JP2009093784A - 不揮発性メモリセルプログラミング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1、第2、第3、第4、第5プログラミングステップを含み、第1及び第2プログラミングステップはプログラミング対象データの第1及び第2ビット値によって不揮発性メモリセルのしきい電圧が第1ないし第4しきい電圧分布のうち一つのしきい電圧分布に属するようにプログラミングし、第3プログラミングステップはデータの第3ビット値によって第1及び第2ビットによるしきい電圧をそのまま維持させるか、又は不揮発性メモリセルのしきい電圧が第5ないし第8しきい電圧分布のうち既定の一つのしきい電圧分布に属するようにプログラミングし、第4及び第5プログラミングステップは第1及び第2ビット値によって不揮発性メモリセルのしきい電圧が第5ないし第8しきい電圧分布のうち一つのしきい電圧に属するようにプログラミングする不揮発性メモリセルプログラミング方法である。
【選択図】図1A
Description
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施形態を説明することにより、本発明を詳細に説明する。各図面に提示された同じ参照符号は同じ部材を示す。
図1Bは、本発明による不揮発性メモリセルプログラミング方法で利用されるコードを示す図面である。
図2は、本発明による不揮発性メモリセルプログラミング方法で第1ビット及び第2ビットをプログラミングする第1及び第2プログラミングステップを説明する図面である。
図3は、図2の第1ビットをプログラミングする第1プログラミングステップを示すフローチャートである。
図4は、図2の第2ビットをプログラミングする第2プログラミングステップを示すフローチャートである。
図6は、図5の第3ビットをプログラミングする第3プログラミングステップを示すフローチャートである。
図9は、図7の第2ビットをプログラミングする第5プログラミングステップを示すフローチャートである。
図10Bは、本発明と比較するための不揮発性メモリセルプログラミング方法で利用されるコードを示す図面である。
図11は、図10Aの第3ビットをプログラミングするステップを示すフローチャートである。
VR1ないしVR7 第1ないし第7検証電圧
Claims (15)
- 所定のしきい電圧を有するようにプログラミングされる不揮発性メモリセルのプログラミング方法において、
プログラミング対象データの第1ビット及び第2ビット値によって、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧を第1ないし第4しきい電圧分布のうち一つのしきい電圧分布に属させる第1及び第2プログラミングステップと、
前記データの第3ビット値によって、前記第1ビット及び前記第2ビットによるしきい電圧をそのまま維持させるか、または前記不揮発性メモリセルのしきい電圧を第5ないし第8しきい電圧分布のうち既定の一つのしきい電圧分布に属させる第3プログラミングステップと、
前記第1ビット及び前記第2ビット値によって、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧を前記第5ないし第8しきい電圧分布のうち一つのしきい電圧に属させる第4及び第5プログラミングステップと、を含むことを特徴とする不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記第4及び第5プログラミングステップで、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧が属するしきい電圧分布の位置は、前記第1及び第2プログラミングステップで、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧が属するしきい電圧分布の位置と対称的であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。
- 前記第3プログラミングステップで、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧がそのまま維持された場合、前記第4及び第5プログラミングステップは行われないことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。
- 前記第3プログラミングステップの既定の一つのしきい電圧分布は、第5しきい電圧分布であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。
- 前記第3プログラミングステップ以後に、前記第4及び第5プログラミングステップで利用される前記第1ビット及び前記第2ビット値を前記不揮発性メモリセルから読み取る内部読み取りステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。
- 前記内部読み取りステップは、前記第3プログラミングステップで既定の一つのしきい電圧分布に属するようにプログラミングされた場合に行われることを特徴とする請求項5に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。
- 前記第3プログラミングステップ以後に、
前記第1ないし第4しきい電圧分布より高い電圧レベルを有し、前記第5ないし第8しきい電圧分布より低い電圧レベルを有する検証電圧を基準として、前記不揮発性メモリセルに書き込まれた第3ビット値を検証するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記第4及び第5プログラミングステップは、
前記第1ビット値によって、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧を前記第5及び第6しきい電圧分布のうち一つのしきい電圧に属させる第4プログラミングステップと、
前記第4プログラミングステップでプログラミングされたしきい電圧分布及び前記第2ビット値によって、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧を前記第5ないし第8しきい電圧分布のうち一つのしきい電圧に属させる第5プログラミングステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記第5プログラミングステップは、
前記第4プログラミングステップでプログラミングされた前記不揮発性メモリセルのしきい電圧が第5しきい電圧分布に属する場合、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧が前記第5しきい電圧分布または前記第8しきい電圧分布に属するようにプログラミングし、
前記第4プログラミングステップでプログラミングされた前記不揮発性メモリセルのしきい電圧が第6しきい電圧分布に属する場合、前記不揮発性メモリセルのしきい電圧が前記第6しきい電圧分布または前記第7しきい電圧分布に属するようにプログラミングすることを特徴とする請求項8に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記第4プログラミングステップ以後に、
前記第5しきい電圧分布より高い電圧レベルを有し、前記第6ないし第8しきい電圧分布より低い電圧レベルを有する検証電圧を基準として、前記不揮発性メモリセルを検証するステップをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記第5プログラミングステップ以後に、
前記第6しきい電圧分布より高い電圧レベルを有し、前記第7及び第8しきい電圧分布より低い電圧レベルを有する検証電圧を基準として、前記不揮発性メモリセルを検証するステップと、
前記第7しきい電圧分布より高い電圧レベルを有し、前記第8しきい電圧分布より低い電圧レベルを有する検証電圧を基準として、前記不揮発性メモリセルを検証するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記第3ビットを受信してローディングするステップをさらに含み、
前記第3プログラミングステップは、前記ローディングされた第3ビットをプログラミングすることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。 - 前記不揮発性メモリセルは、nビットのデータが保存されるマルチレベルフラッシュ不揮発性メモリセルであることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリセルプログラミング方法。
- 不揮発性メモリセルのしきい電圧が属する複数個のしきい電圧分布にコードをマッピングするコードマッピング方法において、
第1ないし第4しきい電圧分布をそれぞれ指す第1ないし第4コードの第1ビット及び第2ビットは、第5ないし第8しきい電圧分布をそれぞれ指す第5ないし第8コードの第1ビット及び第2ビットとそれぞれ同一であり、
前記第1ないし第4コードの第3ビットは、前記第5ないし第8コードの第3ビットとそれぞれ異なることを特徴とするコードマッピング方法。 - 前記第1ないし第4コードの第3ビットは同一であり、
前記第5ないし第8コードの第3ビットは同一であることを特徴とする請求項14に記載のコードマッピング方法。
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