのに用いられる自動研磨システムに関す
る。
数枚のウェーハを、円板状のキャリアプレートに、被研
磨面の裏面をワックス等により貼着し、このキャリアプ
レートを複数台の研磨装置で順次、研磨してゆくことに
より行われる。
よく行うことのできる自動研磨システムはなく、作業効
率を高めた自動研磨システムが求められていた。本発明
は、上記課題を解決することを目的とする。
間隔を隔てて略直線方向に配設されたn台の工業用ロボ
ットと、前記各工業用ロボットのロボットアームの可動
領域に設けられた複数の研磨装置と、前記n台の工業用
ロボットの内の、隣接する2台の工業用ロボットの、ロ
ボットアームの可動領域と可動領域との重複範囲内にそ
れぞれ配置された(n−1)台のキャリアプレート載置
部材とを備えたことを特徴とするものである。
ロボットアームの可動領域と可動領域の重複範囲内に配
置されたキャリアプレート載置部材を介して、キャリア
プレートを、一の工業用ロボットのロボットアームの可
動領域に設けられた研磨装置から、他の工業用ロボット
のロボットアームの可動領域に設けられた研磨装置に、
順方向あるいは逆方向に、任意に搬送することができ、
ウェーハの複数回に渡る研磨作業が自動的に効率よく行
われる。
説明する。図1は本発明の一実施例に係る自動研磨シス
テムを示す平面図である。同図において、2、4、6は
研磨装置であり、これら3つの研磨装置2、4、6は、
一直線上に位置し、且つ、互いに所定間隔を隔てて配設
されている。これら研磨装置2、4、6は、それぞれ、
そのプレート載置部2a、4a、6aの中心側に4つの
キャリアプレート7…を装着して、一度に4つのキャリ
アプレートを研磨できるようになっている。このキャリ
アプレート7には、前述のように、被研磨面の裏面にワ
ックス等が塗布された複数のウェーハが貼着されてい
る。
用ロボット(以下、「第1ロボット」という。)8が配
設されている。この第1ロボット8は、各関節部にサー
ボモータが配設され、図示しないコントローラによって
ロボットアーム8aが所望の軌跡を描くように駆動され
るものであり、ロボットアーム8aの先端部には、図2
乃至図4に示される真空吸引機構を備えたロボットアー
ム(ハンド)8bが接続されている。
吸引部10が形成された接合部12が設けられている
(図2)。吸引部10は、外側に向かうにつれて拡径す
る、弾性部材からなる皿状部14と、キャリアプレート
7の片側表面(ウェーハの貼着された表面と反対側の表
面)7aに当接する、剛体からなるストッパー16と、
吸引部中央に形成され、ロボット2の内部に配設された
真空ポンプに連通する吸引孔18とから構成されてい
る。
先端の可動領域は、図1におけるサークル20となり、
ロボットアーム8b先端の可動領域はサークル20より
さらに大径となる(図示省略)。従って、第1ロボット
8のアーム8bの可動領域は、研磨装置2、4のプレー
ト載置部2a、4aと重複している。
第1ロボット8と全く同一構造の、工業用ロボット(以
下、「第2ロボット」という。)22が配設されてい
る。この第2ロボット22のロボットアーム22aの先
端部には、前記ロボットアーム8aと全く同じ構造のロ
ボットアーム22bが接続されており、ロボットアーム
22bの可動領域は、研磨装置4及び研磨装置6のプレ
ート載置部4a、6aと重複している。
されてくるキャリアプレート7…を順次収納するCPス
トッカー24と、第1洗浄槽26が配設されている。C
Pストッカー24の端部と第1洗浄槽26は、第1ロボ
ット8の可動領域内に位置している。
22の可動領域の重複範囲には、第2洗浄槽28(キャ
リアプレート載置部材に相当)と、ダミーCPストッカ
ー30が配設されている。
には、第3洗浄槽30が配設されている。
ては、順送り、逆送り及び間欠送りを行うことが可能で
ある。
研磨装置2、研磨装置4、研磨装置6の順に送る場合に
ついて説明する。
ー24の端部側から複数枚(本実施例の場合4枚)のキ
ャリアプレートを取り出して、第1の研磨装置2上に装
着する。このとき、CPストッカー24に研磨すべきキ
ャリアプレートが4枚に満たない数しかないときは、そ
の不足枚数分のキャリアプレートをダミーCPストッカ
ー30から補充する。
ット8でプレート載置部2aから4枚のキャリアプレー
ト7を取り出し、第1洗浄槽26中に装着して洗浄を行
った後、研磨装置4上に装着する。
ット22でプレート載置部4aからキャリアプレート7
…を取り出し、第2洗浄槽28中に装着して洗浄を行っ
た後、研磨装置6上に装着する。
ット22でプレート載置部6aからキャリアプレート7
…を取り出し、第3洗浄槽30中に装着して洗浄を行っ
た後、図示しない後行程場に搬送する。
われる可能性のある逆送り、即ちキャリアプレート7…
を研磨装置6、研磨装置4、研磨装置2の順に送る場合
には、第1ロボット2及び第2ロボット22の動作を上
記順送りの場合と逆にすればよい。
…を研磨装置2から、研磨装置4を飛ばして、研磨装置
6に送る場合には、以下のようにする。
ト8によりプレート載置部2aからキャリアプレート7
…を第2洗浄槽28内に装着する。もちろん、第1洗浄
槽26で洗浄を行った後に第2洗浄槽28内に装着して
もよい。
2洗浄槽28内のキャリアプレート7…を取り出し、研
磨装置6上に装着する。
ト22を駆動することにより、キャリアプレート7…を
研磨装置4を経ることなく、研磨装置2から研磨装置6
に送ることができる。研磨装置6から、研磨装置4を飛
ばして研磨装置2に送る場合には、上記の場合と逆にす
ればよい。
ば、ウェーハの複数回に渡る研磨作業を、任意の研磨経
路の設定で、自動的に効率よく行うことができる。これ
により、従来に比べて、作業速度を増加せしめて作業効
率を著しく向上させることができる。
用ロボットのロボットアームの可動領域に2台の研磨装
置を設けたが、本発明はこのようなものに限定されるわ
けではなく、例えば図5に示すような構成としてもよ
い。同図は図1に示した自動研磨システムにおいて、第
1ロボット8のロボットアームの可動領域内に、前述し
た研磨装置2と同様の研磨装置32、34を設け、ま
た、第2ロボット22のロボットアームの可動領域内
に、研磨装置2と同様の研磨装置34(即ち、研磨装置
34は、研磨装置4と同様に、第1ロボット8と第2ロ
ボット22のロボットアームの可動範囲の重複部分に配
置されている。)、36を設けたものである。このよう
な構成とすることによって、さらに多くの研磨装置の間
でのキャリアプレート7の自動的な搬送の制御が可能と
なる。
いるものには限られない。例えば、図5に示す自動研磨
システムにおいて、第2ロボット22の、第1ロボット
8と反対側の側方に、第2ロボット22と同様の工業用
ロボットを、互いに所定間隔をあけて複数台配設し、こ
れらの工業用ロボットの各ロボットアームの可動領域
に、前述の研磨装置2と同様の研磨装置を複数台配設す
る構成としてもよい。そして、これら工業用ロボットの
内の、隣接する2台の工業用ロボットの、ロボットアー
ムの可動領域と可動領域との重複範囲内に、それぞれ、
前述の洗浄槽28と同様のキャリアプレート載置部材を
設けることにより、さらに多くの研磨装置の間でのキャ
リアプレート7の自動的な搬送の制御が可能となり、作
業効率の向上が可能となる。
ば、互いに所定の間隔を隔てて略直線方向に配設された
n台の工業用ロボットと、前記各工業用ロボットのロボ
ットアームの可動領域に設けられた複数の研磨装置と、
前記n台の工業用ロボットの内の、隣接する2台の工業
用ロボットの、ロボットアームの可動領域と可動領域と
の重複範囲内にそれぞれ配置された(n−1)台のキャ
リアプレート載置部材とを備えているので、ウェーハの
複数回に渡る研磨作業を自動的に効率よく行うことがで
き、作業速度を増加せしめて作業効率を向上させること
ができる。
す平面図である。
平面図である。
示す平面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】互いに所定の間隔を隔てて略直線方向に配
設されたn台の工業用ロボットと、前記各工業用ロボッ
トのロボットアームの可動領域に設けられた複数の研磨
装置と、前記n台の工業用ロボットの内の、隣接する2
台の工業用ロボットの、ロボットアームの可動領域と可
動領域との重複範囲内にそれぞれ配置された(n−1)
台のキャリアプレート載置部材とを備えたことを特徴と
する自動研磨システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP691292A JP2675222B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 自動研磨システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP691292A JP2675222B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 自動研磨システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0647657A true JPH0647657A (ja) | 1994-02-22 |
JP2675222B2 JP2675222B2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=11651453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP691292A Expired - Fee Related JP2675222B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 自動研磨システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2675222B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5816891A (en) * | 1995-06-06 | 1998-10-06 | Advanced Micro Devices, Inc. | Performing chemical mechanical polishing of oxides and metals using sequential removal on multiple polish platens to increase equipment throughput |
JP2007210074A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Shuwa Kogyo Kk | 研削装置および研磨装置、並びに研削方法および研磨方法 |
JP2009272655A (ja) * | 1994-12-06 | 2009-11-19 | Ebara Corp | ポリッシング装置 |
-
1992
- 1992-01-17 JP JP691292A patent/JP2675222B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009272655A (ja) * | 1994-12-06 | 2009-11-19 | Ebara Corp | ポリッシング装置 |
US5816891A (en) * | 1995-06-06 | 1998-10-06 | Advanced Micro Devices, Inc. | Performing chemical mechanical polishing of oxides and metals using sequential removal on multiple polish platens to increase equipment throughput |
JP2007210074A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Shuwa Kogyo Kk | 研削装置および研磨装置、並びに研削方法および研磨方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2675222B2 (ja) | 1997-11-12 |
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