JP2009168593A - 形状測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】所定の繰り返しパタンとなるように表面が設計された基板2の形状を測定する形状測定装置1において、空間領域及び/又は時間領域でのコヒーレントな光を、基板2の表面に照射する照射部10と、照射部10により照射された基板2の表面による回折光を受光する撮像素子15と、撮像素子15による受光結果に応じて、基板2の表面の形状を測定する測定処理部16とを備える。
【選択図】 図1
Description
Claims (4)
- 所定の繰り返しパタンとなるように表面が設計された基板の形状を測定する形状測定装置において、
空間領域及び/又は時間領域でのコヒーレントな光を、上記基板の表面に照射する照射手段と、
上記照射手段により照射された上記基板の表面による回折光を受光する受光手段と、
上記受光手段による受光結果に応じて、上記基板の表面の形状を測定する測定手段とを備える形状測定装置。 - 上記照射手段は、波長が11[nm]乃至15[nm]程度の極端紫外光を発光する光源と、該光源から発光された極端紫外光を、上記空間領域及び/又は時間領域でのコヒーレントな光にして該基板の表面に照射する光学手段とからなることを特徴とする請求項1記載の形状測定装置。
- 上記受光手段は、上記照射手段により照射された上記基板の表面から反射される回折光を受光することを特徴とする請求項1記載の形状測定装置。
- 上記測定手段は、上記所定の繰り返しパタンに関する周波数領域の情報が記録された記録手段を有し、該記録手段に記録された周波数領域の情報と、上記受光手段による受光結果から得られる周波数領域の情報とを比較して、上記基板の表面の形状を測定することを特徴とする請求項1記載の形状測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008006615A JP5279280B2 (ja) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | 形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008006615A JP5279280B2 (ja) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | 形状測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009168593A true JP2009168593A (ja) | 2009-07-30 |
JP5279280B2 JP5279280B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5279280B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011203061A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Toshiba Corp | パターン計測方法およびパターン計測装置 |
JP2012117830A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Hyogo Prefecture | 形状測定装置 |
WO2013008643A1 (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-17 | シャープ株式会社 | 形状検査方法、構造物の製造方法及び形状検査装置 |
JP2013019793A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Hyogo Prefecture | 欠陥特性評価装置 |
JP2017211392A (ja) * | 2017-07-11 | 2017-11-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン評価方法およびパターン評価装置 |
JP2017538157A (ja) * | 2014-12-17 | 2017-12-21 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | パターニングデバイストポグラフィ誘起位相を使用するための方法及び装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210117622A (ko) | 2020-03-19 | 2021-09-29 | 삼성전자주식회사 | Euv 마스크의 위상 측정 장치 및 방법과 그 방법을 포함한 euv 마스크의 제조방법 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001141428A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-05-25 | Sony Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2004532990A (ja) * | 2001-06-20 | 2004-10-28 | ザイゴ コーポレイション | 非球面光学面および波面を測定するための装置および方法 |
JP2005167139A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Canon Inc | 波長選択方法、位置検出方法及び装置、並びに、露光装置 |
JP2005268237A (ja) * | 2002-06-11 | 2005-09-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス |
JP2006250942A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Carl Zeiss Smt Ag | 物体の表面形状の決定システム及び方法、並びに所定形状の表面を有する物体の製造方法 |
JP2007033187A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Photonic Lattice Inc | インライン計測型の偏光解析装置および偏光解析方法 |
JP2007058130A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Japan Science & Technology Agency | 極端紫外線顕微鏡及び検査方法 |
JP2007506082A (ja) * | 2003-09-17 | 2007-03-15 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | マイクロエレクトロニクスにおける寸法検査のための光学フーリエ変換の使用 |
JP2007149807A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Nikon Corp | 位置検出装置及び露光装置 |
JP2007147388A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Toshiba Corp | 表面測定装置 |
-
2008
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001141428A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-05-25 | Sony Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2004532990A (ja) * | 2001-06-20 | 2004-10-28 | ザイゴ コーポレイション | 非球面光学面および波面を測定するための装置および方法 |
JP2005268237A (ja) * | 2002-06-11 | 2005-09-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス |
JP2007506082A (ja) * | 2003-09-17 | 2007-03-15 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | マイクロエレクトロニクスにおける寸法検査のための光学フーリエ変換の使用 |
JP2005167139A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Canon Inc | 波長選択方法、位置検出方法及び装置、並びに、露光装置 |
JP2006250942A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Carl Zeiss Smt Ag | 物体の表面形状の決定システム及び方法、並びに所定形状の表面を有する物体の製造方法 |
JP2007033187A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Photonic Lattice Inc | インライン計測型の偏光解析装置および偏光解析方法 |
JP2007058130A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Japan Science & Technology Agency | 極端紫外線顕微鏡及び検査方法 |
JP2007149807A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Nikon Corp | 位置検出装置及び露光装置 |
JP2007147388A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Toshiba Corp | 表面測定装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011203061A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Toshiba Corp | パターン計測方法およびパターン計測装置 |
JP2012117830A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Hyogo Prefecture | 形状測定装置 |
WO2013008643A1 (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-17 | シャープ株式会社 | 形状検査方法、構造物の製造方法及び形状検査装置 |
JPWO2013008643A1 (ja) * | 2011-07-08 | 2015-02-23 | シャープ株式会社 | 形状検査方法、構造物の製造方法及び形状検査装置 |
JP2013019793A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Hyogo Prefecture | 欠陥特性評価装置 |
JP2017538157A (ja) * | 2014-12-17 | 2017-12-21 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | パターニングデバイストポグラフィ誘起位相を使用するための方法及び装置 |
JP2017211392A (ja) * | 2017-07-11 | 2017-11-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン評価方法およびパターン評価装置 |
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Publication number | Publication date |
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A621 | Written request for application examination |
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