JP2009251070A - 横電界方式の液晶表示パネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の液晶表示パネル10は、一対の透明基板間に液晶層が挟持されており、前記一対の透明基板の一方の表面には、平行に設けられた複数のゲート配線12及びコモン配線13と、前記ゲート配線12及びコモン配線13と交差する方向に絶縁膜を介して設けられた複数のソース配線17と、複数の前記ゲート配線12及びソース配線17で区画された画素領域毎に形成された透明導電性材料からなる第1電極14及び第2電極21と、が形成されており、前記第1電極14は前記コモン配線13に電気的に接続されている横電界方式の液晶表示パネル10において、前記ゲート配線12の表面は透明導電性材料からなる層14aで被覆されていることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
(1)異物等によりゲート配線にパターン欠陥が生じることがあること、
(2)ガラス基板に元から生じていた傷(元傷)が存在していた場合、ガラス元傷をゲート配線の成膜時にカバーできないことがあること、
(3)ガラス基板の表面の元傷にエッチング液や現像液が染み込んでゲート配線を過剰にエッチングしてしまうことがあること、
(4)透明電極材料からなる共通電極の形成時にもエッチング液に触れるために過剰にエッチングされることがあること、
(5)一旦形成されたゲート配線は共通電極形成のフォトレジスト材料の現像液や、エッチング液と接触することがあること、
等が原因であることを見出した。
実施形態のFFSモードの液晶表示パネルの構成を、図1〜図6を参照して、製造工程順に説明する。この実施形態のFFSモードの液晶表示パネル10のアレイ基板は、ガラス基板等の透明基板11の表面全体に亘って、例えば下部がAl金属からなり、表面がMo金属からなる2層膜を成膜した後、フォトリソグラフィー法及び湿式エッチング法によって、Mo/Alの2層配線からなる複数のゲート配線12及び複数のコモン配線13を互いに平行になるように形成する(図4A〜図4C参照))。なお、ここではコモン配線13を隣接する画素側のゲート配線12に沿って設けた例を示したが、隣り合うゲート配線12の中間に設ける場合もある。このとき得られたゲート配線12及びコモン配線13はテーパが形成され、断面が台形状となる。ここで、ゲート配線12及びコモン配線13とエッチング液との1回目の接触が行われる。
(1)異物等によりゲート配線にパターン欠陥が生じることがあること、
(2)ガラス基板に元傷が存在していた場合、ガラス元傷をゲート配線の成膜時にカバーできないことがあること、
(3)ガラス基板の表面の元傷にエッチング液や現像液が染み込んでゲート配線を過剰にエッチングしてしまうことがあること、
(4)透明電極材料からなる第1電極の形成時にもエッチング液に触れるために過剰にエッチングされることがあること、
(5)一旦形成されたゲート配線は共通電極形成のフォトレジスト材料の現像液や、エッチング液と接触することがあること、
から、図4A及び図4Cの領域A及びBに示したように、断線が生じることがある。
Claims (5)
- 一対の透明基板間に液晶層が挟持されており、前記一対の透明基板の一方の表面には、平行に設けられた複数のゲート配線及びコモン配線と、前記ゲート配線及びコモン配線と交差する方向に絶縁膜を介して設けられた複数のソース配線と、複数の前記ゲート配線及びソース配線で区画された画素領域毎に形成された透明導電性材料からなる第1電極及び第2電極と、を備え、前記第1電極は前記コモン配線に電気的に接続されている横電界方式の液晶表示パネルにおいて、
前記ゲート配線の表面は透明導電性材料からなる膜で被覆されていることを特徴とする横電界方式の液晶表示パネル。 - 前記ゲート配線の表面の透明導電性材料からなる膜は、前記第1電極と同組成のものであることを特徴とする請求項1に記載の横電界方式の液晶表示パネル。
- 前記第1電極は前記画素領域を被覆するように形成され、前記第2電極は、絶縁膜を介して前記第1電極と平面視で重なるように形成されていると共に、複数の平行に形成されたスリットを備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の横電界方式の液晶表示パネル。
- 前記絶縁膜は複層構造を有し、前記複層構造の絶縁膜の間に前記ソース配線が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の横電界方式の液晶表示パネル。
- 前記第1電極及び第2電極は互いに離間状態で噛み合うくし歯状に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の横電界方式の液晶表示パネル
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JP2008095660A JP2009251070A (ja) | 2008-04-02 | 2008-04-02 | 横電界方式の液晶表示パネル |
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JPH0961845A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 液晶表示基板の製造方法 |
WO2001018597A1 (fr) * | 1999-09-07 | 2001-03-15 | Hitachi, Ltd | Afficheur à cristaux liquides |
JP2001091972A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-06 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2001142092A (ja) * | 1999-11-10 | 2001-05-25 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置とその製造方法 |
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2008
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0961845A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 液晶表示基板の製造方法 |
WO2001018597A1 (fr) * | 1999-09-07 | 2001-03-15 | Hitachi, Ltd | Afficheur à cristaux liquides |
JP2001091972A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-06 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2001142092A (ja) * | 1999-11-10 | 2001-05-25 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置とその製造方法 |
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