JP2009174651A - 電磁弁およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ステータ1に低電流で磁気飽和させるため、薄肉部13のみに透磁率を低下させる表面処理を施す。これによると、薄肉部13の透磁率は低下し、ステータ1のうち薄肉部13以外の部位の透磁率は低下しないため、吸引力を増加させることができる。また、ステータ1の一部に低電流であっても磁気飽和させるために、永久磁石を用いたり、薄肉部に穴を形成したりしないため、低コスト、高信頼性の電磁弁とすることができる。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態について説明する。図1は第1実施形態に係る電磁弁の断面図である。
本発明の第2実施形態について説明する。図4は第2実施形態に係る電磁弁におけるステータ1の製造方法を示す断面図である。なお、本実施形態は、ステータ1のうち薄肉部13のみに透磁率を低下させる表面処理を施す方法を変更したものであり、その他の点は第1実施形態と同一である。
本発明の第3実施形態について説明する。図5は第3実施形態に係る電磁弁におけるステータ1の製造方法を示す断面図である。なお、本実施形態は、ステータ1のうち薄肉部13のみに透磁率を低下させる表面処理を施す方法を変更したものであり、その他の点は第1実施形態と同一である。
本発明の第4実施形態について説明する。図6は第4実施形態に係る電磁弁の断面図である。第1実施形態では、可動コア2とステータ1とが直接摺動するようにしたが、本実施形態は、可動コア2とステータ1とが直接摺動しないようにしたものである。なお、第1実施形態と同一もしくは均等部分には同一の符号を付し、その説明を省略する。
2 可動コア
3 コイル
13 薄肉部
Claims (7)
- 磁路を形成するとともに軸方向中間部に薄肉部(13)が形成された筒状のステータ(1)と、
前記ステータ(1)の外周側に配置されて通電時に磁界を形成するコイル(3)と、
前記ステータ(1)の内周側に配置されて前記コイル(3)への通電により一方の向きに吸引される可動コア(2)とを備え、
前記ステータ(1)のうち前記薄肉部(13)のみに透磁率を低下させる表面処理が施されていることを特徴とする電磁弁。 - 前記表面処理は、浸炭処理、窒化処理、および軟窒化処理のいずれか1つであることを特徴とする請求項1に記載の電磁弁。
- 前記表面処理は、プラズマ窒化処理であることを特徴とする請求項1に記載の電磁弁。
- 前記ステータ(1)は軟質磁性材料から成り、
前記ステータ(1)の内周面に、表面を硬化させる表面硬化処理が施されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の電磁弁。 - 磁路を形成するとともに軸方向中間部に薄肉部(13)が形成された筒状のステータ(1)と、
前記ステータ(1)の外周側に配置されて通電時に磁界を形成するコイル(3)と、
前記ステータ(1)の内周側に配置されて前記コイル(3)への通電により一方の向きに吸引される可動コア(2)とを備える電磁弁の製造方法であって、
前記ステータ(1)を最終仕上がり形状に加工する第1工程と、
この第1工程の後に、前記ステータ(1)における前記薄肉部(13)以外の部位を、治具(6a〜6d)により隙間が2mm以下の状態でマスキングする第2工程と、
マスキングされた状態の前記ステータ(1)との間でグロー放電を行う第3工程とを備え、
前記ステータ(1)のうち前記薄肉部(13)のみにプラズマ窒化処理を行うことを特徴とする電磁弁の製造方法。 - 磁路を形成するとともに軸方向中間部に薄肉部(13)が形成された筒状のステータ(1)と、
前記ステータ(1)の外周側に配置されて通電時に磁界を形成するコイル(3)と、
前記ステータ(1)の内周側に配置されて前記コイル(3)への通電により一方の向きに吸引される可動コア(2)とを備える電磁弁の製造方法であって、
前記ステータ(1)を最終仕上がり形状に加工する第1工程と、
この第1工程の後に、前記ステータ(1)における前記薄肉部(13)以外の部位をめっきによりマスキングする第2工程と、
マスキングされた状態で前記ステータ(1)に対して透磁率を低下させる表面処理を施す第3工程とを備えることを特徴とする電磁弁の製造方法。 - 磁路を形成するとともに軸方向中間部に薄肉部(13)が形成された筒状のステータ(1)と、
前記ステータ(1)の外周側に配置されて通電時に磁界を形成するコイル(3)と、
前記ステータ(1)の内周側に配置されて前記コイル(3)への通電により一方の向きに吸引される可動コア(2)とを備える電磁弁の製造方法であって、
前記ステータ(1)における前記薄肉部(13)を最終仕上がり形状に加工するとともに、前記ステータ(1)における前記薄肉部(13)以外の部位を肉付けした形状に加工する第1工程と、
この第1工程の後に、前記ステータ(1)に対して透磁率を低下させる表面処理を施す第2工程と、
この第2工程の後に、前記ステータ(1)における前記薄肉部(13)以外の部位を最終仕上がり形状に加工する第3工程とを備えることを特徴とする電磁弁の製造方法。
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