JP2009091359A - 精製テレフタル酸の製造法および装置 - Google Patents
精製テレフタル酸の製造法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009091359A JP2009091359A JP2008294438A JP2008294438A JP2009091359A JP 2009091359 A JP2009091359 A JP 2009091359A JP 2008294438 A JP2008294438 A JP 2008294438A JP 2008294438 A JP2008294438 A JP 2008294438A JP 2009091359 A JP2009091359 A JP 2009091359A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terephthalic acid
- solution
- purified terephthalic
- stage purified
- filter cake
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/14—Monocyclic dicarboxylic acids
- C07C63/15—Monocyclic dicarboxylic acids all carboxyl groups bound to carbon atoms of the six-membered aromatic ring
- C07C63/26—1,4 - Benzenedicarboxylic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【課題】未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の望ましくない材料から選択される不純物も含んでいる粗製テレフタル酸の液体分散液から粗製テレフタル酸を精製する方法及び装置を提供する。
【解決手段】分散液を濾過して粗製テレフタル酸フィルターケーキ(F−1)を形成し、このフィルターケーキを高温で選択的結晶化溶媒に溶解して溶液(T−3、T−4)を形成し、結晶化溶媒の溶液から精製テレフタル酸を溶液(S−1)の温度を下げることによって結晶化させ、結晶化した精製テレフタル酸を溶液(F−2)から分離する段階を含む方法とする。本発明によれば、選択的結晶化溶媒は非水性、非腐食性であり、本質的にテレフタル酸と反応しない。選択的結晶化溶媒はN−メチルピロリドンであるのが好ましい。この方法及び装置は、商業的に魅力ある割合で、かつ資金が少なくかつ単純化した工程で済む余り厳密でない操作条件でポリエステル樹脂及び他の生成物の形成に用いるのに望ましい純度の精製テレフタル酸を生成する。
【選択図】なし
【解決手段】分散液を濾過して粗製テレフタル酸フィルターケーキ(F−1)を形成し、このフィルターケーキを高温で選択的結晶化溶媒に溶解して溶液(T−3、T−4)を形成し、結晶化溶媒の溶液から精製テレフタル酸を溶液(S−1)の温度を下げることによって結晶化させ、結晶化した精製テレフタル酸を溶液(F−2)から分離する段階を含む方法とする。本発明によれば、選択的結晶化溶媒は非水性、非腐食性であり、本質的にテレフタル酸と反応しない。選択的結晶化溶媒はN−メチルピロリドンであるのが好ましい。この方法及び装置は、商業的に魅力ある割合で、かつ資金が少なくかつ単純化した工程で済む余り厳密でない操作条件でポリエステル樹脂及び他の生成物の形成に用いるのに望ましい純度の精製テレフタル酸を生成する。
【選択図】なし
Description
本発明は、精製テレフタル酸の製造法および装置に関する。本発明は、粗製テレフタル酸を精製し、ガラス繊維のような他の材料で強化されることが多い繊維、フィルム、プラスチックボトル及びポリエステル樹脂構造体の製造にも用いられるポリエステルの有用な出発材料である精製テレフタル酸生成物を製造する方法及び装置にも関する。
発明の背景
精製テレフタル酸(PTA)は、ポリエステル樹脂であって、様々な用途を有する多くの商業材料を作成するのにも用いられるものを形成するための出発材料である。精製テレフタル酸は、従来は多くの場合触媒を用いる多数の精製法によって「粗製」テレフタル酸から形成される。これまで用いられてきた粗製テレフタル酸の精製法は、工学的見地または経済的見地のいずれからも完全に満足なものではないが、精製テレフタル酸の純度は、ポリエステル樹脂を形成する方法の満足度を決定する上で重要なものである。
精製テレフタル酸(PTA)は、ポリエステル樹脂であって、様々な用途を有する多くの商業材料を作成するのにも用いられるものを形成するための出発材料である。精製テレフタル酸は、従来は多くの場合触媒を用いる多数の精製法によって「粗製」テレフタル酸から形成される。これまで用いられてきた粗製テレフタル酸の精製法は、工学的見地または経済的見地のいずれからも完全に満足なものではないが、精製テレフタル酸の純度は、ポリエステル樹脂を形成する方法の満足度を決定する上で重要なものである。
様々な出発材料から粗製フタル酸を形成するための多数の反応系が知られている。本発明の精製態様をこれらの反応系の実質的にいずれとも用いることができるが、本発明によれば、パラキシレン(p−キシレン)の酸化を伴う反応系を用いるのが好ましく、このような合成系の使用は本発明の一部を形成する。
精製テレフタル酸を製造するための現在及び従来の系の問題は、経済的に粗製テレフタル酸を良好な収率で製造するための反応系を実施することが困難であり、粗製テレフタル酸を精製して不純物やポリエステルの出発材料として好適な品質の精製テレフタル酸を製造するのに望ましくない成分を除去することが困難であることに相俟って集中している。従来の系に付随する問題点としては、PTAプラントに高額の資金が必要であり、従来の方法の操作条件が厳しく、これらは粗製テレフタル酸の製造についても、その精製についても言えることであり、また触媒系及び反応溶媒並びに反応副生成物を環境問題をできるだけ少なくし且つ材料の損失も制御されるような方法で処理することが必要であることが挙げられる。
発明の概要
本発明によれば、精製テレフタル酸の製造方法及び装置が提供される。一つの態様では、この方法は、p−キシレンの酸化による粗製テレフタル酸の製造を含んでいる。この酸化段階では、テレフタル酸だけでなく副反応によりp−トルイル酸及び4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)も生成する。酸化段階で製造された生成物は、未反応出発材料、溶媒を用いる場合には溶媒、副反応の生成物、特に前記のもの、及び目的とする精製テレフタル酸では望ましくない他の材料を含む液体分散液である。本発明の酸化段階は、粗製テレフタル酸への転換率がp−キシレンの通過当たり少なくとも約30重量%となるように行なわれる。
本発明によれば、精製テレフタル酸の製造方法及び装置が提供される。一つの態様では、この方法は、p−キシレンの酸化による粗製テレフタル酸の製造を含んでいる。この酸化段階では、テレフタル酸だけでなく副反応によりp−トルイル酸及び4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)も生成する。酸化段階で製造された生成物は、未反応出発材料、溶媒を用いる場合には溶媒、副反応の生成物、特に前記のもの、及び目的とする精製テレフタル酸では望ましくない他の材料を含む液体分散液である。本発明の酸化段階は、粗製テレフタル酸への転換率がp−キシレンの通過当たり少なくとも約30重量%となるように行なわれる。
更に本発明によれば、酸化装置からの粗製テレフタル酸は、最初に酸化装置からの他の材料と大まかに分離した後、これを選択的な結晶化溶媒及び場合によっては1種類以上の下記の本発明の追加溶媒に再溶解させる。次に、再溶解した粗製テレフタル酸を、選択的結晶化溶媒及び本発明の追加溶媒から、1または好ましくは2回の結晶化工程で結晶させる。結晶して、次第に精製されるテレフタル酸を本発明の溶媒から分離する準備をし、最終的に得られた精製テレフタル酸のフィルターケーキを本発明の他の溶媒で洗浄して、最後に乾燥して保存しまたは更に加工を行なう。
本発明は、回収した材料の幾らかを酸化装置に再循環させることを含む結晶化及び洗浄の各工程での本発明の溶媒を再生し、再循環させる段階が含まれるものでもある。環境を傷付ける可能性のある材料の送出を厳密に制御する段階も用いられる。
重要な態様では、本発明は、結晶化及び分離段階による粗製テレフタル酸の精製を行なうのに有効な溶媒に関する幾つかの発見に基づいている。これらの発見は、下記のような幾つかの方法にまとめることができる。
本発明の実施に有用な選択的な結晶化溶媒としては、(a) テレフタル酸から分離してそれを精製しようとする不純物は、テレフタル酸を含む溶媒を処理しようとする温度の望ましい範囲内のほぼ総ての温度において、相対的にテレフタル酸よりも溶媒に可溶性であるもの、及び(b) テレフタル酸が高温では一層可溶性であり、低温または減少した温度では余り可溶性ではないものが挙げられる。「選択的結晶化溶媒」という用語は、前記、及び下記に更に詳細に記載されかつ図2に示されているテレフタル酸の選択的結晶化に有用な溶媒を意味するものとすることを理解すべきである。
尚、米国特許第3,465,035号明細書には、ある種の有機溶媒(ピリジン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドなど)を用いてテレフタル酸を精製したが、これらは空気中で不安定である欠点を有し、テレフタル酸と容易に付加生成物を形成することが述べられている点に留意すべきである。この特許明細書には、他の幾つかのものと共に、酢酸及び水をテレフタル酸の精製溶媒として用いることも教示されている。対照的に、本発明による選択的結晶化溶媒は、(a) 非水性で、(b) 非腐食性で、(c) テレフタル酸とほとんど反応せず、前記の従来の実施に用いたものを包含しない。具体的には、水、酢酸(及び他のアルキル酸)、及び前記の有機溶媒は、本発明によって考慮される選択的結晶化溶媒から除外される。
本発明によれば、主要な好ましい選択的結晶化溶媒は、下記の幾つかの理由及びその優れた性能からN−メチルピロリドン(NMP)である。
N−メチルピロリドン(NMP)は、本発明の実施にとって最も好ましい選択的結晶化溶媒である。これは、非水性で、熱安定性を有し、毒性がなく(環境にとって安全であり)、非腐食性であり、市販されている。NMPは本発明の実施にとって好ましい選択的結晶化溶媒であるが、テレフタル酸の溶解度対温度曲線は右上がりであり、これは高温でテレフタル酸がNMPに溶解し、低温ではそれから沈澱または結晶化することができることを意味しているからである。
NMPは最も好ましい選択的結晶化溶媒であるが、本発明によれば、粗製テレフタル酸の精製のための他の好ましい選択的結晶化溶媒をN−アルキル−2−ピロリドン(例えば、N−エチルピロリドン)、N−メルカプトアルキル−2−ピロリドン(例えば、N−メルカプトエチル−2−ピロリドン)、N−アルキル−2−チオピロリドン(例えば、N−メチル−2−チオピロリドン)、及びN−ヒドロキシアルキル−2−ピロリドン(例えば、N−ヒドロキシエチル−2−ピロリドン)などの各種の極性有機溶媒、及びそれらの混合物から選択することができるが、これらに限定しようとするものではない。本発明によって考えられる更に他の選択的結晶化溶媒としては、スルホラン、メチルスルホラン、スルホン、モルホリン(例えば、モルホリン、及びN−ホルミルモルホリン)、カルビトール、C1〜C12アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステルなど、及びそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定しようとするものではない。
所望な選択的結晶化溶媒は、1種類以上の追加溶媒、特に粗製テレフタル酸の純度が約98%未満である場合には、好ましくは2種類の追加溶媒、と組み合わせて多段階結晶化工程に用いるのが好ましい。p−キシレン、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)またはメタノールなどの洗浄溶媒を、酸化装置から出てくる他の材料からの粗製テレフタル酸の最初の分離により得られる最初のフィルターケーキの洗浄に用いるのが好ましいが、これらに限定しようとするものではない。また、メタノール、アセトン、MEKなどの低沸点を有する置換溶媒(displacement solvent)を用いることもできるが、これらに限定しようとするものではない。メタノールを、好ましい工程では第二の結晶化段階の後に第三のフィルターと共に置換溶媒として用いるのが好ましい。所望な置換溶媒が生成するフィルターケーキからの選択的結晶化溶媒を置換することによって、乾燥工程中には実質的に置換溶媒だけが存在する。置換溶媒の沸点が低ければ、フィルターケーキの乾燥が容易になることを理解すべきである。
前記のように、NMPは、本発明の実施にとって最も好ましい選択的結晶化溶媒である。これは非水性で、熱安定性を有し、毒性がなく(環境に安全で)、非腐食性で、市販されている。NMPは本発明の実施にとって好ましい選択的結晶化溶媒であるが、取り分け、テレフタル酸の溶解度対温度曲線は右上がりであり、これは高温でテレフタル酸がNMPに溶解し、低温ではそれから沈澱または結晶化することができることを意味しているからである。しかしながら、テレフタル酸についての溶解度対温度曲線の勾配は、安息香酸、4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)及びトルイル酸のような、粗製テレフタル酸から分離しようとする他の材料についてのNMP中での溶解度曲線よりも遥かに緩やかである。従って、未反応出発材料、(溶媒を用いる場合には)溶媒、前記のような副反応の生成物、または他の望ましくない材料を含んでいるまたは組み合わせた粗製テレフタル酸を高温でNMPに溶解するときには、ほとんど総ての材料が溶解しまたは少なくとも高度に分散する。このような溶解した材料のNMP溶液の加熱を停止して、冷却すると、純粋なテレフタル酸が優先的に結晶し、本発明の目的では不純物と考えられる他の溶解度の一層高い材料はNMPに溶解したままである。このようにして、精製テレフタル酸とそれと一緒に存在する不純物とが分離される。NMPは、再生カラム中で不純物を取り除き、工程に再循環させることができ、一方不純物は酸化装置段階に再循環させるか或いは廃棄することができる。
以上のことから、本発明の一態様によれば、粗製テレフタル酸から精製テレフタル酸を製造する方法であって、粗製テレフタル酸を高温の所望な結晶化溶媒に溶解させて溶液を形成させ、更に精製テレフタル酸を温度を低下させて溶液から結晶させることを特徴とする方法が提供される。
本発明のもう一つの態様によれば、粗製テレフタル酸の液体分散液であって、未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の好ましくない材料をも含んでいるものから粗製テレフタル酸を精製する方法及び装置であって、粗製テレフタル酸を分散液から濾過してそれに含まれている他の材料から粗製テレフタル酸を濾過によって部分的に分離して、粗製テレフタル酸フィルターケーキを生成させた後、このフィルターケーキを高温の所望な選択的結晶化溶媒に溶解して、溶液を形成させることを特徴とする方法及び装置が提供される。精製テレフタル酸を、溶液温度を減少させることによって溶液から結晶させ、結晶化の後、溶媒から分離する。
本発明の更にもう一つの態様によれば、粗製テレフタル酸を高温の所望な選択的結晶化溶媒に溶解させて第一の溶液を形成させることによって粗製テレフタル酸から精製テレフタル酸を製造する方法及び装置が提供される。第一段階の精製テレフタル酸を、温度を下げて第一の溶液から結晶させる。第一段階の精製テレフタル酸を他の不純物の溶媒溶液から分離して、高温の所望な選択的結晶化溶媒に再溶解させて、第二の溶液を形成させる。この第二の溶液を温度を下げて結晶させ、第二段階の精製テレフタル酸を形成させ、この第二段階の精製テレフタル酸を第二の溶液から分離する。
本発明の更にもう一つの態様によれば、酸化装置反応においてパラキシレンを酸素と接触させることによって粗製テレフタル酸を合成する。この粗製テレフタル酸を酸化装置から取り出し、反応の副生成物及び未反応出発材料から大まかに分離する。次に、分離した粗製テレフタル酸を高温の所望な選択的結晶化溶媒に溶解させ、温度を下げて結晶化溶媒から精製テレフタル酸として結晶させる。高温での所望な選択的結晶化溶媒に溶解させた後、温度を下げて結晶させ、結晶した精製テレフタル酸を分離して洗浄する2以上の段階を行なうことができる。
以上のことから、本発明の目的は、経済的に魅力的な割合で、かつ資金が少なくかつ単純化した工程で済む余り厳密でない操作条件でポリエステル樹脂及び他の生成物の形成に用いるのが望ましい純度の精製テレフタル酸を製造するための改良法及び装置を提供することであることが判る。これら及び他の本発明の目的を達成する方法は、以下の発明の詳細な説明を添付図面と共に考察することによって知ることができる。
態様の詳細な説明
I. 方法の説明
本発明は、新規なPTA製造技術の開発に関する。現在広く用いられているPTA技術と比較して、この技術では新規なPTAプラントの建設の資金がかなり少なく、プラントの運転のコストも低くなる。また、この技術は、現在用いられているDMTプラントでPTAを同時に製造し、一層新たなPTAプラントに対する競争力を強化するための手段も提供する。
I. 方法の説明
本発明は、新規なPTA製造技術の開発に関する。現在広く用いられているPTA技術と比較して、この技術では新規なPTAプラントの建設の資金がかなり少なく、プラントの運転のコストも低くなる。また、この技術は、現在用いられているDMTプラントでPTAを同時に製造し、一層新たなPTAプラントに対する競争力を強化するための手段も提供する。
方法の概要
この方法の成功は、低圧、低温、非水性の高度に選択的結晶化溶媒の開発に基づいている。この結晶化技術により、粗製テレフタル酸(TA)を約70%(酸化装置から)程度から第一段階の結晶化装置で約98+%、及び第二段階の結晶化装置で約99.99+%の純度で精製することができる。これにより、TA酸化装置を、広く用いられている従来の方法のものより遥かに低い厳密さで運転することができる。酢酸(溶媒/希釈剤として)又は臭素触媒開始剤は、本発明による酸化装置では必要ない。結晶化工程で用いられる選択的結晶化溶媒は、非水性で、熱安定性を有し、毒性がなく(環境に安全)、非腐食性で、市販されている。
この方法の成功は、低圧、低温、非水性の高度に選択的結晶化溶媒の開発に基づいている。この結晶化技術により、粗製テレフタル酸(TA)を約70%(酸化装置から)程度から第一段階の結晶化装置で約98+%、及び第二段階の結晶化装置で約99.99+%の純度で精製することができる。これにより、TA酸化装置を、広く用いられている従来の方法のものより遥かに低い厳密さで運転することができる。酢酸(溶媒/希釈剤として)又は臭素触媒開始剤は、本発明による酸化装置では必要ない。結晶化工程で用いられる選択的結晶化溶媒は、非水性で、熱安定性を有し、毒性がなく(環境に安全)、非腐食性で、市販されている。
図1A及び1Bに示される装置でNMPを選択的結晶化溶媒として用いて本発明の方法を行なうと、本発明者らは、第一の結晶化工程の後にはTPA純度水準が99.9+%までであり、第二の結晶化工程の後には99.99+%までであることを示した。特に、表1は、第一の結晶化工程の後には粗製TPA(89.89重量%TPA)から99.95重量%の純度のTPAが、第二の結晶化工程の後には99.997重量%の純度のTPAが回収されることを示している。
表1
第一の結晶化 第二の結晶化
(a) TPA重量 56.34 g 31.81 g
(b) 結晶化溶媒の重量 400.02 g 248.38 g
(c) 飽和温度 60℃
(d) 結晶化温度 15℃(1時間)
(1) 粗製TPA生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
0.39重量% 4.49重量% 2.49重量% 89.89 重量% 2.74重量%
(2) 第一の結晶化生成物
35 ppm 143ppm 359 ppm 99.95 重量% 検出されず
(3) 第二の結晶化生成物
<20 ppm <20ppm <10 ppm 99.997+重量%
第一の結晶化 第二の結晶化
(a) TPA重量 56.34 g 31.81 g
(b) 結晶化溶媒の重量 400.02 g 248.38 g
(c) 飽和温度 60℃
(d) 結晶化温度 15℃(1時間)
(1) 粗製TPA生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
0.39重量% 4.49重量% 2.49重量% 89.89 重量% 2.74重量%
(2) 第一の結晶化生成物
35 ppm 143ppm 359 ppm 99.95 重量% 検出されず
(3) 第二の結晶化生成物
<20 ppm <20ppm <10 ppm 99.997+重量%
表2は、飽和温度及び結晶化温度の両方を増加させることによる第一の結晶化工程の後には粗製TPA(89.89重量%TPA)から99.90重量%の純度のTPAが、第二の結晶化工程の後には99.9933重量%の純度のTPAが回収されることを示している。
表2
第一の結晶化 第二の結晶化
(a) TPA重量 138.08 g 70.15 g
(b) 結晶化溶媒の重量 685.30 g 247.46 g
(c) 飽和温度 110 ℃ 105 ℃
(d) 結晶化温度 40℃ 40℃
(1) 粗製TPA生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
0.39重量% 4.49重量% 2.49重量% 89.89 重量% 2.74重量%
(2) 第一の結晶化生成物(回収率:56.5重量%)
28 ppm 367 ppm 390 ppm 99.90 重量% 229 ppm
(3) 第二の結晶化生成物
<10 ppm <19 ppm 25 ppm 99.9933 重量% 13 ppm
第一の結晶化 第二の結晶化
(a) TPA重量 138.08 g 70.15 g
(b) 結晶化溶媒の重量 685.30 g 247.46 g
(c) 飽和温度 110 ℃ 105 ℃
(d) 結晶化温度 40℃ 40℃
(1) 粗製TPA生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
0.39重量% 4.49重量% 2.49重量% 89.89 重量% 2.74重量%
(2) 第一の結晶化生成物(回収率:56.5重量%)
28 ppm 367 ppm 390 ppm 99.90 重量% 229 ppm
(3) 第二の結晶化生成物
<10 ppm <19 ppm 25 ppm 99.9933 重量% 13 ppm
表3は、粗製TPA(98.99重量%TPA)から99.9960重量%の純度のPTA(単回結晶化工程)が回収されることを示している。また、安息香酸、p−トルイル酸、4−CBA、MMT及び他の不純物は、それぞれ10ppm未満であった。
表3
(a) TPA重量 152.67 g
(b) 結晶化溶媒の重量 786.19 g
(c) 飽和温度 100 ℃
(d) 結晶化温度 40℃
(1) 粗製TPA生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA MMT その他
<10 ppm <10 ppm 18 ppm 98.99重量% 303 ppm 0.98 重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:50.2重量%)
<10 ppm <10 ppm <10ppm >99.9960重量% <10 ppm <10 ppm
(a) TPA重量 152.67 g
(b) 結晶化溶媒の重量 786.19 g
(c) 飽和温度 100 ℃
(d) 結晶化温度 40℃
(1) 粗製TPA生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA MMT その他
<10 ppm <10 ppm 18 ppm 98.99重量% 303 ppm 0.98 重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:50.2重量%)
<10 ppm <10 ppm <10ppm >99.9960重量% <10 ppm <10 ppm
表4は、大規模での粗製TPA(83.91重量%TPA)から99.63重量%の純度のTPA(単回結晶化工程)が回収されることを示している。
表4
(a) TPA重量 1760 g
(b) 結晶化溶媒の重量 6162 g
(c) 飽和温度 160 ℃
(d) 結晶化温度 50℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
1.03重量% 4.79重量% 5.03重量% 83.91 重量% 5.24重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:24.3重量%)
38 ppm 852 ppm 0.23重量% 99.63 重量% 500 ppm
(a) TPA重量 1760 g
(b) 結晶化溶媒の重量 6162 g
(c) 飽和温度 160 ℃
(d) 結晶化温度 50℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
1.03重量% 4.79重量% 5.03重量% 83.91 重量% 5.24重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:24.3重量%)
38 ppm 852 ppm 0.23重量% 99.63 重量% 500 ppm
表5は、大規模での粗製TPA(79.79重量%TPA)から99.92重量%の純度のTPA(単回結晶化工程)が回収されることを示している。
表5
(a) TPA重量 1700 g
(b) 結晶化溶媒の重量 5928 g
(c) 飽和温度 160 ℃
(d) 結晶化温度 45℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
1.59重量% 5.19重量% 7.61重量% 79.79 重量% 5.81重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:31.5重量%)
10 ppm 203 ppm 446ppm 99.92 重量% 184 ppm
(a) TPA重量 1700 g
(b) 結晶化溶媒の重量 5928 g
(c) 飽和温度 160 ℃
(d) 結晶化温度 45℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
1.59重量% 5.19重量% 7.61重量% 79.79 重量% 5.81重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:31.5重量%)
10 ppm 203 ppm 446ppm 99.92 重量% 184 ppm
表6は、飽和温度が高く190℃で、大規模での粗製TPA(83.90重量%TPA)から99.15重量%の純度のTPA(単回結晶化工程)が回収されることを示している。
表6
(a) TPA重量 1965 g
(b) 結晶化溶媒の重量 5684 g
(c) 飽和温度 190 ℃
(d) 結晶化温度 40℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
1.23重量% 5.25重量% 6.34重量% 83.90 重量% 3.28重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:48.9重量%)
---- 0.14重量% 0.61重量% 99.15 重量% 0.1 重量%
(a) TPA重量 1965 g
(b) 結晶化溶媒の重量 5684 g
(c) 飽和温度 190 ℃
(d) 結晶化温度 40℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
1.23重量% 5.25重量% 6.34重量% 83.90 重量% 3.28重量%
(2) 結晶化生成物(回収率:48.9重量%)
---- 0.14重量% 0.61重量% 99.15 重量% 0.1 重量%
表7は、大規模での粗製TPA(98.50重量%TPA)から99.9915重量%の純度のTPAが回収されることを示している。結晶化混合物の過飽和により、前記の方法から得られる結晶よりも実質的に大きなTPA結晶が形成される。当業者であれば理解されるように、TPA結晶の大きさは、それを溶媒及び不純物から分離することに関して重要なことである。
表7
(a) TPA重量 2333 g
(b) 結晶化溶媒の重量 5698 g
(c) 飽和温度 160 ℃
(d) 結晶化温度 45℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
198 ppm 0.15重量% 1.23重量% 98.50 重量% 989 ppm
(2) 結晶化生成物(回収率:69.7重量%)
<10 ppm 26 ppm 38 ppm 99.9915 重量% 11 ppm
(a) TPA重量 2333 g
(b) 結晶化溶媒の重量 5698 g
(c) 飽和温度 160 ℃
(d) 結晶化温度 45℃
(1) 粗製TPA供給生成物の組成
安息香酸 p−トルイル酸 4−CBA TPA その他
198 ppm 0.15重量% 1.23重量% 98.50 重量% 989 ppm
(2) 結晶化生成物(回収率:69.7重量%)
<10 ppm 26 ppm 38 ppm 99.9915 重量% 11 ppm
本発明によれば、図1A及び1Bの作業工程図に見られるように、この方法の好ましい態様は5つの部分に分けられる。
(1) 酸化の項
この項では、p−キシレンを下記の主反応に従って酸化する。
(a) p−キシレン+酸素→テレフタル酸
(b) p−キシレン+酸素→p−トルイル酸
(c) p−キシレン+酸素→4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)
この項では、p−キシレンを下記の主反応に従って酸化する。
(a) p−キシレン+酸素→テレフタル酸
(b) p−キシレン+酸素→p−トルイル酸
(c) p−キシレン+酸素→4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)
酸化装置の滞留時間は、約5時間である。酸化装置流出液は約30%までのTAを含むので、酸化装置での混合は収率及び選択性を保持し、汚損や反応抑制を防止する上で極めて重要である。供給流の初期混合は、ステーティック・ミキサー(static mixer)(酸化装置の外側)で行なうことができる。それ以外の混合は、エア・スパージャー(air sparger) 及び外部循環によって行なうことができる。フィルターでのp−キシレン洗浄段階の完璧度によっては(下記)、固形物中のテレフタル酸(TA)は約55%〜約90+%の間で変化することができる。
(2) 結晶化の項
(A) 第一の結晶化
濾過の後に、酸化装置の流出液からの固形物を第二段階の結晶化装置からの母液と溶媒洗浄液、及び追加の結晶化溶媒と混合する。混合したスラリーを所定の温度、好ましくは約140℃〜約190℃でスラリータンク中で溶解する。飽和溶液を保持タンクに移して、p−キシレンを留去する。次に、飽和溶液を第一段階のバッチ結晶化装置に供給して、精製TAを回収する。結晶化段階の後、結晶化装置の内容物を生成物保持タンクに落して、フィルター(又は遠心分離機)に連続的に送液して、固形物を集めて第二段階の結晶化装置で再結晶して更に精製する。
(A) 第一の結晶化
濾過の後に、酸化装置の流出液からの固形物を第二段階の結晶化装置からの母液と溶媒洗浄液、及び追加の結晶化溶媒と混合する。混合したスラリーを所定の温度、好ましくは約140℃〜約190℃でスラリータンク中で溶解する。飽和溶液を保持タンクに移して、p−キシレンを留去する。次に、飽和溶液を第一段階のバッチ結晶化装置に供給して、精製TAを回収する。結晶化段階の後、結晶化装置の内容物を生成物保持タンクに落して、フィルター(又は遠心分離機)に連続的に送液して、固形物を集めて第二段階の結晶化装置で再結晶して更に精製する。
(B) 第二の結晶化
第一の結晶化装置フィルターから生成した固形物を供給溶解装置で、約140℃〜約190℃の温度などの所定の条件で第二段階の結晶化装置のための結晶化溶媒で再溶解する。飽和溶液を第二段階の結晶化装置に送液して結晶を成長させ、回収する。次いで、結晶化装置の内容物を保持タンクに落して、最終濾過及び乾燥段階を行なう。濾過段階では、固形物(ケーキ)を最初に結晶化溶媒で洗浄して、ケーキに残っている母液を置換する。次に、固形物を低沸点溶媒で洗浄して、ケーキ中の結晶化溶媒を置換する。湿ケーキを乾燥装置に送り、最後の液体をPTA生成物から除去する。
第一の結晶化装置フィルターから生成した固形物を供給溶解装置で、約140℃〜約190℃の温度などの所定の条件で第二段階の結晶化装置のための結晶化溶媒で再溶解する。飽和溶液を第二段階の結晶化装置に送液して結晶を成長させ、回収する。次いで、結晶化装置の内容物を保持タンクに落して、最終濾過及び乾燥段階を行なう。濾過段階では、固形物(ケーキ)を最初に結晶化溶媒で洗浄して、ケーキに残っている母液を置換する。次に、固形物を低沸点溶媒で洗浄して、ケーキ中の結晶化溶媒を置換する。湿ケーキを乾燥装置に送り、最後の液体をPTA生成物から除去する。
(3) 母液/溶媒回収の項
第一の結晶化装置フィルターからの母液を溶媒回収カラムに移して、カラム最上部から結晶化溶媒を回収する。p−トルイル酸、安息香酸、4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)などであるがこれらに限定されない不純物を、カラム底部から回収する。カラム底部のスラリーを酸化装置に移し替えることができるようにするため、高沸点希釈剤をリボイラーに加えるのが好ましい。
第一の結晶化装置フィルターからの母液を溶媒回収カラムに移して、カラム最上部から結晶化溶媒を回収する。p−トルイル酸、安息香酸、4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)などであるがこれらに限定されない不純物を、カラム底部から回収する。カラム底部のスラリーを酸化装置に移し替えることができるようにするため、高沸点希釈剤をリボイラーに加えるのが好ましい。
II.詳細な工程の説明及び例
図1A及び1Bの作業工程図を、触媒の成分をジメチルテレフタル酸(DMT)又は安息香酸−水溶媒系に溶解した溶液の存在下にて、p−キシレンの空気酸化によりテレフタル酸(TA)65kg/時を生産して回収することについて説明することにする。酸化装置温度は、約150℃〜約250℃が好ましく、圧力は約5〜約10kg/cm2である。酸化装置流出液は約30%までのTAを含むので、酸化装置での混合は収率及び選択性を保持し、汚損や反応抑制を防止する上で極めて重要である。供給流の初期混合は、ステーティック・ミキサー(static mixer)(酸化装置の外側)で行なうことができる。それ以外の混合は、エア・スパージャー(air sparger)及び外部循環によって行なうことができる。この工程の好ましい形態では、水溶液での酢酸マンガン0.001〜0.05kg/時及び酢酸コバルト0.003〜0.010kg/時を酸化装置に供給して、酸化反応を触媒する。
図1A及び1Bの作業工程図を、触媒の成分をジメチルテレフタル酸(DMT)又は安息香酸−水溶媒系に溶解した溶液の存在下にて、p−キシレンの空気酸化によりテレフタル酸(TA)65kg/時を生産して回収することについて説明することにする。酸化装置温度は、約150℃〜約250℃が好ましく、圧力は約5〜約10kg/cm2である。酸化装置流出液は約30%までのTAを含むので、酸化装置での混合は収率及び選択性を保持し、汚損や反応抑制を防止する上で極めて重要である。供給流の初期混合は、ステーティック・ミキサー(static mixer)(酸化装置の外側)で行なうことができる。それ以外の混合は、エア・スパージャー(air sparger)及び外部循環によって行なうことができる。この工程の好ましい形態では、水溶液での酢酸マンガン0.001〜0.05kg/時及び酢酸コバルト0.003〜0.010kg/時を酸化装置に供給して、酸化反応を触媒する。
約160℃での酸化装置からの流出液(483.7kg/時)を、ライン1を介してフィルターF−1に移して、固形物を母液(濾液)から分離する。フィルターF−1では、固形物ケーキを、加熱装置E−1で30から100〜150℃まで加熱したp−キシレン250.0kg/時で洗浄する。フィルターF−1からの母液(281.4kg/時)を、ライン3を介してタンクT−1に移す。フィルターF−1(306.9kg/時)からのケーキ洗浄液を、別個にフィルターからライン4を介してタンクT−2に移す。
フィルターF−1からの洗浄したケーキをライン8を通してスラリータンクT−3に落し、下記の流と混合する。
流19: フィルターF−3からのNMP(選択的結晶化溶媒)洗浄液(加熱装置E−5によって45から100〜150℃まで加熱)67.9kg/時
流9: タンクT−17からの母液(加熱装置E−2によって50から100〜150℃まで加熱)329.3kg/時
流37: タンクT−19からのNMP(加熱装置E−4によって45から100〜150℃まで加熱)43.5kg/時。
流19: フィルターF−3からのNMP(選択的結晶化溶媒)洗浄液(加熱装置E−5によって45から100〜150℃まで加熱)67.9kg/時
流9: タンクT−17からの母液(加熱装置E−2によって50から100〜150℃まで加熱)329.3kg/時
流37: タンクT−19からのNMP(加熱装置E−4によって45から100〜150℃まで加熱)43.5kg/時。
次に、タンクT−3からの前記混合物(586.1kg/時)をタンクの底部からライン10を介して溶解装置T−4に移す。タンクT−4の内容物を、タンク中の高温オイル加熱コイルによって100〜150℃から140〜190℃まで間接的に加熱する。混合物中のp−キシレン(32.8kg/時)の約75%及び置換用窒素(10kg/時)の100%を溶解装置から蒸発させ、ライン11を通して除去する。置換用窒素をライン47を通してタンクT−4に加えて、p−キシレンの除去を促進する。蒸気流11及び13を合わせて流5(51.6kg/時)として、冷却装置E−3によって凝縮し、PX保存タンクT−5に送る。溶解装置T−4からの底部流出液を、回分的に粗製結晶化装置S−1に移す。
粗製結晶化装置S−1のバッチ内容物を外部冷却装置E−6によって140〜190℃から10〜20℃まで冷却し、所望な過飽和を生成させ、TA結晶を生長させる。結晶の粒度分布及び固形生成物の回収率を改良するため、結晶シーディングを用いることができる。回分結晶化サイクルの最後に、スラリーをタンクT−6に落して、ライン15を通して544.6kg/時の速度で連続的にフィルターF−2に移す。
フィルターF−2では、(ライン38からの)NMP42.7kg/時を用いてケーキを洗浄する。母液にNMP洗浄液を加えたものを合わせて流16(432.6kg/時)として、NMP回収カラムD−1に供給する。洗浄したケーキ(154.7kg/時)を溶解装置タンクT−8に落し、これをNMP241.3kg/時と混合して、純粋結晶化装置S−2用の過飽和供給物を形成する。NMPを加熱装置E−7によって45℃から140〜190℃まで加熱し、ライン18を通してタンクT−8に供給する。
タンクT−8の内容物を純粋結晶化装置S−2に回分的に移して、温度を140〜190℃から30〜60℃まで冷却し、TA結晶の生長を誘導する。冷却は、結晶化装置の内容物を外部冷却装置E−8を通して循環させることによって行なう。また、結晶の粒度分布及び固形生成物の回収率を改良するため、結晶シーディングを用いることができる。回分サイクルの最後に、スラリーを結晶化装置S−2からタンクT−10(フィルターF−3の供給タンク)に落す。
スラリーを、ライン22を通して395.9kg/時の速度で連続的にフィルターF−3に供給する。フィルターからの母液(301.8kg/時)を、ライン23を通してタンクT−17に移す。ケーキを最初に45℃のNMPで洗浄して、ケーキから残っている母液を置換した後、ケーキをメタノールのような低沸点置換溶媒で洗浄して、ケーキからNMPを置換する。T−19から、NMP洗浄液をライン24を通して加え、T−18から置換溶媒をライン25を通してF−3に加える(いずれも、64kg/時の速度)。NMP洗浄液(67.9kg/時)をライン19を通してタンクT−3(F−1スラリータンク)に送り、一方、置換溶媒(64.1kg/時)をライン26を通してタンクT−13に移す。
フィルターF−3からの洗浄済みケーキ(90.2kg/時)をライン27を通して生成物乾燥装置DR−1に落して、ケーキ中の置換溶媒を、加熱、及び加熱窒素の向流で置換することによって除去する。乾燥したPTA生成物(65.2kg/時)をライン28を通して乾燥装置から取り出し、生成物容器に保管する。
生成物乾燥装置DR−1からの窒素で飽和した置換溶媒(76.4kg/時)を、乾燥装置からライン29を通して凝縮装置T−15に送り出し、ガス混合物を冷却装置E−12中を循環させることによって25〜45℃まで冷却する。凝縮した置換溶媒(21.2kg/時)を置換溶媒タンクT−18に移し、一方、凝縮しないガス(55.2kg/時)はT−15からライン30を通してベント・ポット(vent pot)T−16へ出て行く。NMP約2.4kg/時を、ライン39を通してベント・ポットT−16に供給して、流30(3.8kg/時)中の置換溶媒をトラップする。トラップした置換溶媒にNMP(6.1kg/時)を加えたものを、ライン33を通してタンクT−13に移す。T−16から取り出した窒素(51.4kg/時)をライン32及び加熱装置E−11(流を25℃から80〜120℃まで加熱する)を通して送風機によって乾燥装置に送る。
タンクT−13からの底部流(70.2kg/時、NMPと置換溶媒との混合物)を、ライン34及び加熱装置E−9(流を25℃から80〜120℃まで加熱する)を通して置換溶媒蒸発装置T−14に移す。T−14の最上部からの置換溶媒蒸気(42.7kg/時)を凝縮装置E−10によって凝縮して、ライン35を通して置換溶媒タンクT−18に送る。T−14からの底部流(27.5kg/時)を2つの流れ、ベント・ポットT−16への流39(2.4kg/時)及びフィルターF−3母液タンクT−17への流40(25.1kg/時)、に分ける。
フィルターF−2からの母液及びNMP洗浄液を、ライン16を通してタンクT−7に移した後、NMP回収カラムD−1に供給する。この流(432.6kg/時)を加熱装置E−13によって15〜25℃から130〜170℃まで加熱した後、カラムD−1に入れる。最上部の蒸気(433.3kg/時)を凝縮装置E−15を通して凝縮させ、ライン41を通して凝縮物ポットT−20に送る。160〜220℃の凝縮物の一部(39.4kg/時)を、ライン42を通して還流としてカラムに戻す。カラムD−1からの最上部生成物の残部(393.9kg/時)を、ライン43を通してNMPチェックタンクT−21に送る。タンクT−21から、再生NMPをNMP貯蔵タンクT−19に送る。
カラムD−1リボイラー中のスラリーを酸化装置に戻すことができるようにするため、安息香酸又はDMTのような高沸点希釈剤20〜60kg/時を、ライン45を通してリボイラーに加える。スラリーに高沸点希釈剤を加えたもの(78.8kg/時)をカラムD−1の底部から抜き取り、ライン49を通して酸化装置に戻す。本発明の方法及び装置の好ましい態様を添付図面に示し、前記の詳細な説明に記載したが、本発明は開示した態様に限定されず、下記の請求の範囲に記載されかつ定義されている本発明の精神から離反することなく多くの変更、改質及び置換を行なうことができることを理解されるであろう。
本発明の方法及び装置は、添付の図面と組み合わせて下記の詳細な説明を参照することによって更に完全に理解することができる。
Claims (36)
- 未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の望ましくない材料から選択される不純物も含んでいる粗製テレフタル酸の液体分散液から粗製テレフタル酸を精製する方法であって、
前記分散液を濾過して、粗製テレフタル酸フィルターケーキを形成させ、
前記フィルターケーキを約140℃〜約190℃の高温で選択的非水性結晶化溶媒に溶解して、溶液を形成させ、
前記非水性結晶化溶媒中の前記溶液から、前記溶液の温度を下げることによって、精製テレフタル酸を結晶化させ、
前記結晶化した精製テレフタル酸を前記溶液から分離する
ことを特徴とする、方法。 - 前記分散液が4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記溶液の温度を約5℃〜約50℃まで下げる、請求項1に記載の方法。
- 前記溶液の温度を約10℃〜約20℃まで下げる、請求項3に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒の溶液から前記の精製テレフタル酸の結晶化を、前記の結晶化した精製テレフタル酸を前記の選択的非水性結晶化溶媒に再溶解して高温で再溶解溶液を形成させ、
前記選択的結晶化溶媒の前記再溶解溶液から、溶液の温度を下げることによって精製テレフタル酸を結晶化させることによって繰り返し行なう、請求項1に記載の方法。 - 前記選択的非水性結晶化溶媒がN−メチルピロリドンである、請求項1に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒が、N−アルキル−2−ピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メルカプトアルキル−2−ピロリドン、N−メルカプトエチル−2−ピロリドン、N−アルキル−2−チオピロリドン、N−メチル−2−チオピロリドン、N−ヒドロキシアルキル−2−ピロリドン、及びN−ヒドロキシエチル−2−ピロリドンから成る群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒がスルホラン、メチルスルホラン、スルホン、モルホリン、N−ホルミルモルホリン、カルビトール、C1〜C12アルコール、アセトニトリル、アジポニトリル、ブチロニトリル、エーテル、アミン、アミド、及びエステルから成る群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記フィルターケーキを、p−キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、及びメタノールから成る群から選択される洗浄溶媒で洗浄する段階をも含む、請求項1に記載の方法。
- 前記洗浄溶媒がp−キシレンである、請求項9に記載の方法。
- 結晶化の段階の後に前記選択的非水性結晶化溶媒をメタノール、メチルエチルケトン、及びアセトンからなる群から選択される置換溶媒で置換する段階をも含む、請求項1に記載の方法。
- 前記置換溶媒がメタノールである、請求項1に記載の方法。
- 粗製テレフタル酸から精製テレフタル酸を製造する方法であって、
粗製テレフタル酸を約140℃〜約190℃の高温で選択的非水性結晶化溶媒に溶解して溶液を形成し、
低温で前記溶液から精製テレフタル酸を結晶化させる
ことを含む、前記方法。 - 前記選択的非水性結晶化溶媒がN−メチルピロリドンである、請求項13に記載の方法。
- 前記精製テレフタル酸を前記溶液から分離する段階をも含む、請求項13に記載の方法。
- 前記分離段階を、前記精製テレフタル酸を前記溶液から濾過又は遠心分離し、これを前記選択的非水性結晶化溶媒及び置換溶媒で洗浄した後、これを乾燥することによって行なう、請求項15に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒がN−アルキル−2−ピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メルカプトアルキル−2−ピロリドン、N−メルカプトエチル−2−ピロリドン、N−アルキル−2−チオピロリドン、N−メチル−2−チオピロリドン、N−ヒドロキシアルキル−2−ピロリドン、及びN−ヒドロキシエチル−2−ピロリドンからなる群から選択される、請求項13に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒がスルホラン、メチルスルホラン、スルホン、モルホリン、N−ホルミルモルホリン、カルビトール、C1〜C12アルコール、アセトニトリル、アジポニトリル、ブチロニトリル、エーテル、アミン、アミド、及びエステルから成る群から選択される、請求項13に記載の方法。
- 前記粗製テレフタル酸を、p−キシレン、メタノール、アセトン、及びメチルエチルケトンから成る群から選択される洗浄溶媒で洗浄する、請求項13に記載の方法。
- 前記洗浄溶媒がp−キシレンである、請求項19に記載の方法。
- 結晶化の段階の後に、メタノール、メチルエチルケトン、及びアセトンからなる群から選択される置換溶媒で前記選択的非水性結晶化溶媒を置換する段階を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記置換溶媒がメタノールである、請求項21に記載の方法。
- 粗製テレフタル酸から精製テレフタル酸を製造する方法であって、
粗製テレフタル酸を約140℃〜約190℃の高温の選択的非水性結晶化溶媒に溶解して第一の溶液を形成させ、
前記第一の溶液から低温で第一段階の精製テレフタル酸を結晶化させ、
前記の結晶した第一段階の精製テレフタル酸を前記溶液から分離し、
前記の分離した第一段階の精製テレフタル酸を高温で前記選択的非水性結晶化溶媒に再溶解して第二の溶液を形成させ、
第二段階の精製テレフタル酸を低温で前記第二溶液から結晶化させ、
前記の結晶化した第二段階の精製テレフタル酸を前記第二溶液から分離する
ことを含む、前記方法。 - 前記分離の段階を、前記精製テレフタル酸を前記溶液から濾過又は遠心分離し、これを前記選択的非水性結晶化溶媒及び置換溶媒で洗浄した後、これを乾燥することによって行なう、請求項23に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒がN−メチルピロリドンである、請求項23に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒がN−アルキル−2−ピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メルカプトアルキル−2−ピロリドン、N−メルカプトエチル−2−ピロリドン、N−アルキル−2−チオピロリドン、N−メチル−2−チオピロリドン、N−ヒドロキシアルキル−2−ピロリドン、及びN−ヒドロキシエチル−2−ピロリドンからなる群から選択される、請求項23に記載の方法。
- 前記選択的非水性結晶化溶媒が、スルホラン、メチルスルホラン、スルホン、モルホリン、N−ホルミルモルホリン、カルビトール、C1〜C12アルコール、アセトニトリル、アジポニトリル、ブチロニトリル、エーテル、アミン、アミド、及びエステルから成る群から選択される、請求項23に記載の方法。
- 前記粗製テレフタル酸を、p−キシレン、メタノール、アセトン、及びメチルエチルケトンから成る群から選択される洗浄溶媒で洗浄する、請求項23に記載の方法。
- 前記洗浄溶媒がp−キシレンである、請求項28に記載の方法。
- 前記第二段階の結晶化段階の後に、メタノール、メチルエチルケトン、及びアセトンからなる群から選択される置換溶媒で前記選択的非水性結晶化溶媒を置換する段階を含む、請求項23に記載の方法。
- 前記置換溶媒がメタノールである、請求項30に記載の方法。
- 未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の望ましくない材料から選択される不純物も含んでいる粗製テレフタル酸の液体分散液から粗製テレフタル酸を精製する方法であって、
粗製テレフタル酸を約140℃〜約190℃の高温でN−メチルピロリドンに溶解して第一の溶液を形成させ、
約5℃〜約50℃の温度で前記第一の溶液から前記の溶解した粗製テレフタル酸を結晶化させて、第一段階の精製テレフタル酸を形成させ、
前記第一段階の精製テレフタル酸を前記第一溶液から濾過によって分離して第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成させ、
前記の分離した第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄し、
前記第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを約140℃〜約190℃の温度でNMPに再溶解して第二の溶液を形成させ、
前記の再溶解した第一段階の精製テレフタル酸を約5℃〜約50℃の温度で前記第二溶液から結晶化させて第二段階の精製テレフタル酸を形成させ、
前記第二段階の精製テレフタル酸を濾過によって前記第二溶液から分離して、第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成させ、
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄し、
前記N−メチルピロリドンで洗浄したフィルターケーキをメタノールで洗浄し、
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを乾燥して、第二段階の精製テレフタル酸を提供する
ことを含む、前記方法。 - 精製テレフタル酸の製造方法であって、
p−キシレンを酸素と接触させて、未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の望ましくない材料から選択される不純物も含んでいる粗製テレフタル酸の分散液中に粗製テレフタル酸を形成させ、
粗製テレフタル酸を約140℃〜約190℃の高温でN−メチルピロリドンに溶解して第一の溶液を形成させ、
約5℃〜約50℃の温度で前記第一の溶液から前記の溶解した粗製テレフタル酸を結晶化させて、第一段階の精製テレフタル酸を形成させ、
前記第一段階の精製テレフタル酸を前記第一溶液から濾過によって分離して第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成させ、
前記の分離した第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄し、
前記第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを約140℃〜約190℃の温度でN−メチルピロリドンに再溶解して第二の溶液を形成させ、
前記の再溶解した第一段階の精製テレフタル酸を約5℃〜約50℃の温度で前記第二溶液から結晶化させて第二段階の精製テレフタル酸を形成させ、
前記第二段階の精製テレフタル酸を濾過によって前記第二溶液から分離して、第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成させ、
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄し、
前記N−メチルピロリドンで洗浄したフィルターケーキをメタノールで洗浄し、
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを乾燥して、第二段階の精製テレフタル酸を提供する
ことを含む、前記方法。 - 未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の望ましくない材料から選択される不純物も含んでいる粗製テレフタル酸の液体分散液から粗製テレフタル酸を精製する装置であって、
前記分散液を濾過して粗製テレフタル酸フィルターケーキを形成させる手段、
前記フィルターケーキを約140℃〜約190℃の高温で選択的非水性結晶化溶媒に溶解して、溶液を形成させる手段、
前記非水性結晶化溶媒の前記溶液から精製テレフタル酸を前記溶液の温度を下げることによって結晶化させる手段、及び
前記結晶化した精製テレフタル酸を前記溶液から分離する手段
を有してなる、前記装置。 - 粗製テレフタル酸から精製テレフタル酸を製造する装置であって、
粗製テレフタル酸を約140℃〜約190℃の高温で選択的非水性結晶化溶媒に溶解して、第一の溶液を形成させる手段、
第一段階の精製テレフタル酸を前記第一の溶液から低温で結晶化させる手段、
前記の結晶化した第一段階の精製テレフタル酸を前記溶液から分離する手段、
前記の分離した第一段階の精製テレフタル酸を高温で前記選択的非水性結晶化溶媒に再溶解して、第二の溶液を形成させる手段、
第二段階の精製テレフタル酸を低温で前記第二の溶液から結晶化させる手段、及び
前記結晶化した第二段階の精製テレフタル酸を前記第二の溶液から分離する手段
を有してなる、前記装置。 - 未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び/又は他の望ましくない材料から選択される不純物も含んでいる粗製テレフタル酸の液体分散液から粗製テレフタル酸を精製する装置であって、
粗製テレフタル酸を約140℃〜約190℃の温度でNMPに溶解して第一の溶液を形成する手段、
約5℃〜約50℃の温度で前記第一の溶液から前記の溶解した粗製テレフタル酸を結晶化させて、第一段階の精製テレフタル酸を形成する手段、
前記第一段階の精製テレフタル酸を前記第一溶液から濾過によって分離して第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成する手段、
前記の分離した第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄する手段、
前記第一段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを約140℃〜約190℃の温度でNMPに再溶解して第二の溶液を形成する手段、
前記の再溶解した第一段階の精製テレフタル酸を約5℃〜約50℃の温度で前記第二溶液から結晶化させて第二段階の精製テレフタル酸を形成する手段、
前記第二段階の精製テレフタル酸を濾過によって前記第二溶液から分離して、第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成する手段、
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄する手段、
前記N−メチルピロリドンで洗浄したフィルターケーキをメタノールで洗浄する手段、及び
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを乾燥して、第二段階の精製テレフタル酸を提供する手段、
前記の再溶解した第一段階の精製テレフタル酸を約5℃〜約50℃の温度で前記第二溶液から結晶化させて第二段階の精製テレフタル酸を形成する手段、
前記第二段階の精製テレフタル酸を濾過によって前記第二溶液から分離して、第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを形成する手段、
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキをN−メチルピロリドンで洗浄する手段、
前記N−メチルピロリドンで洗浄したフィルターケーキをメタノールで洗浄する手段、及び
前記第二段階の精製テレフタル酸フィルターケーキを乾燥して、第二段階の精製テレフタル酸を提供する手段
を有してなる、前記装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/477,898 US5767311A (en) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | Method and apparatus for preparing purified terephtalic acid |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50143497A Division JP4272704B2 (ja) | 1995-06-07 | 1996-06-06 | 精製テレフタル酸の製造法および装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009091359A true JP2009091359A (ja) | 2009-04-30 |
Family
ID=23897786
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50143497A Expired - Fee Related JP4272704B2 (ja) | 1995-06-07 | 1996-06-06 | 精製テレフタル酸の製造法および装置 |
JP2008294438A Pending JP2009091359A (ja) | 1995-06-07 | 2008-11-18 | 精製テレフタル酸の製造法および装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50143497A Expired - Fee Related JP4272704B2 (ja) | 1995-06-07 | 1996-06-06 | 精製テレフタル酸の製造法および装置 |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5767311A (ja) |
EP (1) | EP0857170B1 (ja) |
JP (2) | JP4272704B2 (ja) |
KR (1) | KR100452021B1 (ja) |
CN (1) | CN1080253C (ja) |
AR (1) | AR002370A1 (ja) |
AU (1) | AU6047296A (ja) |
BR (1) | BR9609055A (ja) |
CA (1) | CA2224081A1 (ja) |
DE (1) | DE69628319T2 (ja) |
ES (1) | ES2194105T3 (ja) |
IL (1) | IL122287A (ja) |
MY (1) | MY123045A (ja) |
RU (1) | RU2163231C2 (ja) |
TW (1) | TW424084B (ja) |
WO (1) | WO1996040612A1 (ja) |
ZA (1) | ZA964318B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2012057155A1 (ja) * | 2010-10-26 | 2014-05-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による濾過運転方法 |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5840968A (en) * | 1995-06-07 | 1998-11-24 | Hfm International, Inc. | Method and apparatus for preparing purified terephthalic acid |
US6140534A (en) * | 1995-06-07 | 2000-10-31 | Hfm International, Inc. | Method for purifying isophthalic acid prepared from metaxylene |
US6013835A (en) | 1995-06-07 | 2000-01-11 | Hfm International, Inc. | Method and apparatus for preparing purified terephthalic acid |
JP4729173B2 (ja) * | 1998-05-06 | 2011-07-20 | ジーティーシー テクノロジー エルピー | 結晶化によるイソフタル酸の精製方法 |
JP4817496B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2011-11-16 | ジーティーシー テクノロジー エルピー | 精製テレフタル酸及びイソフタル酸を混合キシレンから製造する方法 |
IL139973A0 (en) * | 1998-05-29 | 2002-02-10 | Hfm Int Inc | Method and apparatus for preparing purified terephthalic acid and isophthalic acid from mixed xylenes |
US6291707B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-09-18 | Tsong-Dar Vincent Lin | Process of purifying and producing high purity aromatic polycarboxylic acids and derivatives thereof |
US6392091B2 (en) | 1998-11-24 | 2002-05-21 | Tsong-Dar Vincent Lin | Process of purifying and producing high purity aromatic polycarboxylic acids |
JP4750256B2 (ja) * | 2000-10-20 | 2011-08-17 | 株式会社クレハ | グリコリドの精製方法 |
JP4794081B2 (ja) * | 2001-07-31 | 2011-10-12 | 帝人株式会社 | 高純度テレフタル酸の製造方法 |
DE10206168A1 (de) * | 2002-02-14 | 2003-08-21 | Guehring Joerg | Kupplung für mudular aufgebaute Werkzeughalterarme |
DE60205255T2 (de) * | 2002-09-10 | 2006-06-01 | Niro Process Technology B.V. | Methode und Apparat zur Gewinnung einer reinen Substanz aus einer unreinen Lösung durch Kristallisation |
EP1735260A2 (en) * | 2004-04-09 | 2006-12-27 | GTC Technology, Inc | Purification of carboxylic acids by complexation with selective solvents |
US7586000B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-09-08 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7589231B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-09-15 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7495125B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-02-24 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7482482B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-01-27 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7399882B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-07-15 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7608732B2 (en) * | 2005-03-08 | 2009-10-27 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7692037B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-04-06 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7572932B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-08-11 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7390921B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-06-24 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7381836B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-06-03 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7504535B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-03-17 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7608733B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-10-27 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US20060047153A1 (en) * | 2004-09-02 | 2006-03-02 | Wonders Alan G | Optimized liquid-phase oxidation |
US7683210B2 (en) * | 2004-09-02 | 2010-03-23 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7910769B2 (en) * | 2004-09-02 | 2011-03-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7572936B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-08-11 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7568361B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-08-04 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7563926B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-07-21 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7507857B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-03-24 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7371894B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-05-13 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7361784B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-04-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7741515B2 (en) * | 2004-09-02 | 2010-06-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7582793B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-09-01 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7692036B2 (en) * | 2004-11-29 | 2010-04-06 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7834208B2 (en) * | 2005-05-19 | 2010-11-16 | Eastman Chemical Company | Process to produce a post catalyst removal composition |
US7897809B2 (en) * | 2005-05-19 | 2011-03-01 | Eastman Chemical Company | Process to produce an enrichment feed |
US7557243B2 (en) | 2005-05-19 | 2009-07-07 | Eastman Chemical Company | Enriched terephthalic acid composition |
US20060264656A1 (en) * | 2005-05-19 | 2006-11-23 | Fujitsu Limited | Enrichment process using compounds useful in a polyester process |
US20060264662A1 (en) * | 2005-05-19 | 2006-11-23 | Gibson Philip E | Esterification of an enriched composition |
US7880031B2 (en) * | 2005-05-19 | 2011-02-01 | Eastman Chemical Company | Process to produce an enrichment feed |
US7884231B2 (en) * | 2005-05-19 | 2011-02-08 | Eastman Chemical Company | Process to produce an enriched composition |
US7741516B2 (en) | 2005-05-19 | 2010-06-22 | Eastman Chemical Company | Process to enrich a carboxylic acid composition |
US20060264664A1 (en) * | 2005-05-19 | 2006-11-23 | Parker Kenny R | Esterification of an exchange solvent enriched composition |
US7919652B2 (en) * | 2005-05-19 | 2011-04-05 | Eastman Chemical Company | Process to produce an enriched composition through the use of a catalyst removal zone and an enrichment zone |
US7432395B2 (en) * | 2005-05-19 | 2008-10-07 | Eastman Chemical Company | Enriched carboxylic acid composition |
US7304178B2 (en) * | 2005-05-19 | 2007-12-04 | Eastman Chemical Company | Enriched isophthalic acid composition |
US7884232B2 (en) * | 2005-06-16 | 2011-02-08 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
CN101247869B (zh) * | 2005-07-26 | 2011-06-08 | 苏舍化学技术有限公司 | 通过从溶剂混合物分级层状结晶提纯高熔点有机粗产品或化合物混合物的方法和装置 |
US7355068B2 (en) * | 2006-01-04 | 2008-04-08 | Eastman Chemical Company | Oxidation system with internal secondary reactor |
US8697906B2 (en) * | 2006-03-01 | 2014-04-15 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Methods and apparatus for producing a low-moisture carboxylic acid wet cake |
US8173835B2 (en) * | 2006-03-01 | 2012-05-08 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Method and apparatus for drying carboxylic acid |
US7888529B2 (en) | 2006-03-01 | 2011-02-15 | Eastman Chemical Company | Process to produce a post catalyst removal composition |
US7326808B2 (en) * | 2006-03-01 | 2008-02-05 | Eastman Chemical Company | Polycarboxylic acid production system employing cooled mother liquor from oxidative digestion as feed to impurity purge system |
JP2009203163A (ja) * | 2006-06-13 | 2009-09-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | テレフタル酸の乾燥方法 |
US9199905B2 (en) * | 2008-10-31 | 2015-12-01 | Invista North America S.A.R.L. | Pure carboxylic acid filtration |
RU2475475C1 (ru) * | 2011-12-26 | 2013-02-20 | Открытое акционерное общество "Каустик" (ОАО "Каустик") | Способ получения диамида терефталевой кислоты |
KR20140139051A (ko) * | 2012-03-27 | 2014-12-04 | 릴라이언스 인더스트리즈 리미티드 | 아릴 카르복실산 분리공정 |
WO2015186073A1 (en) * | 2014-06-04 | 2015-12-10 | Reliance Industries Limited | Process for the purification of crude carboxylic acid |
CN106565457B (zh) * | 2015-10-09 | 2020-09-08 | 中国石化仪征化纤有限责任公司 | 以混合芳烃为原料制备聚合级对苯二甲酸和间苯二甲酸两种产品的方法 |
TWI650318B (zh) | 2017-10-30 | 2019-02-11 | 財團法人工業技術研究院 | 以結晶法純化2,5-呋喃二甲酸的粗產物之方法與聚酯之形成方法 |
CN111099990B (zh) * | 2019-12-31 | 2023-12-26 | 山东广通新材料有限公司 | 长碳链二元羧酸精制结晶母液的回收利用方法 |
Family Cites Families (114)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2636899A (en) * | 1951-01-29 | 1953-04-28 | Du Pont | Oxidation process for preparation of terephthalic acid |
US2829160A (en) * | 1953-10-12 | 1958-04-01 | Chemstrand Corp | Purification of terephthalic acid |
US2833816A (en) * | 1954-05-03 | 1958-05-06 | Mid Century Corp | Preparation of aromatic polycarboxylic acids |
US2949483A (en) * | 1954-07-30 | 1960-08-16 | Chemstrand Corp | Method of purifying aromatic dicarboxylic acids |
US2811548A (en) * | 1954-07-30 | 1957-10-29 | Chemstrand Corp | Method of purifying aromatic dicarboxylic acids |
US2849483A (en) * | 1954-07-30 | 1958-08-26 | Chemstrand Corp | Method of purifying aromatic dicarboxylic acids |
BE547302A (ja) * | 1955-05-04 | |||
GB818211A (en) | 1955-11-08 | 1959-08-12 | Hoechst Ag | Manufacture of pure terephthalic acid |
US2891992A (en) * | 1955-12-08 | 1959-06-23 | Henkel & Cie Gmbh | Process for the rearrangement of salts of aromatic or heterocyclic carboxylic acids |
US2833817A (en) * | 1956-06-27 | 1958-05-06 | Mid Century Corp | Process for the preparation of terephthalic acid |
US2923736A (en) * | 1956-11-28 | 1960-02-02 | Ici Ltd | Purification of carboxylic acids |
GB908011A (en) | 1957-12-11 | 1962-10-10 | Standard Oil Co | Process for the separation of isophthalic and terephthalic acids |
NL250177A (ja) | 1959-04-06 | |||
NL6407831A (ja) * | 1963-08-09 | 1965-02-10 | ||
NL128444C (ja) * | 1963-10-10 | |||
US3330863A (en) * | 1964-04-17 | 1967-07-11 | Mobil Oil Corp | Process for the purification of sublimable aromatic polycarboxylic acids |
US3465035A (en) * | 1964-11-25 | 1969-09-02 | Sumitomo Chemical Co | Process for purifying terephthalic acid |
US3388156A (en) * | 1966-02-24 | 1968-06-11 | Teijin Ltd | Method of recovering crude terephthalic acid |
US3497552A (en) * | 1966-07-18 | 1970-02-24 | Standard Oil Co | Continuous crystallization in a plurality of cooling stages using dilutions by cooled solvent of feed to each stage |
US3505398A (en) * | 1966-09-22 | 1970-04-07 | Standard Oil Co | Terephthalic acid crystallization |
US3584039A (en) * | 1967-08-30 | 1971-06-08 | Standard Oil Co | Fiber-grade terephthalic acid by catalytic hydrogen treatment of dissolved impure terephthalic acid |
US3574727A (en) * | 1967-10-16 | 1971-04-13 | Celanese Corp | Purification of terephthalic acid |
US3862218A (en) * | 1968-02-15 | 1975-01-21 | Celanese Corp | Purification of terephthalic acid by thermal treatment |
US3887613A (en) * | 1968-02-15 | 1975-06-03 | Celanese Corp | Thermal purification of terephthalic acid using group I-B, II-B, VIII catalysts |
GB1290981A (ja) | 1970-01-21 | 1972-09-27 | ||
US3766258A (en) * | 1970-06-29 | 1973-10-16 | Monsanto Co | Process for the production of aromatic polycarboxylic acids |
JPS5518698B1 (ja) * | 1971-04-03 | 1980-05-21 | ||
US3766257A (en) * | 1971-05-28 | 1973-10-16 | Sun Research Development | Integrated terephthalic acid process |
JPS5234590B2 (ja) * | 1971-12-28 | 1977-09-03 | ||
US3953502A (en) * | 1973-01-31 | 1976-04-27 | Imperial Chemical Industries Limited | Cyclopentane derivatives |
US3931305A (en) * | 1973-08-20 | 1976-01-06 | Standard Oil Company | Terephthalic acid recovery by continuous flash crystallization |
US4053506A (en) * | 1975-05-02 | 1977-10-11 | Standard Oil Company (Indiana) | Production of fiber-grade terephthalic acid |
JPS5227743A (en) * | 1975-08-26 | 1977-03-02 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Production of high-purity terephthalic acid |
JPS5239643A (en) * | 1975-09-23 | 1977-03-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | A process for preparing terephtalic acid |
GB1578725A (en) * | 1977-03-02 | 1980-11-05 | Johnson Matthey Co Ltd | Catalytic process for the purification of terephthalic acid |
US4081464A (en) * | 1976-07-26 | 1978-03-28 | Standard Oil Company | Iso- or terephthalic acid production in and recovery from benzoic acid-water solvent system |
GB1582255A (en) * | 1976-08-11 | 1981-01-07 | Ici Ltd | Crystallisation of terephthalic acid |
JPS5353636A (en) * | 1976-10-25 | 1978-05-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparatin of highly pure aromatic dicarboxylic acid dichloride |
NZ185635A (en) * | 1976-11-18 | 1980-04-28 | Ici Ltd | Preparation of 3-dihalovinyl-2,2-dimethylcyclopropane carboxylic acid derivatives |
US4345089A (en) * | 1977-01-24 | 1982-08-17 | Hercofina | Recovery of aromatic carboxylic acid or ester thereof from residue fraction of oxidation or esterification reaction mixture |
DE2714985C2 (de) * | 1977-04-04 | 1982-05-06 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Verfahren zur Reinigung von Terephthalsäure |
JPS5470235A (en) * | 1977-11-14 | 1979-06-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of terephthalic acid |
JPS5490132A (en) * | 1977-12-07 | 1979-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparation of high purity terephthalic acid |
JPS54125631A (en) * | 1978-02-20 | 1979-09-29 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparation of high-purity terephthalic acid |
GB2014985B (en) * | 1978-02-23 | 1982-12-08 | Asahi Chemical Ind | Purification of terephthalic acid |
US4230882A (en) * | 1978-05-19 | 1980-10-28 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for the production of a high purity terephthalic acid |
JPS5517309A (en) * | 1978-07-21 | 1980-02-06 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparation of high purity terephthalic acid |
JPS5555138A (en) * | 1978-10-19 | 1980-04-22 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of highly pure terephthalic acid |
US4675438A (en) * | 1978-11-17 | 1987-06-23 | Amoco Corporation | Direct continuous flow integration of production and purification of high purity iso- or terephthalic acid |
EP0019999B1 (en) * | 1979-05-02 | 1983-09-07 | Imperial Chemical Industries Plc | Acetals and their preparation |
US4263452A (en) * | 1979-06-12 | 1981-04-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for purifying terephthalic acid |
EP0021747B1 (en) * | 1979-07-02 | 1983-05-18 | Imperial Chemical Industries Plc | Process for the preparation of terephthalic acid |
JPS606334B2 (ja) * | 1979-07-16 | 1985-02-18 | 三菱レイヨン株式会社 | 高純度イソブチレンの製造法 |
US4317923A (en) * | 1979-08-23 | 1982-03-02 | Uop Inc. | Purification of dicarboxylic aromatic acids |
EP0030794B1 (en) * | 1979-11-28 | 1983-10-05 | Imperial Chemical Industries Plc | Slurries of terephthalic acid in ethylene glycol |
GB2072162B (en) * | 1980-03-21 | 1984-03-21 | Labofina Sa | Process for the production and the recovery of terephthalic acid |
US4380662A (en) * | 1981-03-16 | 1983-04-19 | Labofina, S.A. | Process for the purification of terephthalic acid |
US4438279A (en) * | 1981-09-30 | 1984-03-20 | Standard Oil Company (Indiana) | Fiber-grade terephthalic acid recovered from the effluent from paraxylene oxidation in acetic acid and the catalytic hydrogenation of the oxidation effluent in the presence of metallic platinum family metals |
US4467110A (en) * | 1981-10-29 | 1984-08-21 | Standard Oil Company (Indiana) | Process for purification of crude terephthalic acid |
US4415479A (en) * | 1981-10-29 | 1983-11-15 | Standard Oil Company (Indiana) | Palladium on carbon catalyst for purification of crude terephthalic acid |
US4467111A (en) * | 1981-10-29 | 1984-08-21 | Standard Oil Company (Indiana) | Process for purification of crude terephthalic acid |
JPS58126834A (ja) * | 1982-01-23 | 1983-07-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | トリメリツト酸の晶析法 |
US4485244A (en) * | 1982-11-03 | 1984-11-27 | The Standard Oil Company | Thermal process for the liquefaction of aromatic hydrocarbon oxidation residues and recovery of acetic acid |
JPS59106435A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 高純度テレフタル酸の製法 |
US4447646A (en) * | 1983-01-28 | 1984-05-08 | Eastman Kodak Company | Process for the purification of terephthalic acid |
US4791226A (en) * | 1983-06-23 | 1988-12-13 | Amoco Corporation | Catalyst and process for purification of crude terephthalic acid |
JPS606635A (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 1,2−不飽和カルボン酸および/またはそのエステルの精製法 |
US4500732A (en) * | 1983-09-15 | 1985-02-19 | Standard Oil Company (Indiana) | Process for removal and recycle of p-toluic acid from terephthalic acid crystallizer solvent |
US4675108A (en) * | 1983-11-30 | 1987-06-23 | Ecolochem, Inc. | Apparatus for treating wash water from the manufacture of terephthalic acid |
US4540493A (en) * | 1983-11-30 | 1985-09-10 | Ecolochem, Inc. | Process for treating wash water from the manufacture of terephthalic acid |
US4605763A (en) * | 1984-08-31 | 1986-08-12 | Eastman Kodak Company | Process for the purification of terephthalic acid |
US4626598A (en) * | 1985-06-17 | 1986-12-02 | Amoco Corporation | Purification of terephthalic acid |
US4728630A (en) * | 1985-10-07 | 1988-03-01 | Amoco Corporation | Rhodium on carbon catalyst |
US4892972A (en) * | 1985-10-07 | 1990-01-09 | Amoco Corporation | Purification of crude terephthalic acid |
US4629715A (en) * | 1985-10-07 | 1986-12-16 | Amoco Corporation | Purification of terephthalic acid to relatively low levels of 4-carboxybenzaldehyde and catalyst therefor |
US4652674A (en) * | 1985-11-22 | 1987-03-24 | Amoco Corporation | Method for monitoring the fluorescence of 4-carboxy-p-terphenyl in crude terephthalic acid |
US5166420A (en) * | 1986-10-20 | 1992-11-24 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Process for the production of high purity terephthalic acid |
US5107020A (en) * | 1986-12-04 | 1992-04-21 | Amoco Corporation | Method for producing purified trimesic acid |
JP2504461B2 (ja) * | 1987-04-24 | 1996-06-05 | 三菱化学株式会社 | 高品質テレフタル酸の製法 |
US4782181A (en) * | 1987-06-04 | 1988-11-01 | Amoco Corporation | Process for removal of high molecular weight impurities in the manufacture of purified terephthalic acid |
US4827026A (en) * | 1987-11-24 | 1989-05-02 | Amoco Corporation | Method for producing 5-t-butylisophthalic acid |
US4808751A (en) * | 1988-03-29 | 1989-02-28 | Amoco Corporation | Method for reactivating a group VIII noble metal catalyst for use in the purification of crude terephthalic acid |
US4833269A (en) * | 1988-08-05 | 1989-05-23 | Amoco Corporation | Method for purifying terephthalic acid recycle streams |
US4933492A (en) * | 1988-10-13 | 1990-06-12 | Amoco Corporation | Purification of crude isophthalic acid |
US4886901A (en) * | 1988-11-21 | 1989-12-12 | Amoco Corporation | Method for purifying a crude dimethyl naphthalene dicarboxylate |
US4939297A (en) * | 1989-06-05 | 1990-07-03 | Eastman Kodak Company | Extraction process for removal of impurities from terephthalic acid filtrate |
US4948921A (en) * | 1989-06-29 | 1990-08-14 | Amoco Corporation | Process for the production and recovery of trimellitic acid |
JP2847921B2 (ja) * | 1989-07-18 | 1999-01-20 | 三菱化学株式会社 | 芳香族ハロゲン化合物の二量化法 |
US4933491A (en) * | 1989-10-02 | 1990-06-12 | Amoco Corporation | Method for purifying a crude naphthalene dicarboxylic acid |
US4937378A (en) * | 1989-10-13 | 1990-06-26 | Amoco Corporation | Purification of crude isophthalic acid |
JP2874223B2 (ja) * | 1989-11-15 | 1999-03-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高純度2,6‐ナフタリンジカルボン酸の製造法 |
US5169977A (en) * | 1990-03-15 | 1992-12-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for purifying dimethyl-2,6-naphthalene dicarboxylate |
JP2893860B2 (ja) * | 1990-05-17 | 1999-05-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高純度イソフタル酸の製造法 |
US5159109A (en) * | 1990-06-25 | 1992-10-27 | Amoco Corporation | Purification of organic polycarboxylic acids |
ES2064912T3 (es) * | 1990-06-25 | 1995-02-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Procedimiento para producir acido isoftalico de elevada pureza. |
US5097066A (en) * | 1990-06-27 | 1992-03-17 | Amoco Corporation | Process for purification of aromatic dicarboxylic acids |
US5095145A (en) * | 1990-11-05 | 1992-03-10 | Amoco Corporation | Preparation of purified terephthalic acid from waste polyethylene terephthalate |
US5110984A (en) * | 1990-11-06 | 1992-05-05 | Amoco Corporation | Process for increasing the yield of purified isophthalic acid and reducing waste-water treatment a |
US5113015A (en) * | 1990-11-20 | 1992-05-12 | Amoco Corporation | Recovery of acetic acid from methyl acetate |
US5175352A (en) * | 1991-01-21 | 1992-12-29 | Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. | Process for preparing 2,6-naphthalenedicarboxylic acid |
GB9102393D0 (en) * | 1991-02-05 | 1991-03-20 | Ici Plc | Production of terephthalic acid |
GB9104776D0 (en) | 1991-03-07 | 1991-04-17 | Ici Plc | Process for the production of terephthalic acid |
US5095146A (en) * | 1991-03-25 | 1992-03-10 | Amoco Corporation | Water addition to crystallization train to purify terephthalic acid product |
US5200557A (en) * | 1991-04-12 | 1993-04-06 | Amoco Corporation | Process for preparation of crude terephthalic acid suitable for reduction to prepare purified terephthalic acid |
US5175355A (en) * | 1991-04-12 | 1992-12-29 | Amoco Corporation | Improved process for recovery of purified terephthalic acid |
US5254719A (en) * | 1991-05-31 | 1993-10-19 | Amoco Corporation | Process for preparing purified dimethyl naphthalenedicarboxylate |
US5183933A (en) * | 1991-10-15 | 1993-02-02 | Amoco Corporation | Process for preparing 2,6-naphthalene-dicarboxylic acid |
DE69210790T2 (de) * | 1991-12-03 | 1996-10-10 | Mitsubishi Chem Corp | Verfahren zur Herstellung von Naphthalendicarbonsäure |
JP3295960B2 (ja) * | 1992-05-12 | 2002-06-24 | 三菱化学株式会社 | アルデヒド類の製造方法 |
US5292934A (en) * | 1992-06-18 | 1994-03-08 | Amoco Corporation | Method for preparing aromatic carboxylic acids |
US5256817A (en) * | 1992-06-18 | 1993-10-26 | Amoco Corporation | Method for purifying a naphthalenedicarboxylic acid |
US5362908A (en) * | 1993-03-10 | 1994-11-08 | Amoco Corporation | Catalyst and method for purifying crude terephthalic acid, isophthalic acid or naphthalene dicarboxylic acid |
US5354898A (en) * | 1993-06-17 | 1994-10-11 | Amoco Corporation | Method for purifying crude aromatic carboxylic acids |
US5567842A (en) | 1994-11-16 | 1996-10-22 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing terephthalic acid |
-
1995
- 1995-06-07 US US08/477,898 patent/US5767311A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-05-25 TW TW085106229A patent/TW424084B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-05-28 ZA ZA964318A patent/ZA964318B/xx unknown
- 1996-05-29 MY MYPI96002045A patent/MY123045A/en unknown
- 1996-06-06 WO PCT/US1996/009015 patent/WO1996040612A1/en active IP Right Grant
- 1996-06-06 CN CN96195921A patent/CN1080253C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-06 EP EP96918139A patent/EP0857170B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-06 BR BR9609055-3A patent/BR9609055A/pt not_active Application Discontinuation
- 1996-06-06 CA CA002224081A patent/CA2224081A1/en not_active Abandoned
- 1996-06-06 AU AU60472/96A patent/AU6047296A/en not_active Abandoned
- 1996-06-06 DE DE69628319T patent/DE69628319T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-06 RU RU98100263/04A patent/RU2163231C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1996-06-06 JP JP50143497A patent/JP4272704B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-06 KR KR1019970708778A patent/KR100452021B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-06-06 ES ES96918139T patent/ES2194105T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-06 IL IL12228796A patent/IL122287A/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-06 AR AR10300996A patent/AR002370A1/es unknown
-
1998
- 1998-05-07 US US09/074,251 patent/US5961935A/en not_active Expired - Lifetime
-
2008
- 2008-11-18 JP JP2008294438A patent/JP2009091359A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2012057155A1 (ja) * | 2010-10-26 | 2014-05-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による濾過運転方法 |
JP5915534B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2016-05-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による濾過運転方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11507055A (ja) | 1999-06-22 |
EP0857170B1 (en) | 2003-05-21 |
EP0857170A4 (ja) | 1998-09-02 |
EP0857170A1 (en) | 1998-08-12 |
WO1996040612A1 (en) | 1996-12-19 |
IL122287A0 (en) | 1998-04-05 |
DE69628319T2 (de) | 2004-05-13 |
AR002370A1 (es) | 1998-03-11 |
ES2194105T3 (es) | 2003-11-16 |
US5767311A (en) | 1998-06-16 |
MY123045A (en) | 2006-05-31 |
IL122287A (en) | 2001-05-20 |
AU6047296A (en) | 1996-12-30 |
KR19990022299A (ko) | 1999-03-25 |
TW424084B (en) | 2001-03-01 |
US5961935A (en) | 1999-10-05 |
MX9709686A (es) | 1998-10-31 |
ZA964318B (en) | 1996-12-06 |
RU2163231C2 (ru) | 2001-02-20 |
KR100452021B1 (ko) | 2005-04-06 |
BR9609055A (pt) | 1999-12-14 |
CN1192198A (zh) | 1998-09-02 |
CA2224081A1 (en) | 1996-12-19 |
CN1080253C (zh) | 2002-03-06 |
JP4272704B2 (ja) | 2009-06-03 |
DE69628319D1 (de) | 2003-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4272704B2 (ja) | 精製テレフタル酸の製造法および装置 | |
US5840968A (en) | Method and apparatus for preparing purified terephthalic acid | |
US6113866A (en) | Apparatus for preparing purified terephthalic acid | |
US6054610A (en) | Method and apparatus for preparing purified terephthalic acid and isophthalic acid from mixed xylenes | |
KR0152534B1 (ko) | 테레프탈산 여과액에서 불순물을 제거하기 위한 추출방법 | |
EP1082286B1 (en) | Method for preparing purified terephthalic acid and isophthalic acid from mixed xylenes | |
RU2208606C2 (ru) | Способ очистки изофталевой кислоты путем кристаллизации | |
JP4817496B2 (ja) | 精製テレフタル酸及びイソフタル酸を混合キシレンから製造する方法 | |
JP4032186B2 (ja) | 高純度2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチルの製造法 | |
JP4729173B2 (ja) | 結晶化によるイソフタル酸の精製方法 | |
MXPA97009686A (en) | Method and apparatus for preparing tereftalicopurific acid | |
MXPA00010846A (en) | Process for purifying isophthalic acid by crystallization | |
MXPA00011782A (en) | Method for preparing purified terephthalic acid and isophthalic acid from mixed xylenes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090701 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091211 |