JP2009157956A - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体100の製造方法であって、上層の結晶方位を制御する下地層118を成膜する下地層成膜工程と、下地層118の結晶方位に応じた方向に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子306が非磁性物質308のマトリックス中に分散するグラニュラ構造の磁気記録層である主記録層120を成膜する磁気記録層成膜工程とを備え、下地層成膜工程は、希ガスと多原子分子ガスとの混合ガスをスパッタリングガスとして用いるスパッタリング法により、下地層118の少なくとも最上層部を成膜する。
【選択図】図1
Description
(実施例1)
最初に、アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円盤状に成型し、ガラスディスクを作成した。そして、このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性ディスク基体である基板110を得た。基板110の直径は、65mm、内径は20mm、ディスク厚は0.635mmの2.5インチ型磁気ディスク用基板である。得られた基板110の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で観察したところ、Rmaxが2.18nm、Raが0.18nmの平滑な表面であることを確認した。尚、Rmax及びRaは、日本工業規格(JIS)に従う。
下地層118における結晶粒径制御層204の成膜時のスパッタリングガスに含まれる酸素ガスの濃度を、実施例2において0.46%、実施例3において0.90%にした以外は実施例1と同様にして、実施例2、3に係る垂直磁気記録媒体100を作成した。
下地層118における結晶粒径制御層204の成膜時のスパッタリングガスに含まれる酸素ガスの濃度を0%として、Arのみからなるスパッタリングガスを用いた以外は実施例1と同様にして、比較例1に係る垂直磁気記録媒体100を作成した。
比較例1の構成に対し、下地層118と主記録層120との間に第1オンセット層及び第2オンセット層を更に成膜した。第1オンセット層及び第2オンセット層は、下地層118のhcp構造の上に順次形成される非磁性のグラニュラ構造の層である。このような第1オンセット層及び第2オンセット層の上に主記録層120を形成することにより、磁性のグラニュラ構造の層である主記録層120において、初期段階(立ち上がり)から磁性結晶粒子間を分離させ、磁性結晶粒子を微細化できる。
実施例1〜3、比較例1、参考例に対して、保磁力Hcの測定を行った。図2は、保持力Hcの評価結果を示すグラフである。
Claims (5)
- 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
上層の結晶方位を制御する下地層を成膜する下地層成膜工程と、
前記下地層の結晶方位に応じた方向に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子が非磁性物質のマトリックス中に分散するグラニュラ構造の磁気記録層を成膜する磁気記録層成膜工程と
を備え、
前記下地層成膜工程は、希ガスと多原子分子ガスとの混合ガスをスパッタリングガスとして用いるスパッタリング法により、前記下地層の少なくとも最上層部を成膜することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記下地層は、hcp結晶構造のRuの層であり、
前記磁気記録層の前記磁性結晶粒子は、hcp結晶構造の磁性結晶粒子であることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記多原子分子ガスは、酸素ガスであることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記混合ガスは、0.8〜3.0%の濃度の酸素ガスを含むことを特徴とする請求項3に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記下地層成膜工程は、
前記磁気記録層から遠い下層側に形成される第1層と、前記第1層上に形成される第2層とを含む前記下地層を成膜し、
希ガスのみをスパッタリングガスとして用いるスパッタリング法により、前記第1層を成膜し、
希ガスと多原子分子ガスとの混合ガスをスパッタリングガスとして用い、かつ、ガス圧を前記第1層の形成時よりも高くするスパッタリング法により、前記第2層を成膜することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2010137534A1 (ja) * | 2009-05-24 | 2010-12-02 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (2)
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JP2005190517A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP2008276833A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
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