JP2006250942A - 物体の表面形状の決定システム及び方法、並びに所定形状の表面を有する物体の製造方法 - Google Patents

物体の表面形状の決定システム及び方法、並びに所定形状の表面を有する物体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】物体の表面形状を測定する方法を提供する。
【解決手段】表面形状を決定するためのシステム及び方法は、測定光に分散を生じさせる色結像光学系を含む。物体の表面に異なる入射方向から入射する、異なる波長の測定光を生成し、検査される表面から出て、検出器により受け取られる測定光に含まれる色情報から、検査される表面の形状を決定する。
【選択図】図１

Description

本発明は、物体の表面形状の決定システム及び方法、並びに所定形状の表面を有する物体の製造方法に関する。特に、本発明は、非球面形状の表面を有する物体の測定及び製造に関する。これらのシステム及び方法は、光学素子等の物体の測定及び製造に適用することができる。
光学素子は、例えば、天文学において用いられる望遠鏡等の光学システムや、リソグラフィ法において構造体（例えば、マスクやレチクル上に形成された構造体）を放射線感応基板（例えば、レジスト）上に結像するために用いられる光学システムにおいて使用される、光学レンズや光学ミラー等の光学部品を含み得る。このような光学システムの成功は、実質的に、光学システムの設計者によって決定された目標とする形状となるように、光学面をいかに精度良く機械加工又は製造できるかによって決まる。このような製造においては、機械加工された光学面の形状を目標とする形状と比較し、機械加工された面と目標とする面との差を決定する必要がある。そして、光学面は、機械加工された面と目標とする面との差が、例えば、所定の閾値を超える部分において、さらに機械加工され得る。
光学面の測定には、干渉装置がよく用いられる。このような装置は、例えば、米国特許第４,７３２,４８３号明細書（特許文献１）、米国特許第４,３４０,３０６号明細書（特許文献２）、米国特許第５,４７３,４３４号明細書（特許文献３）、米国特許第５,７７７,７４１号明細書（特許文献４）、米国特許第５,４８８,４７７号明細書（特許文献５）に開示されている。これらの文献の全内容を本願に引用して援用する。
球面状の光学面を測定する従来の干渉計装置は、一般に、コヒーレント光源と、球面状の波面を有する測定光ビームを生成する干渉計光学系とを含む。測定光は、被検表面の位置において測定光の波面が検査中の表面の目標とする形状と同じ形状となるように被検表面に入射する。このような状況において、測定光ビームは、検査中の表面に垂直に入射し、その表面で反射して干渉計光学系へと戻る。その後、検査中の表面で反射した測定ビームの光が基準面で反射した光と重ね合わされ、その結果生じる干渉縞から、検査中の表面形状と目標とする形状とのずれが決定される。
球面状の光学面を検査するための球面状の波面は、従来の干渉計光学系により比較的高い精度で生成することができるが、光が検査中の非球面の各位置に実質的に垂直に入射するように非球面状の波面を有する測定光ビームを生成するために、より改良された光学系（補償板、ヌルレンズ配置又はＫ−システムとも称される）が用いられる。ヌルレンズ配置又は補償板に関する背景情報は、例えば、ダニエル マラカラ（Daniel Malacara）のテキストブック「光学工場試験（Optical Shop Testing）」、第２版、ジョン ワイリー アンド サンズ（John Wiley & Sons）株式会社、１９９２年、第１２章（非特許文献１）から入手可能である。
特定種類の非球面を測定する用途のためには、その特定種類の非球面に垂直に入射する非球面状の波面を生成するための対応するヌルレンズ配置を設計及び製造する必要がある。これにより、様々な種類の非球面を検査する際の柔軟性が必然的に制限される。
米国特許第５,００４,３４６号明細書（特許文献６）により、球面状の波面を生成する干渉計光学系を用いて非球面を検査する方法が知られている。球面状の波面は、検出される干渉縞の生成に非球面の一部のみが寄与するように、その一部においてのみ非球面に実質的に垂直に入射する。干渉計光学系と被検非球面との間の距離を変化させることにより、検出可能な干渉縞の生成に寄与する非球面の部分を変えることができる。従って、干渉計光学系から複数の距離を隔てた場所において非球面を球面状の波面で検査することにより、実質的に非球面の全表面積を検査し、複数の距離を隔てた場所で得られた測定値から、その表面形状を計算することができる。
このため、非球面と干渉計光学系との間の距離を正確に制御する必要がある。このような方法においては、干渉計光学系に対して非球面を移動させるアクチュエータに高い要件が求められる。
米国特許第４,７３２,４８３号明細書 米国特許第４,３４０,３０６号明細書 米国特許第５,４７３,４３４号明細書 米国特許第５,７７７,７４１号明細書 米国特許第５,４８８,４７７号明細書 ダニエル マラカラ（Daniel Malacara）のテキストブック「光学工場試験（Optical Shop Testing）」、第２版、ジョン ワイリー アンド サンズ（John Wiley & Sons）株式会社、１９９２年、第１２章 米国特許第５,００４,３４６号明細書
本発明は、上記の問題を考慮してなされたものである。
本発明の実施の形態は、物体の表面形状を決定する他の方法を提供し、さらにその物体を製造するための対応する方法を提供する。
本発明の特定の実施の形態は、物体の表面に異なる入射方向から入射する、異なる波長の測定光を生成し、前記物体で反射した前記測定光の波長依存強度分布を検出し、検出された前記波長依存強度分布に基づいて前記物体の表面形状を決定することにより、物体の表面形状を決定する方法を提供する。
波長が異なれば物体への入射方向も異なるような測定光を生成するために、色照明光学系を用いることができる。色照明光学系は、測定光の分散を意図的に生じさせるように構成されている。これは、例えば、色照明光学系に入射する２つの異なる波長の同軸上の光線は、色照明光学系による分散効果のために互いに分離され、これら２つの異なる波長の光線は、異なる出射角度で色照明光学系から出射されるということである。例えば、色照明光学系は、異なる波長間での出射角度の差が約１分よりも大きくなるよう、十分な分散性を有する。同様に、物体の表面の選択された位置に入射する光は、波長に依存した入射方向を有する。例えば、色照明光学系は、異なる波長間での光の入射方向の差が約１分よりも大きくなるよう、十分な分散性を有する。
特定の波長の光が物体へ入射する方向は、その特定の波長付近の小さい波長範囲の光の光強度を平均化することによって計算された方向として求めることができる。ここで、平均化は、表面上の半球全体にわたって行われる。同様に、色光学系からの出射方向は、適切に選択された小さい波長範囲の光が光学系から出射される方向を平均化したものとして求めることができる。
物体の表面で反射され、位置感度検出器によって検出された測定光は、複数の異なる波長の入射光に対する物体の反射面部分の方向に応じて、波長依存強度分布を示す。測定光の入射方向の波長依存性のため、表面部分の方向が変化すると、表面部分で特定の方向に反射した測定光の波長も変化することになる。
従って、物体の表面で反射した測定光の波長依存強度分布の検出結果を分析することにより、例えば、所定方向に対する物体の表面部分の方向を求めることができる。さらに、複数の位置において求められた表面部分の方向から、物体の表面形状を決定することができるようになる。
このように、物体の表面形状は、比較的簡単な測定によって決定することができる。ここで、照明光学系、結像光学系及び光源等の、この測定に用いられた装置は、物体の特定の表面形状の検査に限定されるものではなく、異なる形状の様々な物体を同じ装置を用いて検査することができる。
本発明の一実施の形態によれば、物体の表面形状を決定する方法は、複数の異なる波長の測定光を生成するステップと、前記測定光が前記表面の複数の位置に、前記各位置における第１の波長の測定光の入射方向と第２の波長の測定光の入射方向との差が１分よりも大きい状態で入射するように、前記測定光を色照明光学系を通過させて前記物体の表面上に向けるステップと、前記物体の表面で反射した測定光の一部を、結像光学系に入射する複数の異なる波長の前記反射測定光の１／３を超える測定光の検出器の光検出面への入射を遮断した状態で、前記結像光学系を通過させて前記検出器の光検出面上に向けるステップと、前記検出器に入射する前記測定光の波長依存強度分布を検出するステップと、検出された前記波長依存強度分布に基いて前記物体の表面形状を決定するステップとを含む。
ここで、一実施の形態によれば、物体の表面で特定の方向又はさまざまな方向に反射した反射測定光は、所定形状の開口を有するビーム絞りによる検出のために選択される。所定形状は、円形、環状、直線スリット状等の形状とすることができる。
さらなる一実施の形態によれば、方法は、前記物体の表面に入射する、異なる波長の測定光を生成するステップと、前記表面から出てくる測定光に結像光学系を通り抜けさせるステップと、前記結像光学系を通り抜けた前記測定光の複数の光線群の各々の光強度を検出するステップとを含み、各光線群は、その光線の波長範囲及び所定の方向に対する光線の角度範囲を前記光線群と関連付けて有している。前記物体の表面形状は、検出された前記光強度に基づいて決定される。
異なる波長及び色光学系の設計は、異なる波長の測定光の光線が、色光学系の分散のために、当該光学系により、検出可能な程度に十分に異なる角度で偏向されるように選択される。波長及び角度に基づいて光強度を検出することにより、測定光が出てくる表面の形状を計算するために十分な情報を得ることが可能となる。
本発明の典型的な一実施の形態においては、表面から９０°の角度で発散する光のみが検出され、結像光学系は十分な色光学系である。色結像光学系の分散のため、特定の位置において表面から出てくる検出光の１つの波長のみが、表面から９０°の角度で発散するという条件を厳密に満たすことになる。既に（Already）この波長を概算で求めることにより、その位置での表面の方向を十分な精度で求めることができ、この計算を表面の複数の位置に対して行なうことにより、最終的に表面全体の表面形状を所望の精度で計算することができる。
本発明の典型的な一実施の形態によれば、検出された測定光の光線の発散角度は、開口を有するビーム絞りによって選択される。
本発明の典型的な一実施の形態によれば、特定の角度を有する光線群の選択は、間隔を置いて設けられた複数の検出器素子を有する位置感度検出器を用いることを含む。各検出器素子は、所定方向に対して小さい角度範囲内にある光線を検出することができる。
特定の波長範囲を有する光線群の選択は、典型的な一実施の形態によれば、出射光の波長を調整することが可能な光源を用いて行うことができる。これは、広帯域の光源又は白色光源と、光源の下流の選択フィルタとを用いることを含み得る。ここで、選択フィルタは、比較的狭い波長範囲の光を透過させることができる。
他の典型的な一実施の形態によれば、広帯域の光源又は白色光源からの光等、広い波長範囲の光が、検査される表面に入射することができ、表面から出て、色結像光学系を通り抜けた測定光に関して分光分析が行われる。
典型的な一実施の形態によれば、色結像光学系は、生成された測定光を、測定される表面上に向けるためにも用いられる。
さらなる典型的な一実施の形態によれば、表面から出てくる測定光は、表面で反射した測定光である。他の一実施の形態によれば、表面から出てくる測定光は、物体の表面を通り抜けた測定光である。
さらなる典型的な一実施の形態によれば、光強度の検出は、表面から発散される測定光に対して十分にコヒーレントな参照光を生成し、参照光を表面から発散される測定光と重ね合わせて、建設的でかつ相殺的な干渉を交互に生じさせることを伴う干渉検出を含む。
本発明はさらに、表面形状を決定する上記方法を用いて、目標とする形状の表面を有する物体を製造し、決定された表面形状の目標とする形状からのずれに基づいて、その物体の表面を加工する方法を提供する。
光学面の加工は、ミリング、研削、ルース・アブラシブ（loose abrasive）研削、研磨、イオンビーム面出し及び磁気レオロジー面出し等の機械加工と、光学素子の光学面の仕上げ加工とを含み得る。加工はまた、操作者の手又は腕の動きにより、表面全体にわたって直接的又は間接的に移動される手持ち式の器具又は他の適切な器具を用いた加工を含み得る。
一実施の形態によれば、仕上げ加工は、光学面にコーティングを塗布することを含む。コーティングは、反射コーティング、反射防止コーティング及び保護コーティング等のコーティングを含み得る。
本発明はさらに、物体の表面形状を測定するシステムを提供する。ここで、システムは、複数の異なる波長の測定光を生成する光源と、測定光を検出器の表面上に向ける色照明光学系と、物体の表面で反射した測定光を検出する位置感度検出器と、検出器の上流のビーム経路に配置された波長セレクタとを備える。
本発明の一実施の形態によれば、物体の表面形状を測定するシステムは、広い波長範囲内の測定光を生成する光源と、前記測定光を前記物体の表面上に向ける色照明光学系であって、測定される前記物体に最も近接して配置された光学素子の前面を有し、前記前面上の複数の位置の各々において、第１の波長の測定光の出射方向と第２の波長の測定光の出射方向との差が１分よりも大きくなるような分散を生じさせる色照明光学系と、前記物体の表面の像を検出器の光検出面上に結像する結像光学系であって、そのビーム経路内に配置された、開口を有するビーム絞りを備え、前記開口の断面が、前記ビーム絞りの上流の当該結像光学系の前記ビーム経路の有効断面の１／３よりも小さい結像光学系と、前記光源と前記検出器との間の前記測定光のビーム経路に配置され、狭い波長範囲内の測定光のみを透過するスペクトルセレクタとを備える。
本発明のさらなる一実施の形態によれば、システムは、結像光学系と、開口を有するビーム絞りと、前記物体の表面が、前記色結像光学系に対して配置されるよう、前記物体を搭載するように構成された試験片取付台と、前記物体の表面から出て、前記結像光学系及び前記開口を通り抜けた測定光を検出するための位置感度検出器と、広い波長範囲内の測定光を生成する光源と、前記測定光を前記表面上に向ける色照明光学系と、前記広い波長範囲から、調整可能な狭い波長範囲を選択し、選択した前記狭い波長範囲の測定光のみを前記位置感度検出器に入射させるためのスペクトルセレクタと、前記位置感度検出器によって検出された光強度を表す信号を受け取り、複数の異なる狭い波長範囲が続いて前記検出器に入射するように前記スペクトルセレクタを制御するためのコントローラとを備える。
典型的な一実施の形態によれば、色光学系は、ホログラム又は回折格子を備える。
さらなる典型的な一実施の形態によれば、システムは、測定アームと基準アームとを有する干渉計を備える。ここで、測定アームは、結像光学系と、測定される表面とを含む。ここで、典型的な一実施の形態によれば、干渉計は、干渉計の、基準アームの光路長と測定アームの光路長との差よりも短いコヒーレンス長を有する光を用いた白色光干渉計である。
さらなる典型的な一実施の形態によれば、検査される光学面は、球面形状から相当にずれた非球面である。本願の文脈中においては、非球面とその最も球面に近い形状との差が所定の基準よりも大きい場合に、光学面を非球面と称することができる。このような基準の１つは、非球面とその最も球面に近い形状との差の勾配（gradient）に基づくもので、このような勾配が、６μｍを光学面の有効径で割った値を超える場合に、光学面は非球面と称される。
本発明の上記及びその他の有利な特徴は、添付の図面を参照した以下の本発明の典型的な実施の形態の詳細な説明からより明らかになるであろう。考えられる本発明の実施の形態の全てが、ここに認められた全ての利点を示すものであるとは限らないことを書き留めておく。
図１は、本発明の第１の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。
図２は、本発明の第２の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。
図３は、図２に示すシステムと類似のシステムにおいて用いられるホログラムの線密度を示すグラフである。
図４は、検査される表面上の投射位置（perspective position）に依存する、検出器に入射する測定光の波長を示すグラフである。
図５は、図４に示す強度から計算された表面形状を示すグラフである。
図６は、本発明の第３の実施の形態における物体の表面形状を測定するためのシステムの一部の模式図である。
図７は、本発明の第４の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。
図８は、本発明の第５の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。
図９は、本発明の第６の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。
図１０は、図９に示すシステムの一部を拡大して示した模式図である。
図１１は、本発明における光学素子の製造方法のフローチャートである。
以下に記載する典型的な実施の形態において、機能及び構造が等しい構成要素は、可能な限り同じ参照符号で示す。従って、特定の実施の形態の個々の構成要素の特徴を理解するためには、他の実施の形態の説明及び課題を解決するための手段を参照する必要がある。
図１は、物体５の表面３の形状を測定するためのシステム１を模式的に示している。図１に示す例において、物体５はガラス製のレンズであり、測定される表面３は非球面形状を有する凸面である。しかし、本発明は、このような物体に限定されるものではない。システム１は、光学素子の他の表面、例えば、鏡面、凹面及び平面、並びに他の製造物（例えば、油圧システムや燃料噴射システムにおけるバルブの構成要素、又は十分な鏡面反射率を有する他の構成要素等）の表面を測定するために用いてもよい。
システム１は、物体５の表面３に面していない第１の表面８と、物体５に面している表面９とを有するプレート７を含む結像光学系６を備えている。表面９は、システム１の光軸１３に対して回転対称な格子構造を有するホログラム１１を保持している。物体５は、結像光学系６に対して所定の位置で試験片ホルダー７に搭載されている。
システム１はさらに、光軸１３に対して垂直に配置され、光軸１３がその中心を通り抜ける小さな開口１７を有するビーム絞り１５を備えている。ホログラム１１は、物体５が位置２１ｒとホログラム１１との間に配置されていない場合に、赤色光が光軸１３上の位置２１ｒで開口１７の像を形成するように設計されている。赤色光はまた、赤色光を用いた場合に開口１７と位置２１ｒとがホログラム１１に対して互いに共役となるよう、位置２１ｒの像を開口１７の位置に結像する。同様に、図１は、緑色光を用いた場合に結像光学系６に対して開口１７と共役になる位置２１ｇと、青色光を用いた場合に結像光学系６に対して開口１７の位置と共役になる位置２１ｂとを示している。
尚、本願の実施の形態の説明における赤色、緑色及び青色は、説明のために選択されているに過ぎず、本発明をこのような色に限定するものではないことに留意すべきである。実際には、本発明を実施するための測定光として、十分に広い波長範囲又は複数の異なる波長範囲の他の電磁放射線を用いてもよい。
ビーム絞り１５と結像光学系６との間のビーム経路において、折り曲げられた光軸１３'が光軸１３に対して横向きに配置されるよう、光軸１３に対して角度をなして方向付けられた半透明ミラー２６が配置されている。
ハロゲンランプ等の広帯域の光源２７が軸１３'上に配置されており、照明光学系２９が光源２７から出射された光ビーム３１をビーム絞り３５に設けられた開口３３に集束させる。照明された開口３３は、開口３３の位置から出射された広帯域の測定光３７の点光源を生じさせる。開口３３は、折り曲げられた光軸１３'上において、結像光学系６に対し、赤色光に関して位置２１ｒと共役になり、緑色光及び青色光に関してそれぞれ位置２１ｇ及び２１ｂと共役になる位置に配置されている。
図１において、光軸１３に対して５つの異なる角度で広がる５つの典型的な測定光線が、参照符号４０1 、４０2 、４０3 、４０4 及び４０5 で示されており、光線４０3 は、光軸１３と同軸上にある。結像光学系６の色特性のため、光線４０1 は、その波長に応じてホログラム１１によって分散され、赤色、緑色及び青色の成分に関する光線４０1 の３つの典型的な分散光線４１ｒ1 、４１ｇ1 及び４１ｂ1 が図１に示されている。参照符号４２ｒ1 、４２ｇ1 及び４２ｂ1 は反射光線を示しており、反射光線４２ｒ1 は、表面３で反射した光線４１ｒ1 であり、光線４２ｇ1 及び４２ｂ1 はそれぞれ、表面３で反射した光線４１ｇ1 及び４１ｂ1 である。図１に示す典型的な状態において、光線４１ｇ1 は、表面３に垂直に入射し、表面３から出てくる反射光線４２ｇ1 は、表面３に入射する光線４１ｇ1 と同軸上にある。ホログラム１１の分散特性のため、他の入射光線４１ｒ1 及び４１ｂ1 は、光線４１ｇ1 に対して９０°とは異なる角度で方向付けられ、これらの光線４１ｒ1 及び４１ｂ1 は、表面３から出てくる対応する反射光線４２ｒ1 及び４２ｂ1 がそれぞれ、入射光線４１ｒ1 及び４１ｂ1 と同軸とならないよう、表面３に垂直には入射しない。
垂直に反射した光線４２ｇ1 は、ホログラム１１に入射し、照明測定光線４０1 と同軸となるようにホログラム１１によって偏向され、半透明ミラー２５及びビーム絞り１５の開口１７を通り抜ける。そして、光線４２ｇ1 はさらに、カメラ光学系４７を通り抜けてカメラ５２のカメラチップ４９の画素５０1 に入射する。他の反射光線４２ｒ1 及び４２ｂ1 は、偏向されることがないようホログラム１１に入射しないか、あるいは、ビーム絞り１５によって遮断されるように開口１７に入射することがないよう結像光学系６によって偏向される。図１に示す典型的な状態において、画素５０1 は、緑色の測定光以外の表面３から出てくる測定光を検出しない。実際には、光軸１３に対して横方向に画素５０1 が拡大されるため、画素５０1 が検出する光は、光軸１３に対して狭い角度範囲からの、表面３の幾分拡大された部分から放射される光であって、厳密には必ずしも単色光ではなく、中心の光線４２ｇ1 付近の狭い範囲の波長を含み得る。
同様に、照明光線４０2 は、結像光学系６により、光線４１ｒ1 、４１ｇ1 及び４１ｂ1 が表面３に入射する位置とは異なる位置又は領域において表面３に入射する光線４１ｒ2 、４１ｇ2 及び４１ｂ2 に分散される。光線４１ｒ2 、４１ｇ2 及び４１ｂ2 は、表面３で反射し、光線４２ｒ2 、４２ｇ2 及び４２ｂ2 が出てくる。ここで、表面３は、光線４１ｒ2 、４１ｇ2 及び４１ｂ2 が入射する位置において、光線４１ｒ2 のみが表面３に垂直に入射するように方向付けられている。反射光線４２ｒ2 は、入射光線４１ｒ2 と同軸上にあり、照明光線４０2 とも同軸となるようにホログラム１１によって回折される。従って、反射光線４２ｒ2 は、開口１７を通り抜けることができ、検出器４９の画素５０2 に入射する。他の反射光線４２ｇ2 及び４２ｂ2 は、光軸１３に対して異なる角度にあるため、開口１７を通り抜けることができず、画素５０2 は狭い帯域幅の赤色光のみを検出する。
照明光線４０3 は、光軸１３と同軸上にあり、入射光線４１3 がその全ての色成分に関して表面３に垂直に入射するよう、結像光学系６によって偏向されず、対応する反射光線４２3 は、その光線の色とは無関係に、結像光学系６及び開口１７を通り抜けて検出器５２の画素５０3 に入射する。従って、画素５０3 は、入射光線４０3 のほぼ全ての色成分を検出する。
図１に示す典型的な状態は、検出器４９の画素５０4 が光線４２ｒ4 の赤色光を検出し、画素５０5 が光線４２ｇ5 の緑色光を検出するよう、光軸１３に対して対称である。
照明光学系２９は、コリメータレンズ５５と、その間に配置されたカラーフィルタ５７とを備えている。この種のカラーフィルタ５７は、例えば、ドイツのマインツのショット（ＳＣＨＯＴＴ）から入手可能である。カラーフィルタ５７は、コントローラ６１によって制御されるアクチュエータ５９によって操作される。アクチュエータ５９は、カラーフィルタ５７を通り抜けることのできる狭い波長帯域の中心波長を選択するため、カラーフィルタ５７を折り曲げられた光軸１３'に対して横方向６０に移動させるように構成されている。コントローラ６１は、測定光３７が赤色光、緑色光及び青色光で続いて形成されるよう、３つの異なる位置でカラーフィルタ５７を続いて調整するようにコンピュータ制御及びプログラムされていてもよい。コントローラ６１はさらに、検出器５２によって検出されたパターンを受け取る。測定光３７が赤色光で形成されるようにカラーフィルタ５７が位置付けられている第１の状態において、コントローラ６１は、検出された光強度を画素５０2 、５０3 及び５０4 から受け取る。測定光３７が緑色光で形成されるようにカラーフィルタ５７が位置付けられている第２の状態において、コントローラ６１は、検出された強度情報を画素５０1 、５０3 及び５０5 から受け取る。測定光３７が青色光で形成されるようにカラーフィルタ５７が位置付けられている第３の状態において、コントローラ６１は、検出された強度情報を画素５０3 のみから受け取る。
狭い波長帯域の各々に対して得られたパターン画像情報から、表面３の複数の位置において光軸１３に対する表面３の方向を求め、さらに表面３の表面形状を計算することができる。
図１に示す簡略化された方法においては、開口１７を通り抜ける１５個の光線群が検出される。この１５群は、５つの検出器素子に３つの異なる色を乗じた結果として生じる。３つの検出器素子が緑色光を検出し、３つの検出器素子が赤色光を検出し、１つの検出器素子が青色光を検出する。従って、７つの光線群のみが強度の測定に寄与する。他の光線群は、ビーム絞り１５によって遮断される。強度（検出されたバックグラウンド強度を除く）の測定に寄与する群の総群数に対する比率は、１／２未満である。高解像度の検出器が用いられ、より多くの光線群を形成するためにより多くの狭い波長帯域が使用される実用的な実施の形態において、この比率はさらに小さくなる。
システム１は、図１に示す非球面形状と全く同じ形状の表面を有する物体の測定に限定されるものではない。さらに、他の物体を結像光学系６のビーム経路にセットすることができる。このような他の形状の表面は、検出器の画素上に結像した像の位置において、光軸１３に対して他の方向を有しており、異なる色パターンが検出器５２によって検出される。これらの異なる色パターンから、異なる表面形状も計算することができる。
様々な非球面形状は、単一の結像光学系を用い、結像光学系６に対して表面を高精度に移動させることなく決定することができる。
図１に示す測定システム１は、検出器が５つの画素のみを備え、測定が３つの異なる波長に対してのみ行われる点においても優れたものと言える。実用的な実施の形態において、検出器は、例えば、１０２４×１０２４画素の高解像度を有する二次元位置感度検出器であり、測定光は、多数の異なる狭い波長帯域、例えば、数百の異なる波長帯域に調整され、各波長帯域の検出器画像がコントローラによって得られ、高精度に表面形状が計算される。
ホログラム１１は、写真乾板に参照光及び球面からの反射光を当てて生成することができる。あるいは、ホログラムは、コンピュータを用いて対応する格子を計算し、光線追跡等の方法を伴い、計算された格子をプレート７の表面９上にプロットすることによって生成されるコンピュータ生成ホログラム（ＣＧＨ）であってもよい。格子は、例えば、リソグラフィ法によって形成することができる。干渉分光法において用いられるホログラムに関する背景情報は、ダニエル マラカラの上記テキストブックの第１５章により入手可能である。
図２は、表面３ａの形状を決定するためのさらなる典型的なシステム１ａを示している。ここで、システム１ａは、図１に示すシステム１と類似している。特に、システム１ａの測定光学系６ａ及び表面３ａは、図１に示す状態と同一である。図１及び図２のシステムは、システム１ａが表面３ａを広い波長帯域の白色照明光で照明し、必要な波長選択が検出器５２ａで行われる点で異なっている。照明光学系２９ａは、白色光源２７ａの光がビーム絞り３５ａの開口３３ａに直接集束するよう、カラーフィルタを備えていない。
色選択は、表面３ａから発せられる反射光線４２ａ1 ・・・４２ａ5 を分割し、これらの光線の１つの分割部分を固定ミラー７３に入射させ、これらの光線の他の分割部分を可動ミラー７５に入射させるビームスプリッタ７１を備えたフーリエ分光計カメラ５２ａを用いて行われる。固定ミラー７３及び可動ミラー７５で反射した光線は、ビームスプリッタ７１によって再結合して、検出器チップ４９ａの検出器素子１５ａ1 、・・・、１５ａ5 に入射する。可動ミラー７５は、コントローラ６１ａによって制御されるアクチュエータ５９ａによって移動される。反射光線４２ａ1 ・・・４２ａ5 の波長分析は、光学面３ａ上の異なる位置で反射した測定光の波長を求めるため、フーリエ分光計カメラの原理に基づき、可動ミラー７５をコントローラ６１ａの制御下で移動させることによって行われる。
図３は、図２に示す結像光学系６ａのホログラム１１ａの線密度を、光軸１３ａからの距離の関数として示したグラフである。
図４は、分光計カメラ５２ａによって検出された光の波長を、光軸１３ａに対する角度の関数として、また、検出器５９ａ上に結像したホログラム１１ａ上の光軸１３ａからの距離として示したグラフである。
図５は、表面３ａの表面形状を、光軸１３ａからの距離の関数として示したグラフである。表面形状は、２７８．２ｍｍの曲率半径を有する球面形状からのずれΔδとして示されている。表面は、１７５．０ｍｍの直径（diameter）を有している。
図１及び図２に示す実施の形態において、検査される表面から発する検出測定光は、検査される表面で直接反射する光である。
図６は、レンズ５ｂの表面３ｂの形状を測定するためのシステム１ｂの一部分を模式的に示している。ここで、測定光は、検査される表面３ｂを通り抜ける。詳細には、測定光４０ｂの照明ビームは、図１又は図２に示される照明光学系と類似の照明光学系６ｂによって生成される。照明ビーム４０ｂは、プレート７ｂ上に設けられたホログラム１１ｂによって分散され、分散された光４１ｂｒ、４１ｂｇ及び４１ｂｂは、検査される表面３ｂを通り抜け、レンズ５ｂの裏面４ｂから出てくる。その後、分散されたビームは、既知の形状の基準面８１を有するミラー８２に入射する。ホログラム１１ｂの分散作用のため、入射光線４１ｂｒ、４１ｂｇ及び４１ｂｂは、ミラー８２の基準面８１に異なる角度で入射する。図６の例示において、反射光線４２ｂｇが入射光線４１ｂｇと同軸となり、結像光学系６ｂを通過して戻ることができ、開口１７ｂを通り抜けて検出器（図６には図示せず）によって検出されるよう、光線４１ｂｇのみがミラー８２の基準面８１に垂直に入射する。レンズ５ｂを再び通り抜けて最終的に表面３ｂから出てくる、ミラー８２の基準面８１で反射した入射光線４１ｂｇ及び光線４２ｂｇは、共に表面３ｂで偏向され、表面３ｂの光軸１３ｂに対する傾斜の変化により、開口１７ｂを通り抜けるよう、表面３ｂから出てくる測定光の色が変化する。
図７は、物体５ｃの表面３ｃの形状を測定するためのシステム１ｃを模式的に示している。ここで、システム１ｃは、色結像光学系６ｃの利点と干渉計測原理の利点とを組み合わせたものである。
色結像光学系６ｃは、回折素子と屈折素子の両方を備えている。測定光に対して比較的強い分散効果を有する回折素子は、プレート７ｃ上に保持されたホログラム１１ｃによって設けられている。測定光の分散に寄与し得る屈折素子は、２つのレンズ８５及び８７によって設けられている。ここで、レンズ８７は、ビーム絞り１５ｃに設けられた開口１７ｃの位置に曲率中心を有する、定曲率のフィゾー面８９を与える。測定光のビーム３７ｃの一部は、フィゾー面８９で反射し、開口１７ｃを通り抜け、検出器４９ｃに入射する。フィゾー面８９で反射しない測定光の一部はさらに、結像光学系６ｃを通り抜けることで分散され、検査される表面３ｃに入射する。表面３ｃに垂直に入射する入射測定光４１ｃの色は、開口１７ｃを通り抜けて検出器４９ｃにも入射し得るよう、入射光と同軸となるように表面３ｃで反射する。検出器上において、基準フィゾー面８９で反射した光及び検査される表面３ｃで反射した光は、コントローラ６１ｃによって分析される干渉縞を形成する。検出された光の色選択は、測定光が検査される表面３ｃに入射する前に、照明光３７ｃの照明ビーム経路に設けられたカラーフィルタ５７ｃによって行われる。光源は広帯域の光源であるため、生成された光のコヒーレンス長は、比較的短く、特に、フィゾー面８９と検査される表面３ｃとの間の距離よりも短い。
フィゾー面８９で反射した光と検査される表面で反射した光との間の干渉を得るために、光学的な遅延装置９１が照明ビーム経路に設けられている。遅延装置９１は、光源２７ｃによって生成された光ビーム３１ｃを２つの光ビーム９５及び９６に分離するためのビームスプリッタ９３を備えている。分離された光ビーム９５及び９６は、ミラー９７及び９８にそれぞれ入射し、ミラー９７及び９８でそれぞれ反射した後、ビームスプリッタ９３によって再結合される。再結合された光は、コリメータ５５ｃによって開口３３ｃに集束され、これにより照明測定光３７ｃの点光源が生じる。アクチュエータ９９は、カラーフィルタ５７ｃによって目下調整された色の入射光線４１ｃが表面３ｃに垂直に入射する位置において、ビームスプリッタ９３とミラー９７との間の光路長と、ビームスプリッタ９３とミラー９８との間の光路長との差が、フィゾー面９８と検査される表面３ｃとの間の光路長差と一致する程度までミラー９７をビーム９５の方向に移動させるよう、コントローラ６１ｃによって制御される。
白色干渉分光法を用いる従来のシステムを除き、図７に示すシステム１ｃは、分散測定光学系６ｃが測定光の検査される表面への様々な入射角度に対して干渉状態を実現することができるため、様々な形状の表面３ｃを検査するために用いることができる。
図７を参照して説明した上記実施の形態において、光学的な遅延装置９１は、照明光のビーム経路に配置されている。しかし、測定光学系６ｃと検出器装置５２ｃとの間のビーム経路に対応する装置を設けることもできる。
図８は、表面形状を測定するためのシステム１ｄのさらなる実施の形態の一部を模式的に示している。システム１ｄは、主に、色感度カメラ５２ｄの上流に設けられたビーム絞り１５ｄが、中央の円形開口ではなく環状開口１７ｄを有している点で上記実施の形態と異なる。同様に、照明光ビーム３１ｄに設けられたビーム絞り２５ｄは、対応する環状開口３３ｄを有している。このような配置により、複数の照明・結像光線４０ｄが、異なる角度で色結像光学系６ｄを横断する。特に、対称軸１３ｄ上で色結像光学系６ｄに入射する光線４０ｄ3 は、ゼロとは異なる角度で入射する。結像光学系６ｄがホログラムとして具体化されている場合には、上記実施の形態に比べて、対称軸に近接した領域で回折力が増加するという利点がある。
他の実施の形態において、開口の形状は、環状開口とは異なり、延長された直線、正方形、楕円等の形状を含む。さらに、検出器の上流の開口の形状に対応した様々な形状の光源、例えば、環状光源、延長された直線状の光源等を用いることができる。
上記実施の形態において、検査される表面に異なる波長の光を異なる入射方向から入射させるために必要な分散は、主に、照明ビーム及び結像ビームの両方が通り抜ける光学系の一部、すなわち、光源と物体との間のビーム経路及び物体と検出器との間のビーム経路に配置された格子等の光学素子によって発生される。
図９及び図１０を参照しながら、表面３ｅの形状を測定するためのシステム１ｅについて説明する。このシステム１ｅにおいて、分散は、検査される表面と検出器との間のビーム経路の外側で発生される。従って、照明光学系は、著しく色照明光学系であり、結像光学系は、色照明光学系に比べて分散が小さい。
照明光学系の分散発生部を図１０に詳細に示す。
ビーム絞り３５ｅのピンホール３３ｅから発散ビーム１６１が出射される。ビーム１６１は、同時又は続いて生成された複数の異なる波長を含んでいる。異なる波長は、本実施の形態を説明するために、赤色、緑色及び青色として示されている。ビーム１６１は、レンズ１４１によって平行光にされ、円錐レンズ１４７の錐面１６５に入射する平行ビーム１６３が形成される。円錐レンズ１４７を通り抜けたビーム１６７は、レンズ１４５に保持されたコンピュータ生成ホログラム１１ｅに入射する。図１０は、ホログラム１１ｅの同じ位置に入射するビーム１６７の２つの典型的な光線１７１及び１７２を示している。参照符号１７３は、光線１７１の＋１次回折光を示しており、参照符号１７４は、光線１７２の＋１次回折光を示している。これらの回折次数のビームは、ビーム絞り１４３によって遮断される。
光線１７１ｒ、１７１ｇ及び１７１ｂは、それぞれ、光線１７１の、−１次回折された赤色、緑色及び青色の光線を示しており、参照符号１７２ｒ、１７２ｇ及び１７２ｂは、それぞれ、光線１７２の、−１次回折された対応する赤色、緑色及び青色の光線を示している。
レンズ１４１から出射された測定光のビーム１７９のビーム断面が、このビーム断面を通り抜ける測定光の特定の色分布を有することは明らかである。赤色光は、光軸１３ｅ上の中心でこのビーム断面を通り抜け、緑色光は、赤色光部分付近の環状部分においてこのビーム断面を通り抜け、青色光は、緑色光環状部分の外側の環状部分においてこのビーム断面を通り抜ける。
レンズ１４１から出射された光は、レンズ８５ｅ、８７ｅ及び１３１〜１３７によってで形成された光学系に入射する。図９を参照し、レンズ１４１は、レンズ８５〜１３７の光学系を照射するための拡大光源として理解することができる。ここで、拡大光源１４１の断面は、色分けされた環状発光部分を有している。
さらに、このような配置から、検査される非球面３ｅ上の各位置が複数色の測定光で照明され、複数色の入射方向が互いに異なることは明らかである。
レンズ８５ｅ〜１３７の光学系はさらに、レンズ４７ｅと、環状開口１７ｅを有するビーム絞り１５ｅとをさらに備えた結像光学系の一部である。結像光学系は、実質的な分散を招くことなく、非球面３ｅの像を検出器７５ｅ上に結像するために用いられる。
図９には、システム１ｅのスペクトルセレクタは示されていない。しかし、図１のカラーフィルタ５７と類似のセレクタを、ピンホール３３ｅを照射するための光源とビーム絞り３５ｅとの間に配置してもよく、あるいは図９に模式的に示すカメラ７５ｅが、図２に示すフーリエ分光形等の波長セレクタを備えていてもよい。
システム１ｅの主要な光学部品の光学データを、下記表１に示す。
Figure 2006250942
上記実施の形態において、結像光学系は、軸に対して回転対称である。しかし、回転対称ではなく、特に、測定光に対して非回転対称の分散作用を有する結像光学系を用いることもできる。例えば、ホログラムは、異なる回折次数の分離を向上させるために、搬送周波数を含んでいてもよい。その結果、特に、検査される表面の回転軸に入射する測定光のビームは、その波長に応じて分散されるようになる。
図１〜図６を参照しながら説明した表面形状の測定システム及び方法は、高精度に作製された光学面を有する光学素子の製造に有利に用いることができる。
上記システムを用いて光学面を高精度に作製する方法について、図１１に示すフローチャートを参照しながら説明する。処理手順を開始した後、ステップ１０１において、測定光のビームのビーム経路に光学素子が配置される。ステップ１０３において、測定のために光の第１の波長が選択される。ステップ１０７において、検出器から検出された光強度を読み取ることで第１の測定が行われる。その後、全ての所望の波長で測定が行われたかどうかの判断１１１がなされる。全ての所望の波長で測定が行われていない場合には、ステップ１０７で処理が継続され、さらなる測定がステップ１０７で繰り返し行われ、ステップ１０９でさらなる波長が選択される。判断ステップ１１１で測定が完了すると、ステップ１１９において、光学面の表面マップが決定される。この表面マップの決定は、光学面３の測定に基づくものである。
ステップ１２１において、ステップ１１９で決定された表面マップに基づき、測定された光学面の形状と目標とする形状との差が計算される。ステップ１２３において、検査された非球面が、完成した光学面の仕様と対応するかどうか判断される。差が、適切に選択された閾値未満である場合、光学面に対して仕上げステップ１２５が行われる。仕上げ工程は、表面の仕上げ磨きや、適切なコーティング（例えば、スパッタリング等の適切な方法よって光学面に塗布された反射コーティング、反射防止コーティング及び保護コーティング）の堆積を含み得る。反射コーティングは、例えば、複数層（例えば、酸化モリブデン及び酸化シリコン等の誘電材料が交互に並んだ１０層）を含み得る。このような層の厚さは、約５ｎｍとすることができ、反射率が実質的に高くなるよう、光学面で反射される波長に適合される。最後に、反射コーティングを皮膜で保護するための保護キャップ層によって当該反射コーティングを被覆してもよい。保護キャップ層は、ルテニウム等の材料を堆積することによって形成される層を含み得る。レンズ素子等の光学素子の光学面での放射線の反射を低減させることを目的とする反射防止コーティングは、フッ化マグネシウム、酸化ランタン及び他の適切な材料等の材料を含み得る。反射防止コーティングもまた、保護キャプ層によって被覆してもよい。
ステップ１２３において、決定された差が閾値未満である場合には、光学面を加工するステップ１２９において処理手順が継続される。このために、光学素子は、干渉計光学系のビーム経路から取り外され、決定された表面形状と目標とする形状との差が閾値を超える光学面の表面部分を除去するために適切な機械工具に搭載される。その後、ステップ１０１において処理手順が継続され、光学素子が再び干渉計システムにおける測定光のビーム中に搭載され、光学面の表面形状が測定され、目標とする形状からの差が決定され、差が閾値未満になるまで加工が繰り返し行われる。
加工は、ミリング、研削、ルース・アブラシブ研削、研磨、イオンビーム面出し及び磁気レオロジー面出し等の動作を含み得る。
ステップ１２５において光学面の仕上げ工程が行われた後、ステップ１２７において、光学素子が送出されて光学システムに組み込まれる。その後、ステップ１０１において、次の検査される光学素子が干渉計ビーム経路に搭載され、この次の表面が仕様を満たすまで、この表面の測定及び機械加工が繰り返し行われる。
上記閾値は、光学システムに合わせて設計された光学面の光学システムにおける用途に依存する。例えば、光学面が、波長λ＝１９３ｎｍの放射線でレチクル構造をレジスト上に結像する対物レンズにおけるレンズ表面である場合、このような閾値は、約１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲とすることができ、光学面が、波長λ＝１３．５ｎｍのＥＵＶ（超紫外線）を用いた結像対物レンズにおける鏡面である場合、閾値は、約０．１ｎｍ〜１．０ｎｍの範囲となる。尚、上記閾値は、光学面の全体にわたって一定である必要がないことに留意すべきである。閾値は、例えば、光学面の中心からの距離や他のパラメータに依存するものであってもよい。特に、測定された表面とその目標とする形状との差の、異なる範囲の空間周波数に対して複数の閾値を定義してもよい。
干渉計システムの実施の形態を用いれば、干渉計システムの同じ照明及び結像光学系で、様々な形状の光学面を検査することができる。例えば、照明光学系に対し、２つの異なる光学面を各測定位置に配置することができる。ここで、対応する位置における２つの光学面の方向の差は、ａｒｃｓｉｎ（λｍｉｎ／２ｐ）よりも大きくなり得る。ここで、λｍｉｎは、測定光の最小波長であり、ｐは、検出器の検出器画素のピッチである。この文脈において、「対応する位置」という語は、以下のように理解すべきである。第１の光学面が測定位置に配置されている場合には、第１の光学面上の第１の位置の像が検出器上の選択された位置に結像される。その後、第２の光学面が測定位置に配置されると、第２の光学面上の第２の位置の像が検出器上の同じ選択された位置に結像される。第１の光学面上の第１の位置及び第２の光学面上の第２の位置の像は共に、検出器上の同じ選択された位置に結像されるため、第１の光学面上の第１の位置及び第２の光学面上の第２の位置を、第１及び第２の光学面上の「対応する位置」と称する。
例えば、検出器は、１０００×１０００個の画素を有し得る。第１及び第２の光学面はそれぞれ、２００ｍｍの直径を有し、それらの像が検出器の全面に結像される。そして、検出器画素のピッチは、一方向の画素数に対する光学面の直径の比率である２００ｍｍ／１０００に対応する。測定に用いられる最短波長は、この実施例によれば、６００ｎｍである。従って、対応する位置における第１及び第２の光学面の方向の差は、ａｒｃｓｉｎ（０．６μｍ／（２＊２００ｍｍ／１０００））＝０．０８６°よりも大きくなり得る。
上記実施の形態において、干渉計システムはフィゾー型である。しかし、本発明は、このような型の干渉計に限定されるものではないことに留意すべきである。他の型の干渉計、例えば、トワイマン−グリーン型の干渉計（その例は、ダニエル マラカラにより編集されたテキストブック、光学工場試験、第２版、ワイリー インターサイエンス パブリケーション（Wiley Interscience Publication）（１９９２）の第２．１章に説明されている）、マイケルソン型の干渉計（その例は、ダニエル マラカラにより編集されたテキストブックの第２．１章に説明されている）、マッハ−ツェンダー型の干渉計（その例は、ダニエル マラカラにより編集されたテキストブックの第２．６章に説明されている）、点回折型の干渉計（その例は、米国特許第５,５４８,４０３号明細書、及びパトリック Ｐ． ナウレアウ（Patrick P. Naulleau）らによる記事「超紫外線位相シフト点回折干渉計：サブオングストロームの参照波精度を有する波面計測器具」、応用光学‐ＩＰ、第３８巻、第３５項、７２５２〜７２６３頁、１９９９年１２月に説明されている）、及び他の適切な型の干渉計を用いてもよい。
上記実施の形態において、検査される物体は、レンズやミラー等の高精度光学素子である。しかし、本発明の概念を他の製造物の検査に適用することも可能である。例えば、自動車工学におけるバルブシートの形状を検査するために、開示のシステム及び方法を用いることができる。
要約すると、表面形状を決定するシステム及び方法は、測定光の分散を発生させる色光学系を含む。検査される表面から出て、検出器により受け取られる測定光に含まれる色情報は、検査される表面の形状を決定するために用いることができる。
いくつかの典型的な実施の形態に関して本発明を説明したが、多くの代替、修正及び変更が明らかであることは、当業者にとって明白である。従って、ここに記載した本発明の典型的な実施の形態は、説明を目的としたもので、本発明は決してこれらの実施の形態に限定されるものではない。請求項に規定された本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、種々の変更が可能である。
図１は、本発明の第１の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。 図２は、本発明の第２の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。 図３は、図２に示すシステムと類似のシステムにおいて用いられるホログラムの線密度を示すグラフである。 図４は、検査される表面上の投射位置に依存する、検出器に入射する測定光の波長を示すグラフである。 図５は、図４に示す強度から計算された表面形状を示すグラフである。 図６は、本発明の第３の実施の形態における物体の表面形状を測定するためのシステムの一部の模式図である。 図７は、本発明の第４の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。 図８は、本発明の第５の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。 図９は、本発明の第６の実施の形態における表面形状を測定するためのシステムの模式図である。 図１０は、図９に示すシステムの一部を拡大して示した模式図である。 図１１は、本発明における光学素子の製造方法のフローチャートである。

Claims (50)

  1. 物体の表面形状を決定する方法であって、
    複数の異なる波長の測定光を生成するステップと、
    前記測定光が前記表面の複数の位置に、前記各位置における第１の波長の測定光の入射方向と第２の波長の測定光の入射方向との差が１分よりも大きい状態で入射するように、前記測定光を色照明光学系を通過させて前記物体の表面上に向けるステップと、
    前記物体の表面で反射した測定光の一部を、結像光学系に入射する複数の異なる波長の前記反射測定光の１／３を超える測定光の検出器の光検出面への入射を遮断した状態で、前記結像光学系を通過させて前記検出器の光検出面上に向けるステップと、
    前記検出器に入射する前記測定光の波長依存強度分布を検出するステップと、
    検出された前記波長依存強度分布に基いて前記物体の表面形状を決定するステップとを含むことを特徴とする方法。
  2. 前記結像光学系に入射する前記反射測定光は、所定形状の開口を有するビーム絞りによって前記検出器の光検出面への入射が遮断される請求項１に記載の方法。
  3. 複数の異なる波長の前記測定光は、前記物体の表面に同時に入射し、前記波長依存強度分布の検出は、前記結像光学系を通り抜けた前記測定光の分光分析を含む請求項１に記載の方法。
  4. 複数の異なる波長の前記測定光は、前記物体の表面に同時に入射し、前記波長依存強度分布の検出は、前記異なる波長における前記測定光の強度分布を続いて検出することを含む請求項１に記載の方法。
  5. 複数の異なる波長の前記測定光の生成は、単一の波長範囲の前記測定光を一時に生成し、その後、生成された前記測定光の波長範囲を変更することを含む請求項１に記載の方法。
  6. 参照光を生成し、前記参照光を前記検出器上に向けて前記物体の表面で反射した前記測定光の部分と重ね合わせるステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
  7. 前記物体の表面形状の決定は、重ね合わせた前記参照光と前記測定光とによって生成された干渉縞を分析することを含む請求項６に記載の方法。
  8. 前記参照光は、前記物体の表面に入射する前記測定光のビーム経路において、生成された前記測定光の一部を前記物体の表面の上流に配置された基準面で反射させることにより生成される請求項６に記載の方法。
  9. 前記照明光学系及び結像光学系は、それぞれ複数の光学素子を有し、少なくとも１つの前記光学素子は、前記照明光学系及び結像光学系の両方の構成要素である請求項１に記載の方法。
  10. 前記色照明光学系は、回折格子を含む請求項１に記載の方法。
  11. 前記回折格子は、前記照明光学系及び結像光学系の両方の構成要素である請求項１０に記載の方法。
  12. 前記回折格子は、前記結像光学系の外側に配置されている請求項１０に記載の方法。
  13. 前記色照明光学系は、前記物体の表面に入射する前記測定光のビーム経路の位置にビーム断面を有し、重複しない、異なる波長帯域の測定光が、前記ビーム断面の、重複しない、異なる領域を通り抜ける請求項１に記載の方法。
  14. 前記ビーム断面の重複しない領域は、環状である請求項１に記載の方法。
  15. 物体の表面形状を決定する方法であって、
    前記物体の表面に異なる入射方向から入射する、異なる波長の測定光を生成するステップと、
    前記表面の広範な領域から出てくる測定光に結像光学系を通り抜けさせるステップと、
    前記結像光学系を通り抜けた前記測定光の複数の光線群の各々の光強度を検出するステップと、
    検出された前記光強度に基づいて、前記物体の表面の前記広範な領域の形状を決定するステップとを含み、
    各光線群は、その光線の波長範囲及び所定の方向に対する光線の角度範囲を前記光線群と関連付けて有しており、
    前記群は、全群の１／２未満の群の検出された光強度がバックグラウンド強度の２倍よりも大きくなるように選択されることを特徴とする方法。
  16. 前記光強度の検出は、前記結像光学系を通り抜けた前記測定光の一部のみがビーム絞りに設けられた開口を通り抜けるようにし、前記開口を通り抜けた前記測定光の前記一部の光強度を検出することを含む請求項１５に記載の方法。
  17. 前記光線群の選択は、間隔を置いて設けられた複数の検出器素子を有する位置感度検出器を用いることを含む請求項１５に記載の方法。
  18. 前記物体の表面に入射する前記測定光の生成は、前記測定光を、前記結像光学系を通過させて方向付けることを含む請求項１５に記載の方法。
  19. 前記表面から出てくる前期測定光は、前記表面で反射した測定光である請求項１８に記載の方法。
  20. 目標とする形状の表面を有する物体の製造方法であって、
    複数の異なる波長の測定光を生成するステップと、
    前記測定光が前記表面の複数の位置に、前記各位置における第１の波長の測定光の入射方向と第２の波長の測定光の入射方向との差が１分よりも大きい状態で入射するように、前記測定光を、色照明光学系を通過させて前記物体の表面上に向けるステップと、
    前記物体の表面で反射した測定光の一部を、結像光学系に入射する複数の異なる波長の前記反射測定光の１／３を超える測定光の検出器の光検出面への入射を遮断した状態で、前記結像光学系を通過させて前記検出器の光検出面上に向けるステップと、
    前記検出器に入射する前記測定光の波長依存強度分布を検出するステップと、
    検出された前記波長依存強度分布に基いて前記物体の表面形状のずれを決定するステップと、
    前記決定されたずれに基づいて前記物体の表面を加工するステップとを含むことを特徴とする方法。
  21. 前記結像光学系に入射する前記反射測定光は、所定形状の開口を有するビーム絞りによって前記検出器の光検出面への入射が遮断される請求項２０に記載の方法。
  22. 複数の異なる波長の前記測定光は、前記物体の表面に同時に入射し、前記波長依存強度分布の検出は、前記結像光学系を通り抜けた前記測定光の分光分析を含む請求項２０に記載の方法。
  23. 複数の異なる波長の前記測定光は、前記物体の表面に同時に入射し、前記波長依存強度分布の検出は、前記異なる波長における前記測定光の強度分布を続いて検出することを含む請求項２０に記載の方法。
  24. 複数の異なる波長の前記測定光の生成は、単一の波長範囲の前記測定光を一時に生成し、その後、生成された前記測定光の波長範囲を変更することを含む請求項２０に記載の方法。
  25. 参照光を生成し、前記参照光を前記検出器上に向けて前記物体の表面で反射した前記測定光の部分と重ね合わせるステップをさらに含む請求項２０に記載の方法。
  26. 前記物体の表面形状の決定は、重ね合わせた前記参照光と前記測定光とによって生成された干渉縞を分析することを含む請求項２５に記載の方法。
  27. 前記色照明光学系は、回折格子を含む請求項２０に記載の方法。
  28. 前記目標とする形状は、非球面形状である請求項２０に記載の方法。
  29. 前記物体の表面の加工は、ミリング、研削、ルース・アブラシブ研削、研磨、イオンビーム面出し及び磁気レオロジー面出しの少なくとも１つと、前記物体の表面の仕上げ加工とを含む請求項２０に記載の方法。
  30. 前記仕上げ加工は、前記表面にコーティングを塗布することを含む請求項２９に記載の方法。
  31. 前記コーティングは、反射コーティング、反射防止コーティング及び保護コーティングの少なくとも１つを含む請求項３０に記載の方法。
  32. 物体の表面形状を測定するシステムであって、
    広い波長範囲内の測定光を生成する光源と、
    前記測定光を前記物体の表面上に向ける色照明光学系であって、測定される前記物体に最も近接して配置された光学素子の前面を有し、前記前面上の複数の位置の各々において、第１の波長の測定光の出射方向と第２の波長の測定光の出射方向との差が１分よりも大きくなるような分散を生じさせる色照明光学系と、
    前記物体の表面の像を検出器の光検出面上に結像する結像光学系であって、そのビーム経路内に配置された、開口を有するビーム絞りを備え、前記開口の断面が、前記ビーム絞りの上流の当該結像光学系の前記ビーム経路の有効断面の１／３よりも小さい結像光学系と、
    前記光源と前記検出器との間の前記測定光のビーム経路に配置され、狭い波長範囲内の測定光のみを透過するスペクトルセレクタとを備えたことを特徴とするシステム。
  33. 前記スペクトルセレクタは、前記照明光学系の上流の前記測定光のビーム経路に配置されている請求項３２に記載のシステム。
  34. 前記スペクトルセレクタは、前記結像光学系の下流の前記測定光のビーム経路に配置されている請求項３２に記載のシステム。
  35. 前記スペクトルセレクタは、干渉フィルタを含む請求項３２に記載のシステム。
  36. 前記色照明光学系は、回折格子を含む請求項３２に記載のシステム。
  37. 前記結像光学系を含む測定アームと、反射基準面を含む基準アームとを有する干渉計をさらに備えた請求項３２に記載のシステム。
  38. 前記基準面は、前記結像光学系に配置されている請求項３７に記載のシステム。
  39. 前記測定光のコヒーレンス長は、前記基準面と、検査される前記光学面に最も近接して配置された前記照明光学系の前面との間の光路長よりも短い請求項３４に記載のシステム。
  40. 物体の表面形状を測定するシステムであって、
    結像光学系と、
    開口を有するビーム絞りと、
    前記物体の表面が、前記結像光学系に対して前記開口と共役になる位置から距離を隔てて配置されるよう、前記物体を搭載するように構成された試験片取付台と、
    前記物体の表面から出て、前記結像光学系及び前記開口を通り抜けた測定光を検出するための位置感度検出器と、
    広い波長範囲内の測定光を生成する光源と、
    前記測定光を前記表面上に向ける色照明光学系と、
    前記広い波長範囲から、前記位置感度検出器に入射する前記測定光の、前記広い波長範囲の幅に対するその幅の比率が１／４未満である、調整可能な狭い波長範囲を選択するためのスペクトルセレクタと、
    複数の異なる狭い波長範囲が続いて調整されるように前記スペクトルセレクタを制御し、前記複数の異なる狭い波長範囲の各々に関し、前記位置感度検出器によって検出された光強度の表示を受け取るように構成されたコントローラとを備えたことを特徴とするシステム。
  41. 前記スペクトルセレクタは、前記光源の発光波長を調整するための前記光源のコントローラを含む請求項４０に記載のシステム。
  42. 前記スペクトルセレクタは、前記光源と前記物体の表面との間の前記測定光のビーム経路に配置されたスペクトルフィルタを含む請求項４０に記載のシステム。
  43. 前記スペクトルセレクタは、前記物体の表面と前記位置感度検出器との間の前記測定光のビーム経路に配置されたスペクトルフィルタを含む請求項４０に記載のシステム。
  44. 前記色照明光学系は、回折格子を含む請求項４０に記載のシステム。
  45. 前記結像光学系を含む測定アームと、反射基準面を含む基準アームとを有する干渉計をさらに備えた請求項４０に記載のシステム。
  46. 前記基準面は、前記結像光学系によって設けられている請求項４５に記載のシステム。
  47. 前記測定光のコヒーレンス長は、前記基準面と前記物体の前記光学面との間の光路長差よりも短い請求項４６に記載のシステム。
  48. 物体の表面形状を決定する方法であって、
    前記物体の表面に異なる入射方向から入射する、異なる波長の測定光を生成するステップと、
    前記物体で反射した前記測定光の波長依存強度分布を検出するステップと、
    検出された前記波長依存強度分布に基づいて、前記物体の表面の形状を決定するステップとを含むことを特徴とする方法。
  49. 前記検出は、前記物体で反射し、検出される前記物体で反射した前記測定光の少なくとも１／２を遮断するように構成されたビーム絞りの開口を通り抜けた前記測定光の波長依存強度分布を検出することを含む請求項４８に記載の方法。
  50. 物体の表面形状を測定するシステムであって、
    波長範囲内の測定光を生成する光源と、
    前記測定光を前記物体の表面上に向ける照明光学系と、
    前記物体の表面の像を検出器の光検出面上に結像する結像光学系とを備え、
    前記照明光学系と前記結像光学系は、第１及び第２の光学非球面を前記照明光学系に対して配置することができるように構成されており、前記第１及び第２の光学非球面の対応する位置の像が、前記検出器の前記光検出面上の同じ位置に結像され、前記対応する位置における前記第１及び第２の光学非球面の方向の差が、λｍｉｎを、前記測定光の最小波長、ｐを、前記検出器の前記光検出面における検出器画素のピッチとしたときのａｒｃｓｉｎ（λｍｉｎ／２ｐ）よりも大きくなり得ることを特徴とするシステム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009168593A (ja) * 2008-01-16 2009-07-30 Hiroo Kinoshita 形状測定装置
JP2009540321A (ja) * 2006-06-14 2009-11-19 ユニヴァーシティ オブ ハダーズフィールド 表面特性測定装置
US8493558B2 (en) 2008-10-10 2013-07-23 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Surface inspection apparatus

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7580586B1 (en) * 2005-04-19 2009-08-25 Lockheed Martin Corporation Enhanced recovery of low spatial frequency spectral information in a Fizeau Fourier transform spectrometer
FI119259B (fi) * 2006-10-18 2008-09-15 Valtion Teknillinen Pinnan ja paksuuden määrittäminen
US7869058B2 (en) * 2006-11-16 2011-01-11 Restaino Sergio R Apparatuses and methods for evaluating performance of optical systems
DE102007002880B4 (de) * 2007-01-15 2011-08-25 DMG Microset GmbH, 33689 Verfahren und Vorrichtung zum optischen Ausmessen eines Objekts, insbesondere eines Werkstücks oder Werkzeugs
FR2923006B1 (fr) * 2007-10-29 2010-05-14 Signoptic Technologies Dispositif optique pour l'observation de details structurels millimetriques ou submillimetriques d'un objet a comportement speculaire
US8294904B2 (en) * 2008-05-29 2012-10-23 Corning Incorporated Fizeau lens having aspheric compensation
US7899573B2 (en) * 2008-06-16 2011-03-01 GM Global Technology Operations LLC Non-contact method and system for inspecting a multi-faceted machine surface
JP5394317B2 (ja) * 2010-05-17 2014-01-22 富士フイルム株式会社 回転対称非球面形状測定装置
GB2497792A (en) * 2011-12-21 2013-06-26 Taylor Hobson Ltd Metrological apparatus comprising a confocal sensor
US10183732B2 (en) * 2015-04-09 2019-01-22 University of New Hamphire Pose detection and control of unmanned underwater vehicles (UUVs) utilizing an optical detector array
CN107121058B (zh) * 2016-02-25 2020-09-15 株式会社三丰 测量方法
CN107121084B (zh) 2016-02-25 2023-12-29 株式会社三丰 测量方法和测量程序
KR102289043B1 (ko) * 2017-07-25 2021-08-10 삼성전자주식회사 스펙트럼 측정 장치 및 방법
WO2019063738A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 Sony Semiconductor Solutions Corporation APPARATUS AND METHOD
CN110579187B (zh) * 2019-08-26 2021-06-11 武汉光迅科技股份有限公司 一种信息确定方法、电子设备及计算机可读存储介质

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4340306A (en) * 1980-02-04 1982-07-20 Balasubramanian N Optical system for surface topography measurement
IT1198660B (it) * 1983-08-02 1988-12-21 Ottica Ist Naz Profilometro ottico multifocale per dispersione
US4710642A (en) * 1985-08-20 1987-12-01 Mcneil John R Optical scatterometer having improved sensitivity and bandwidth
US4732483A (en) * 1987-03-19 1988-03-22 Zygo Corporation Interferometric surface profiler
DE3836564A1 (de) 1988-10-27 1990-05-03 Zeiss Carl Fa Verfahren zur pruefung von optischen elementen
US5488477A (en) * 1993-11-15 1996-01-30 Zygo Corporation Methods and apparatus for profiling surfaces of transparent objects
US5473434A (en) * 1994-05-16 1995-12-05 Zygo Corporation Phase shifting interferometer and method for surface topography measurement
US5548403A (en) * 1994-11-28 1996-08-20 The Regents Of The University Of California Phase shifting diffraction interferometer
US5589938A (en) * 1995-07-10 1996-12-31 Zygo Corporation Method and apparatus for optical interferometric measurements with reduced sensitivity to vibration
US5867276A (en) * 1997-03-07 1999-02-02 Bio-Rad Laboratories, Inc. Method for broad wavelength scatterometry
US6312373B1 (en) * 1998-09-22 2001-11-06 Nikon Corporation Method of manufacturing an optical system
US6404544B1 (en) * 1999-06-01 2002-06-11 Optical Perspectives Group, Llc Wavelength multiplexed quantitative differential interference contrast microscopy
GB2355310A (en) * 1999-09-28 2001-04-18 Ocular Sciences Ltd White light interferometer
US6943895B2 (en) * 2000-03-30 2005-09-13 Robert Bosch Gmbh Interferometric measuring device
FR2807830B1 (fr) * 2000-04-14 2002-08-16 Architecture Traitement D Imag Dispositif d'acquisition d'une forme tridimensionnelle par voie optoelectronique
US6924898B2 (en) * 2000-08-08 2005-08-02 Zygo Corporation Phase-shifting interferometry method and system
US6781700B2 (en) 2001-06-20 2004-08-24 Kuechel Michael Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts
WO2003021184A1 (en) 2001-09-04 2003-03-13 Zygo Corporation Rapid in-situ mastering of an aspheric fizeau
US6714307B2 (en) * 2001-10-16 2004-03-30 Zygo Corporation Measurement of complex surface shapes using a spherical wavefront
US6717679B2 (en) * 2001-11-15 2004-04-06 Zygo Corporation Dispersive null-optics for aspheric surface and wavefront metrology
JP4312602B2 (ja) 2001-11-16 2009-08-12 ザイゴ コーポレイション 非球面表面および波面の走査干渉計
US6813034B2 (en) * 2002-02-05 2004-11-02 Therma-Wave, Inc. Analysis of isolated and aperiodic structures with simultaneous multiple angle of incidence measurements
US7130059B2 (en) * 2002-06-24 2006-10-31 Light Gage, Inc Common-path frequency-scanning interferometer

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009540321A (ja) * 2006-06-14 2009-11-19 ユニヴァーシティ オブ ハダーズフィールド 表面特性測定装置
JP2009168593A (ja) * 2008-01-16 2009-07-30 Hiroo Kinoshita 形状測定装置
US8493558B2 (en) 2008-10-10 2013-07-23 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Surface inspection apparatus

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