JP2009242822A - Pbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板 - Google Patents

Pbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板 Download PDF

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Abstract

【課題】Pbフリーはんだ付け性に優れ、十分な強度及び導電率を備えたPCBオス端子を、銅合金板の先めっき材から製造する。
【解決手段】両表面にSnめっき層を有し、両端面にプレス打抜き加工によるせん断切り口面を有するPCBオス端子を製造するための、PCBオス端子用Snめっき付き銅合金板。銅合金がFe:0.05〜2.6質量%、P:0.01〜0.2質量%、及びZn:0.01〜5質量%とNi:0.01〜2質量%の1種又は2種を含み、残部Cu及び不可避不純物、又は、Ni:0.01〜2質量%、P:0.01〜0.2質量%を含み、残部Cu及び不可避不純物からなる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、自動車等に搭載されるPCB(プリンティッドサーキットボード)にはんだ付けするPCBオス端子の製造に用いるSnめっき付き銅合金板に関する。
PCBオス端子は、銅合金板からプレス打抜き加工によって角線材断面(矩形断面)に形成し、必要に応じてプレス加工で適当な塑性変形を加え、PCB(基板)の端子保持穴を貫通して該PCBにはんだ付けされる(特許文献1参照)。PCBのはんだ付けには、溶融はんだ槽にPCBを浸漬する浸漬はんだ付け法、又ははんだ付け箇所にはんだの噴流を供給するジェット噴流はんだ付け法が用いられる。浸漬はんだ付け法は、多数のはんだ付け箇所があるPCBをはんだ付けすることが可能であり、極めて高い経済性を有する。実装密度がより高いPCBのはんだ付けを信頼性よく行う場合には、ジェット噴流はんだ付けが行われる。いずれのはんだ付け法においても、はんだ浴は循環使用されるため、PCBよりの不純物が混入しないように操業上注意が必要になる。また、はんだ付け部の信頼性を高めるには、PCBオス端子及びPCB基板のはんだ付け部がはんだにより均一に濡れ、凝固したはんだのフィレットが適正な形状に形成されることが必要である。
従来、PCBオス端子用銅合金板として、Snめっき付き黄銅板が多く用いられている。黄銅に含まれるZnがはんだ浴に溶け出し、はんだ浴のZn濃度が高くなると、はんだ付け性を阻害する。
特開2000−243495号公報
PCBオス端子用銅合金板として先めっき材(打抜き加工前に両表面にSnめっきが行われた銅合金板)を用いる場合、プレス打抜き加工を行うと、PCB端子の両端面(せん断切り口面)に銅合金素材が露出する。プレス打抜き加工時、両端面には表面のSnめっき部からのSnダレによるSn被覆部も形成されるが、両端面を完全にSnで被覆することはできない。端面に銅合金素材が露出すると、Pbフリーはんだ付け性が劣化し、PCB端子と基板との接合信頼性が低下する。
なお、環境問題からPbフリー化の要求が高まり、従来のSn−Pb系はんだに代えて、Sn−Ag系、Sn−Ag−Cu系などのPbフリーはんだが使用されるようになってきたが、これらPbフリーはんだは、濡れ性が従来のSn−Pb系はんだより劣ることが問題となっている。
一方、PCBオス端子用銅合金板として、後めっき材(打抜き加工後にSnめっきが行われた銅合金板)を用いる場合、せん断切り口面を含めてはんだ付け部の全面がSnめっきにより覆われるため、Pbフリーはんだ付け性を維持することができ、PCB端子と基板との接合信頼性が高い。しかし、後めっき材は製造コストが高く、また一般にSnめっきが厚め(概ね2μm前後)で嵌合時の摩擦抵抗が大きいという問題がある。なお、後めっき材は、Snめっき厚さにムラができやすいことから、一部に特にめっき厚さの薄い部位ができてPbフリーはんだによるはんだ付け性が低下するのを防止するため、全体としてSnめっきは厚めに形成している。
本発明は上記問題に鑑み、PCBオス端子用銅合金板として製造コスト面で優れた先めっき材を用いることを前提とした上で、Pbフリーはんだ付け性に優れ、同時にPCBオス端子として不足のない強度及び導電率を備えたPCBオス端子を製造することを目的とする。
本発明に係るPbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板は、先めっきを前提としたもので、銅合金の組成が、(1)Fe:0.05〜2.6質量%、P:0.01〜0.2質量%、及びZn:0.01〜5質量%とNi:0.01〜2質量%の1種又は2種を含み、残部Cu及び不可避不純物からなり、又は(2)Ni:0.01〜2質量%、P:0.01〜0.2質量%を含み、残部Cu及び不可避不純物からなり、必要に応じてZn:0.01〜5質量%を含む。
上記(1)、(2)の銅合金は、いずれもFe又はNiとPの金属間化合物による析出強化を利用したものであり、Pbフリーはんだ付け性を向上させるため、所定量のZn又はNi(又はその両方)を必ず含む点でも共通の技術的特徴を有する。
上記銅合金は、必要に応じて、さらにSn:3質量%以下を含み、その他の副成分として、Al,Co,Cr,Mg,Mn,Si,Ti,Zrの1種又は2種以上を、各元素0.001〜0.2質量%、合計で0.001〜0.6質量%含む。
上記Snめっき付き銅合金板は、先めっきを前提としたものであるから、プレス打抜き加工した際、打抜き端面は銅合金素材が露出したせん断切り口面となる。従って、PCB端子は、両表面にSnめっき層を有し、両端面にプレス打抜き加工によるせん断切り口面を有したものとなる。
なお、本発明においてSnめっき層は純Sn及びSn基合金を含む。
本発明に係るSnめっき付き銅合金板は、銅合金素材中にZn又はNi若しくはその両者が所定量含有されていることにより、先めっき材であっても、優れたPbフリーはんだ付け性を維持することができる。
また、本発明に係るSnめっき付き銅合金板は、PCBオス端子として不足のない強度及び導電率を備えている。
本発明に係る銅合金の組成は、基本的にFe−P系又はNi−P系であり、いずれもFe又はNiとPの金属間化合物の析出により強度を向上させ、かつ所定量のZn又はNi若しくはその両方を含むことでPbフリーはんだ付け性を向上させた点に特徴がある。以下、本発明に係る銅合金の組成をFe−P系とNi−P系に分けて説明する。
(Fe−P系)
Fe−P系銅合金の組成は、Fe:0.05〜2.6質量%、P:0.01〜0.2質量%を含み、さらにZn:0.01〜5質量%とNi:0.01〜2質量%の1種又は2種を含み、残部Cu及び不可避不純物からなり、必要に応じて、さらにSn:3質量%以下を含み、その他の副成分として、Al,Co,Cr,Mg,Mn,Si,Ti,Zrの1種又は2種以上を、各元素0.001〜0.2質量%、合計で0.001〜0.6質量%含む。
この組成において、FeはFe又はFe−P金属間化合物として析出し、銅合金板の強度や耐熱性を向上させる。Fe含有量が0.05質量%未満では析出量が少なく、強度を確保し難く、一方、Feが2.6質量%を越えると、Fe又はFe−Pの粗大晶析出物粒子が生成し、曲げ加工性等を損なう恐れがある。なお、強度はオス端子として基板に挿入する際に変形しないよう、また挿入後の取り扱い中の変形を防止するため、硬さにして130MHv(マイクロビッカース硬さ)以上は必要である。従って、Fe含有量は0.05〜2.6質量%、望ましくは0.07〜2.4質量%とする。
Pは脱酸効果があるほか、Feと金属間化合物を形成して、強度や耐熱性を向上させる。Pが0.01質量%未満であると析出量が少なく、強度を確保し難く、一方、Pが0.2質量%を越えると、熱間加工性が劣るとともに、Fe−Pの粗大析出物粒子が生成し、加工性等を劣化させる可能性がある。従って、P含有量は0.01〜0.2質量%、望ましくは0.02〜0.18質量%、さらに望ましくは0.025〜0.15質量%とする。
Ni及びZnは、打抜き端面において経時によるCuの酸化を抑制し、優れたPbフリーはんだ付け性を維持する作用がある。
Znは、含有量が0.01質量%未満であると,経時により打抜き端面に露出した銅合金素材のCuの酸化が進行し、PCB端子を基板にはんだ付けする際、フラックスで酸化膜を除去しきれず、酸化抑制効果が発現し難い。逆に5質量%を超えると、はんだ付けの際、PCB端子を覆うPbフリーはんだ中に溶け出すZnの量が多くなる。Pbフリーはんだ中のZnの含有量が多くなると、はんだの粘性が低下し、はんだが凝固するまでの間にはんだ付け部に保持されるはんだの量が減少したり、凝固したはんだの形状が適切でなく、はんだ付け部の信頼性が低下してしまう。また、はんだ付け槽に浸入するZnの量が多くなり、はんだ浴の更新時間が短くなる。従って、Zn含有量は0.01〜5質量%、望ましくは0.03〜3.0質量%、さらに望ましくは0.05〜2.5質量%とする。
Niは、含有量が0.01質量%未満であると、Znと同様に、経時による酸化抑制効果が発現し難い。逆にNi含有量が2質量%を超えると、酸化抑制効果によるPbフリーはんだ付け性の向上には寄与するが、銅合金の導電率を確保し難い。この導電率は、従来より用いられる黄銅材(Cu−30wt%Zn)よりも高いことが望ましく、30%IACS以上は必要である。さらにNiは、PやFeとNi−P,Ni−Fe−P金属間化合物として析出し、銅合金板の強度の向上に寄与する。従って、Ni含有量は0.01〜2質量%、望ましくは0.025〜1.5質量%とする。
Snは、強度向上に寄与する元素であり、適宜添加されるが、3質量%を超えると導電率を確保し難いため、3質量%以下の範囲で選択添加する。強度向上のためには0.01質量%以上の添加が望ましい。望ましい添加量は0.03〜2.5質量%であり、さらに望ましくは0.03〜2.3質量%である。
Al,Co,Cr,Mg,Mn,Si,Ti,Zrは、強度及び耐熱性の向上に寄与する元素であり、はんだ付け性を阻害しない範囲で必要に応じて添加する。含有量が各元素0.001質量%未満であると強度及び耐熱性の向上効果が小さく、逆に0.2質量%を超えるとはんだ付け性を低下させる。また、これらの元素を2種以上添加する場合、その合計含有量が0.001質量%未満であると、強度及び耐熱性の向上効果が小さく、0.6質量%を超えるとPbフリーはんだ付け性を劣化させる。従って、これらの元素の含有量は、各元素0.001〜0.2質量%、2種以上含む場合は合計で0.001〜0.6質量%とする。望ましくはそれぞれ、0.005〜0.1質量%、0.005〜0.4質量%である。
(Ni−P系)
Ni−P系銅合金の組成は、Ni:0.05〜2質量%、P:0.01〜0.2質量%を含み、残部Cu及び不可避不純物からなり、必要に応じて、さらにZn:0.01〜5質量%又は/及びSn:0.01〜3質量%を含み、その他の副成分として、Al,Co,Cr,Mg,Mn,Si,Ti,Zrの1種又は2種以上を、各元素0.001〜0.2質量%、合計で0.001〜0.6質量%含む。
この組成において、NiはNi−P金属間化合物として析出し、銅合金板の強度の向上に寄与するとともに、打抜き端面において経時によるCuの酸化を抑制し、優れたPbフリーはんだ付け性を維持する作用を有する。含有量を0.05〜2質量%に規定した理由は前記Fe−P系と同様であり、望ましい含有量の範囲も同様に0.025〜1.5質量%である。
P,Zn,Sn,及びAl,Co,Cr,Mg,Mn,Si,Ti,Zrに関しても、作用効果は前記Fe−P系と同様であり、含有量の範囲(望ましい範囲も)及びそのように規定した理由も同様である。
銅合金板表面のSnめっきは、Pbフリーはんだ付け性及び経時後の電気的信頼性(低い接触抵抗の維持)を向上させる作用がある。Snめっきとして、リフローSnめっき、溶融Snめっき、電気光沢Snめっき等がいずれも利用できる。また、本発明でいうSnめっきはSn基合金めっきを含み、例えばSn−Cu合金めっき、Sn−Bi合金めっき、Sn−Zn合金めっき、Sn−Ag合金めっき等、2元系や3元系のSn基合金めっきを含む。
本発明に係るSnめっき付き銅合金板の表面被覆層構造は、Snめっき層の下地に他の表面被覆層を有していてもよい。銅合金板素材にSnめっきを行った場合、そのめっき構成は、通常、上表層よりSn層、Cu−Sn金属間化合物層の順で構成される(特開2002−298963号公報参照)が、そのほか、表層よりSn層、Cu−Sn金属間化合物層、Ni層の順で構成される表面被覆層構造(特開2004−68026号公報、特開2005−226097号公報参照)を有していてもよい。各被覆層の厚さは、Sn層が0.01〜2μm、望ましくは0.02〜1μm、Cu−Sn金属間化合物層が0.01〜1μm、Ni層が1μm以下(ゼロを含む)が望ましい。
また、本発明に係るSnめっき付き銅合金板の母材として、特開2006−77307号公報、特開2006-183068号公報、特開2007-258156号公報等に開示された、特徴的な表面形態を有する(ダル圧延等により表面粗さ(凹凸)を通常より大きくした)銅合金板を使用することもできる。この場合、銅合金板表面に、必要に応じてNiめっきを行った後、Cuめっき及びSnめっきを行い、リフロー処理後、必要に応じてさらにSnフラッシュめっきを行う。これにより、Sn層、Cu−Sn金属間化合物層、さらにNi層(Niめっきを行った場合)からなる表面被覆層が形成される。
本発明に係るSnめっき付き銅合金板は、Snめっき層の下地にCu−Sn金属間化合物層を有し、あるいはさらにNi層を有することにより、課題であるPbフリーはんだ付け性の維持だけでなく、経時後の電気的信頼性、耐熱剥離性、低挿入力化も付与でき、PCBオス端子用材料としてより好適なものとなる。前記特徴的な表面形態を有する銅合金板を用いる場合、さらに低挿入力化が実現できる。
表1に示すNo.1〜30の組成の銅合金を小型電気炉で大気中にて木炭皮膜下で溶解し、厚さ50mm、幅80mm、長さ180mmの鋳塊を溶製した。作製した上記鋳塊の表裏面を各5mm面削した後、930℃で熱間圧延を行い、厚さ12mmtの板材とした。さらに、板材の表裏面をそれぞれ約1mm面削した。なお、No.20,24は熱間割れが発生したため、熱間圧延以降の工程は取り止めた。
Figure 2009242822
これらの板材について、冷間圧延を行った後、焼鈍を行い、続いて冷間圧延及び焼鈍を適宜行い、最終の仕上げ冷間圧延により板厚を0.64mmtとした。焼鈍はいずれも、200℃〜600℃×0.5〜10時間の範囲内で、Fe−P,Ni−P化合物等が析出し(Fe−P系又はNi−P系の場合)、焼鈍後の再結晶粒の平均粒径が50μm以下、又は再結晶しない条件を選択した。
仕上げ冷間圧延後の板材について、20〜300秒程度の範囲で低温焼鈍を行った。このときの焼鈍条件は、仕上げ低温焼鈍前の硬さに対し低温焼鈍後の硬さが65%〜95%となるように選択した。
得られた銅合金板から試験片を採取し、曲げ加工性試験、硬さ測定、導電率測定を下記要領で行った。その結果を下記表3に示す。ただし、曲げ加工試験で不良と評価されたNo.18(No.18以外は全て良と評価)は、その他の試験を取り止めた。
[曲げ加工性]
長さ方向が板材の圧延方向に対し平行方向(LD)及び直角方向(TD)になるように幅10mm、長さ30mmの供試材を切り出し、曲げ線が長さ方向に垂直になるように、CESM0002金属材料W曲げ試験に規定されているB型曲げ治具を用いてはさみ、島津製作所製万能試験機RH−30を使用して1tの荷重でR/t=2(R:曲げ半径、t:板厚)にて90°W曲げ加工を行った後、曲げ部の割れの有無を観察し、割れのないものを良、割れが発生したものを不良と評価した。
[硬さ測定]
マイクロビッカース硬さ硬度計を用い、JISZ2244の規定に基づき、500gfでの硬さを測定した。
[導電率測定]
導電率はJISH0505に基づいて測定した。
次に、No.18,20,24以外の銅合金板について、表2に示す条件にて、Cuめっき及びリフローSnめっき(Snめっき及びリフロー処理)を行い、平均厚さ0.5μmの純Sn層、平均厚さ0.4μmのCu−Sn金属間化合物層からなる表面被覆層を有するSnめっき付き銅合金板を製造した。純Sn層厚さ及びCu−Sn金属間化合物層厚さの測定方法を下記に示す。
[純Sn層厚さ測定]
蛍光X線膜厚計を用いてSnめっき厚さを測定する。その後、p−ニトロフェノール及び苛性ソーダを主成分とする剥離液に10分間浸漬し、純Sn層を剥離後、蛍光X線膜厚計を用いて、Cu−Sn金属間化合物層中のSn量を測定する。Snめっき厚さからCu−Sn金属間化合物層中のSn量を引くことにより、純Sn層厚さを算出した。
[Cu−Sn金属間化合物層厚さ測定]
Cu−Sn金属間化合物層厚さの測定は、板材断面をミクロトームにより切断し、その切断面をSEM観察により測定した。
Figure 2009242822
続いて、各Snめっき付き銅合金板から試験片を採取し、Pbフリーはんだ付け性評価を下記要領で行った。その結果を表3に示す。
[Pbフリーはんだ付け性評価]
0.64mmw×30mmlの試験片を打抜き加工し、湿潤試験機にて湿潤経時させた(経時条件:85℃×85%RH×48Hr)試験片(経時試験片)と、湿潤経時させていない打抜き直後の試験片(非経時試験片)について、はんだ付け性の評価を行った。
はんだ付け条件は、市販のSn−3質量%Ag−0.5質量%Cuはんだを260±5℃に保持し溶融させ、各試験片を浸漬速度25mm/sec、浸漬深さ12mm、浸漬時間5secにて溶融はんだ中に浸漬させた。はんだ付け装置として、ソルダーチェッカー((株)レスカ製;SAT5100型)を用いた。フラックスには非活性フラックス(α100;株式会社日本アルファメタルズ)を使用し、経時試験片及び非経時試験片について濡れ時間を測定した。はんだ付け性は、濡れ時間2sec未満の場合は○(良)、2sec以上の場合を×(不良)と評価した。外観評価は、湿潤経時試験片の端面及びめっき面について行い、端面については、はんだ付着面積率が70%未満を×(不良)、70%以上を○(良)、95%以上を◎(優)と評価し、めっき面については、ディウェットやピットが観察される場合を×(不良)、はんだ表面の荒れが観察されるものを△(やや不良)、見られない場合を○(良)と評価した。
Figure 2009242822
表3に示すように、本発明に規定する組成を有するNo.1〜12は、打抜き直後及び湿潤経時後のはんだ濡れ性に優れ、打抜き端面のはんだ付着面積率が高く、Pbフリーはんだ付け性に優れている。また、硬さは130MHv以上で強度が高く、導電率も30%IACS以上が得られている。
これに対し、No.14,15,23,29,30は、Zn又はNiを含まないか、含有量が本発明の規定より少ないため、Pbフリーはんだ付け性が劣る。No.16はZn含有量が過剰なため、Pbフリーはんだ付け性が劣り、No.27,28はさらに導電率が劣る。No.17,19,23,25は、Fe,Ni又はPの含有量が本発明の規定より少ないため、硬さが低く、十分な強度が得られていない。No.13,21,22,26はNi又はSnが過剰なため、導電率が低い。
実施例1のNo.1の組成の銅合金を用い、実施例1と同じ方法で、板厚0.64mmtの銅合金板を得た。表4のNo.33,34は、特開2007-258156号公報の開示に従い、ダルロールで調質圧延して銅合金板表面を粗面化(凹凸)した。
続いて、表2に示す条件にてNiめっきを行い(あるいは行わず)、Cuめっきを行い(あるいは行わず)、さらにSnめっき(ただし、No.36は溶融Snめっき)を行い、No.35,36を除いてさらにリフロー処理を行った。No.33は、特開2007-258156号公報の開示に従い、さらにSnフラッシュめっき(0.05μm)を行った。
次に、得られたSnめっき付き銅合金板について、純Sn層、Cu−Sn合金層、Ni層及びNi−Sn層の厚さを前記及び下記要領で測定し、Pbフリーはんだ付け性、接触信頼性、はんだ耐熱剥離性及び摩擦係数の試験を前記及び下記要領で行い、表4に示す結果を得た。
なお、備考欄に後めっき相当と記載されたNo.37,38は、他の実施例と同様に先めっき材であるが、Snめっき厚さを従来の後めっき材と同等の厚さとしたものである。
[Ni層厚さ測定]
Ni層厚さは蛍光X線膜厚計を用いて測定した。
[Ni−Sn層厚さ測定]
Ni−Sn金属間化合物層厚さの測定は、板材断面をミクロトームにより切断し、その切断面をSEM観察により測定した。
[耐熱剥離性評価]
耐熱剥離性評価は、はんだ付け試験した短冊状の試験片を180℃で48Hr大気中にて加熱を行った後、180°の曲げ戻しを行い、曲げ戻し部のテープ剥離試験にて評価した。剥離が生じた場合を×(不良)、生じなかった場合を○(良)とした。
[接触信頼性評価]
接触信頼性は、4端子法により、解放電圧20mV、電流10mAで金プローブ(1.0mmφ)を用いて測定した。測定荷重は300gf(摺動状態)である。評価は、接触抵抗1mΩ以下を◎(優)、接触抵抗3mΩ以下を○(良)、3mΩを越えた場合は×(不良)と評価した。
[摩擦係数評価]
摩擦係数は錫めっき材を半径(内径)1.5mmで張り出し加工したメス側舌片とオス側舌片の錫めっき板材を接触させ、オス側舌片を水平に引っ張るようにして、オートグラフにて測定した。この際、接圧力はメス側舌片を取り付けた軸にかけた荷重(N=300gf)であり、オス側舌片を引っ張る速度は80m/minとした。摩擦係数値(μ)は次式のように、ロードセルによって測定した水平方向にかかる力(F)を荷重(N)で割ったものである。
μ=F/N
摩擦係数μが0.6未満を○(良)、0.6以上を×(不良)と評価した。
Figure 2009242822
表4より、No.31〜36は、課題である打抜き直後及び湿潤経時後のPbフリーはんだ付け性に優れている。また、経時後の接触信頼性、はんだ耐熱剥離性及び低挿入力化(摩擦係数)が実現されている。
一方、No.37〜40も、課題である打抜き直後及び湿潤経時後のPbフリーはんだ付け性と、はんだ耐熱剥離性が優れている。しかし、No.37は後めっき材と同等の純Sn層厚さを有するため摩擦係数が大きく、No.38はCu−Sn合金層がバリア層として存在しない(Ni−Sn層が形成されている)ため、さらに接触信頼性が劣る。No.39もCu−Sn合金層がバリア層として存在しないため、接触信頼性が劣る。No.40はCu−Sn合金層の厚さが0.01μm未満と薄いため、接触信頼性が劣る。
このように、適切なめっき構成(それ自体公知)を選択することにより、課題であるPbフリーはんだ付け性だけでなく、経時後の接触信頼性及びはんだ耐熱剥離性の向上及び低挿入力化(摩擦係数)を実現することができる。

Claims (5)

  1. 両表面にSnめっき層を有し両端面にプレス打抜き加工によるせん断切り口面を有するPCBオス端子を製造するためのPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板において、銅合金がFe:0.05〜2.6質量%、P:0.01〜0.2質量%、及びZn:0.01〜5質量%とNi:0.01〜2質量%の1種又は2種を含み、残部Cu及び不可避不純物からなることを特徴とするPbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板。
  2. 両表面にSnめっき層を有し両端面にプレス打抜き加工によるせん断切り口面を有するPCBオス端子を製造するためのPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板において、銅合金がNi:0.01〜2質量%、P:0.01〜0.2質量%を含み、残部Cu及び不可避不純物からなることを特徴とするPbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板。
  3. さらにZn:0.01〜5質量%を含むことを特徴とする請求項2に記載されたPbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板。
  4. さらにSn:3質量%以下を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載されたPbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板。
  5. さらにAl,Co,Cr,Mg,Mn,Si,Ti,Zrの1種又は2種以上を、各元素0.001〜0.2質量%、合計で0.001〜0.6質量%含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載されたPbフリーはんだ付け性に優れるPCBオス端子用Snめっき付き銅合金板。
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