JPWO2012057155A1 - セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による濾過運転方法 - Google Patents
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Abstract
Description
かかる液相酸化反応により得られるテレフタル酸を含有するスラリーは、通常は晶析操作により温度を下げた後、常圧に近い圧力の状態で固液分離操作を行い、テレフタル酸ケーキを得る。
一方、固液分離して得られた酸化反応母液には、触媒由来の重金属イオン及び臭化物イオンなどの有用な触媒成分が含まれており、工業的に実施する場合、これらの触媒成分を循環使用することにより、製造コストを下げることが必要になる。
例えばテレフタル酸の場合は、該酸化反応母液を反応系に戻す割合(母液リサイクル率)は、通常、70〜98%と言われており、反応系に再使用しない2〜30%の酸化反応母液は、溶媒である酢酸を回収する工程へ送られる(反応系に戻さない母液をパージ母液と呼ぶ)。
かかる酢酸回収工程へ送られる酸化反応母液から触媒成分を回収・再使用する方法として陰イオン交換樹脂を用いる方法(特許文献1〜4)やピリジン環含有キレート樹脂を用いる方法が提案されている(特許文献5、6参照。)。
この洗浄方法としては、セラミックフィルターの流通路に循環している酸化反応母液を止めて行う方法と循環させながら行う方法がある。
当該文献の実施例の内容からは、この方法は、フィルターが詰まって濾過の線速度が落ちた時にその落ちた線速度より速い線速度で濾過液を逆洗させることと解釈できる。
しかしながら、この方法はピストン設備を用いるなどの工業上の課題が残る。また、逆洗時にかける差圧についても言及されていない。
しかし、これらはいずれも一般的な逆洗について述べたものであり、逆洗操作を効率的に行うための要件については何ら開示されていない。また、この濾過液による逆洗を繰り返すうちに濾過性能の回復割合が徐々に低下し、最後には所定の濾過性能を取れなくなる。このような場合には酸化反応母液の循環を止めてセラミックフィルターを洗浄溶媒による正洗および/または洗浄溶媒による逆洗で洗浄することになる。
(1)セラミックフィルターを長期間目詰まりなく濾過運転できる簡易な濾過運転方法、及び
(2)大量の洗浄溶媒を使用しなくて済む濾過運転方法
が見出されていない、という課題があった。
即ち本発明は、以下の(1)〜(7)からなる。
(1)テレフタル酸の製造プロセスにおける酸化反応母液中の微細結晶を酸化反応母液の流通循環運転をしながらセラミックフィルターを用いてクロスフロー方式にて濾過するにあたって、
(I)微細結晶濾過運転
(II)酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま濾過液による逆洗運転を行うに際し、(II)濾過液による逆洗運転を、
(II-A)運転時間が5〜180[秒]の範囲
(II-B)濾過側と流通路側の差圧が0.10〜1.0[MPa]の範囲
(II-C)濾過液の供給線速度が1.0〜20[m/hr]の範囲
(II-D)濾過液の温度が、「酸化反応母液温」〜「酸化反応母液温+35℃」の範囲
で行うことを特徴とする濾過運転方法。
(I-A)運転時間が60〜1800[秒]の範囲
(I-B)流通路側と濾過側の差圧が0.05〜0.5[MPa]の範囲
(I-C)酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度が、流通路入口基準で3000〜15000[m/hr]の範囲
(I-D)濾過液の濾過線速度が1.0〜4.0[m/hr]の範囲
で行う(1)に記載の濾過運転方法。
(4)(III)の洗浄溶媒による逆洗運転を、
(III-A)運転時間が5〜180[秒]の範囲
(III-B)洗浄溶媒による逆洗時の濾過側と流通路側の差圧が0.10〜1.0[MPa]の範囲
(III-C)逆洗時の洗浄溶媒の供給線速度が1.0〜20[m/hr]の範囲
(III-D)洗浄溶媒の温度が、「酸化反応母液温」〜「酸化反応母液温+35℃」の範囲
で行う(3)に記載の濾過運転方法。
(6)洗浄溶媒が含水率0.1〜30質量%の酢酸である(3)〜(5)のいずれかに記載の濾過運転方法。
(7)濾過液による逆洗時に、セラミックフィルターの循環出口配管側の圧力を下げ、差圧をとり、濾過液を供給する(1)〜(6)のいずれかに記載の濾過運転方法。
前記p−フェニレン化合物の液相酸化反応においては、重金属化合物及び臭素化合物が触媒として用いられる。
重金属化合物の濃度は、酸化反応母液中の濃度で規定され、液相酸化反応を促進し得る範囲であれば特に限定されないが、例えばコバルトイオンとして通常100ppm以上、好ましくは200ppm以上であり、上限は1000ppm以下、好ましくは800ppm以下である。また、マンガンイオンについても同様に通常100ppm以上、好ましくは150ppm以上であり、上限は800ppm以下、好ましくは600ppm以下である。
臭素化合物の濃度は、酸化反応母液中の濃度で規定され、液相酸化反応を促進し得る範囲であれば特に限定されないが、例えば臭化物イオンとして通常300ppm以上、好ましくは500ppm以上であり、上限は1500ppm以下、好ましくは1200ppm以下である。
前記液相酸化反応における反応器の圧力は、反応温度において反応系が液相を保持できる圧力であれば良く、通常0.1〜3.0[MPaG]、好ましくは0.3〜3.0[MPaG]、より好ましくは0.3〜1.8[MPaG]、更に好ましくは0.6〜1.8[MPaG]である。
セラミックフィルターにおいては、セラミック多孔体をそのまま濾材として用いる場合もあるが、濾過性能、流体透過量(即ち処理能力)の双方を向上させるため、セラミック多孔体を基材(支持体)として、その表面にセラミックからなる濾過膜を形成することが一般的である。
例えば、濾過膜の平均細孔径を0.01〜1.0μm程度と小さく構成して濾過性能を確保する一方、基材の平均細孔径を1〜数100μm程度に大きく構成して、基材内部の流動抵抗を低下させ、流体透過量(即ち処理能力)を向上させることが行われている。
チューブ状、或いはハニカム状基材の表面、例えば流通路の内周面に濾過膜を形成したフィルターは、ハウジング内に収容し、基材外周面側と流通路が開口する基材端面側とをO−リング等で気密的に隔離する構造とすることにより、クロスフロー方式のフィルターとして利用されている。
また、セラミックフィルターは処理量に応じて、並列にて複数本を配置し使用することもできる。
濾過運転時間が60秒以上であればバルブの切り替えが頻繁に発生することもなく、バルブの寿命が保たれる。1800秒以下であれば濾過終期の濾過流量が0.47[m3/hr]より下がることもなく、平均濾過流量が保たれる。それに濾過液による逆洗で濾過性能が回復しやすい。
また、微細結晶濾過運転時の流通路側と濾過側の差圧は0.05〜0.5[MPa]の範囲が好ましい。
差圧が0.05[MPa]以上であれば濾過性能が十分である。一方、差圧が0.5[MPa]以下であればセラミックフィルターやO−リングが破損する恐れが少ない。
濾過側と流通路側の差圧が0.10[MPa]未満ではセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に濾過液が流れにくくなり、十分な洗浄効果を得ることができない。一方、濾過側と流通路側の差圧が1.0[MPa]を超えると急激な圧力変動によりセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性が増すので好ましくない。
濾過液の供給線速度が1.0[m/hr]未満ではセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に濾過液が流れにくくなり、十分な洗浄効果を得ることができない。一方、濾過液の供給線速度が20[m/hr]を超えると急激な圧力変動によりセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性が増すので好ましくない。
濾過液による逆洗の際に、流通路側の圧力を下げることにより差圧をつけることが好適に行われる。
前記濾過液による逆洗を繰り返すうちに濾過性能の回復割合が徐々に低下し、最後には所定の濾過性能を取れなくなる。本発明においては、このような場合、酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま、セラミックフィルターを洗浄溶媒による逆洗で洗浄する。
本発明で、酸化反応母液の流通循環運転を保持したままの洗浄溶媒による逆洗運転で、用いる洗浄溶媒としては、テレフタル酸を主成分とする微細結晶を溶解する能力が求められており、液相酸化反応の溶媒である酢酸が好適である。該酢酸の含水率は0.1〜30質量%であることが好ましく、0.1〜10質量%であることがより好ましい。
濾過側と流通路側の差圧が0.10[MPa]以上であればセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に洗浄溶媒が流れ、十分な洗浄効果を得ることができる。一方、濾過側と流通路側の差圧が1.2[MPa]以下であれば急激な圧力変動もなくセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性もない。
洗浄溶媒の供給線速度が1.0[m/hr]以上であればセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に洗浄溶媒が流れ、十分な洗浄効果を得ることができる。一方、洗浄溶媒の供給線速度が20[m/hr]以下であれば急激な圧力変動によりセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性がない。
洗浄溶媒は流通路を循環する酸化反応母液に混ざることになるため、洗浄溶媒の温度は酸化反応母液の温度以上であることが好ましい。また、濾過膜の表面に堆積した微細結晶と濾過膜の内部で析出した固形分(主にテレフタル酸)を短時間で溶解するためには洗浄溶媒の温度は酸化反応母液の温度より高い方がよいが、一方でセラミックフィルターでの極端な温度変化は、セラミックフィルターとフィルターハウジングとの熱膨張率の差に起因するセラミックフィルター破損やO−リング破損を引き起こす可能性がある。よって洗浄溶媒の温度の上限は「酸化反応母液の温度+35℃」が好ましく、より好ましくは「酸化反応母液の温度+25℃」である。
ただし、本発明においては、(I)、(II)を繰り返し行い、(II)によって濾過流量が回復できなくなった時に(III)を行う(I)、(II)、(III)からなる周期運転とすることが好ましい。
水分濃度9質量%の含水酢酸中で、p−キシレンをコバルトイオン500ppm、マンガンイオン300ppm及び臭化物イオン700ppmの存在下、空気により液相酸化反応(反応温度200[℃]、反応圧力1.5[MPaG])させることにより、粗テレフタル酸を含有するスラリーを得た。後酸化反応の後、晶析工程へ導いて放圧し、常圧で100℃まで冷却した後、ロータリーバキュームフィルターにて固液分離して粗テレフタル酸結晶を分離し、セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による濾過運転に必要な酸化反応母液を準備した。なお、該酸化反応母液は70℃であった。この酸化反応母液は微細結晶で濁っており、微細結晶の含有率は0.21質量%であった。
この酸化反応母液の一部を酸化反応母液槽(60[m3])より抜き出し、セラミックフィルターによるクロスフロー濾過を行った。循環する母液は酸化反応母液槽に戻し、濾過液は濾過液槽(2[m3])に送液した。
なお、実施例中のテレフタル酸廃棄量は酸化反応母液循環流量(1.84m3/hr、)中の析出テレフタル酸量より算出した。
(微細結晶濾過運転)
図1〜図3において、上述の酸化反応母液は酸化反応母液槽1に貯められている。この酸化反応母液は、ポンプ2を用いて循環入口配管6を通して濾過モジュール7の上部基材端面側10に供給される。このとき、コントロールバルブ4にて流量を調節する。濾過モジュール7に供給された酸化反応母液はセラミックフィルター8の流通路28を通過し、下部の基材端面側10、循環出口配管11を通過して酸化反応母液槽1に戻る。このとき、コントロールバルブ13にて流量を調節する。
この一連の流れを酸化反応母液循環ラインと呼ぶ。母液循環ラインにおいてはコントロールバルブ4及び13を調整することにより、母液循環流量を調節する。更には、セラミックフィルター8の流通路28側、つまりフィルターの上流側の圧力(一次圧)を調整する。その圧力は圧力計5、12にて確認する。
濾過流量は一次圧と二次圧の濾過差圧、濾過される流体の物性(粘度など)、及びセラミックフィルター8の濾過性能(濾過面積、平均細孔径、目詰まりの程度など)によって決まる。
濾過差圧ΔP[MPa]は、圧力計5の圧力をP1[MPaG]、圧力計12の圧力をP2[MPaG]、圧力計17の圧力をP3[MPaG]とし、以下の式により算出する。
ΔP=(P1+P2)/2−P3
図1〜図3において、微細結晶濾過運転時の濾過流量が低下した時には濾過液による逆洗を行う。まず、バルブ18を閉(コントロールバルブ24及び25は閉のまま)として濾過運転を停止する(母液循環は継続)。次にコントロールバルブ24を調節しながら開け、濾過液槽19内の濾過液を、ポンプ20を用いて濾過液逆洗配管23を通して濾過モジュール7の濾過側9に供給する。このとき、必要に応じて該濾過液の温度を熱交換器22にて制御する。また、濾過側9の圧力が流通路28側の圧力より高くなるようにし(逆洗差圧)、濾過液を濾過側9から流通路28側に通過させて逆洗を行う。この逆洗差圧は−ΔPで定義される。
なお、逆洗時にコントロールバルブ4及び13を調節することにより流通路28側の圧力を下げて逆洗差圧を調節することも適宜行われる。
図2において、濾過液による逆洗運転で濾過流量が十分に回復しなくなった時は、洗浄溶媒による逆洗を行う。まず、バルブ18とコントロールバルブ24を閉とし(母液循環は継続)、次にコントロールバルブ25を調節しながら開け、洗浄溶媒を、洗浄溶媒逆洗配管26を通して濾過モジュール7の濾過側9に供給する。このとき、必要に応じて洗浄溶媒の温度を熱交換器27にて制御する。また、濾過側9の圧力が流通路28側の圧力より高くなるようにし、洗浄溶媒を濾過側9から流通路28側に通過させて逆洗を行う。通過した洗浄溶媒は循環する酸化反応母液と混合される。
なお、逆洗時にコントロールバルブ4及び13を調節することにより流通路28側の圧力を下げて逆洗差圧を調節することも適宜行われる。
濾過モジュール7入口循環流量 F[m3/hr]
微細結晶濾過運転時間 T1[sec]
微細結晶濾過運転開始時の濾過流量 Xs[m3/hr]
微細結晶濾過運転終了時の濾過流量 Xt[m3/hr]
微細結晶濾過運転時の平均濾過流量 X1[m3/hr]=(Xs+Xt)/2
酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度
LV1[m/hr]= F / 0.0002386
濾過液の濾過線速度
LV2[m/hr]= Xs / 0.2386
微細結晶濾過運転における総濾過液量 V1[m3]=T1×X1/3600
濾過液による逆洗運転時間 T2[sec]
濾過液による逆洗運転時の逆洗流量 X2[m3/hr]
濾過液による逆洗運転における総逆洗液量 V2[m3]=T2×X2/3600
微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクルの平均濾過流量
V3[m3/hr]=(V1−V2)/(T1+T2)×3600
濾過液による逆洗運転時の供給線速度
LV3[m/hr]= X2 / 0.2386
濾過液による逆洗運転での濾過液使用量が多ければ、正味で得られる濾過液が少なくなることとなり、微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクルの平均濾過流量V3が小さくなる。
(微細結晶濾過運転)
濾過モジュール7に上述の酸化反応母液(70℃)を循環入口流量1.84[m3/hr](P1=0.30[MPaG])で供給し(ダウンフロー)、クロスフロー濾過を開始した。微細結晶濾過運転開始時の濾過流量Xsは0.63[m3/hr](P3=0.00[MPaG])であり、循環出口流量は1.21[m3/hr](P2=0.18[MPaG])であった。流通路側と濾過側の差圧はΔP=0.24[MPa]であった。また、内部流通路内での循環線速度及び濾過液の濾過線速度は、それぞれ7706(m/hr)、2.64(m/hr)であった。
濾過運転を継続したところ、600秒後に濾過流量が0.47[m3/hr]まで下がったので(微細結晶濾過運転終了時の濾過流量Xtは0.47[m3/hr])、酸化反応母液の循環を継続したまま濾過液による逆洗を80秒間行った(供給線速度は5.28[m/hr]、濾過液の温度70℃)。このときのP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.42[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.27[MPa]であった。また、逆洗流量は1.26[m3/hr]であった。
3〜5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。
更に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる4時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転を供給線速度10.6[m/hr]、逆洗運転時間40秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.33[MPaG]、P2=0.05[MPaG]、P3=0.81[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.62[MPa]であった。また、逆洗流量は2.52[m3/hr]であった。
濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき(1サイクル目濾過液逆洗直後)の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.358[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.358[m3/hr]であった。
3〜5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。
更に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(40秒間)を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる6時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転を供給線速度2.64[m/hr]、濾過液の温度80℃、逆洗運転時間120秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.36[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.22[MPa]であった。また、逆洗流量は0.63[m3/hr]であった。
濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき(1サイクル目濾過液逆洗直後)の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.353[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.353[m3/hr]であった。
3〜5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。
更に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(120秒間)を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる4時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転時に流通路側の圧力を下げるための上流コントロールバルブ4及び下流コントロールバルブ13の開度調整を行わないこと以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.50[MPaG]、P2=0.25[MPaG]、P3=0.63[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.26[MPa]であった。
濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき(1サイクル目濾過液逆洗直後)の濾過流量は0.61[m3/hr]までの回復にとどまり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.337[m3/hr]であった。
3〜5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3は、それぞれ2サイクル目と同一であった。
更に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる2時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。
流通路側の圧力を下げるための上流コントロールバルブ4及び下流コントロールバルブ13の開度調整を行わなかったことにより、濾過液逆洗で流通路内に入った濾過液が上部基材端面側からセラミックフィルターへ流入する酸化反応母液流量を減少させてしまい濾過膜の表面に堆積した微細結晶を物理的に取り去る効果が低下したことが原因であった。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転時間を200秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.42[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.27[MPa]であった。
濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき(1サイクル目濾過液逆洗直後)の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.097[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.097[m3/hr]であった。
3〜5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。
更に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(200秒間)を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる4時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。
ただし、濾過液による逆洗運転時間が長いために平均濾過流量V3は0.097[m3/hr]であった。平均濾過流量が低いので必要とされるフィルターエレメントの本数が増え、コストアップにつながった。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転を供給線速度0.84[m/hr]、で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に行った。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.18[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.19[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.09[MPa]であった。また、逆洗流量は0.20[m3/h]であった。
濾過液による逆洗運転を終了して濾過工程に戻したが、微細結晶濾過運転開始時の濾過流量は0.55[m3/hr]までしか回復しなかった。また、微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクル目の平均濾過流量V3は0.462[m3/hr]であった。
次に、2サイクル目の濾過運転に入ったところ、100秒後に濾過流量が0.50[m3/hr]まで下がって、微細結晶濾過運転時間T1=600秒設定を維持できなくなった。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転を濾過液の温度60℃で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に行った。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.44[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.29[MPa]であった。
濾過液による逆洗運転を終了して濾過工程に戻したが、微細結晶濾過運転開始時の濾過流量は0.54[m3/hr]までしか回復しなかった。また1サイクル目の平均濾過流量V3は0.337[m3/hr]であった。
次に、2サイクル目の濾過運転に入ったところ、90秒後に濾過流量が0.50[m3/hr]まで下がって、微細結晶濾過運転時間T1=600秒設定を維持できなくなった。結果を表1に示す。
濾過液による逆洗運転を濾過液の温度60℃と低めで行ったため、セラミックフィルター洗浄が十分にできなかったことが原因であった。
濾過液による逆洗運転を供給線速度0.84[m/hr]、濾過液の温度80℃、逆洗運転時間400秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.18[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.18[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は−ΔP=0.08[MPa]であった。また、逆洗流量は0.20[m3/hr]であった。
濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき(1サイクル目濾過液逆洗直後)の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.250[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.250[m3/hr]であった。
3〜5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。
更に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(400秒間)を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる3時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。
ただし、本比較例の運転条件でも、平均濾過流量V3は0.250[m3/hr]であった。平均濾過流量が低いので必要とされるフィルターエレメントの本数が増え、コストアップにつながった。結果を表1に示す。
(微細結晶濾過運転)
濾過モジュール7に前述の酸化反応母液(約70℃)を循環入口流量1.84[m3/hr](P1=0.30[MPaG])で供給し(ダウンフロー)、クロスフロー濾過を開始した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr](P3=0.00[MPaG])であり、循環出口流量は1.21[m3/hr](P2=0.18[MPaG])であった。流通路側と濾過側の差圧はΔP=0.24[MPa]であった。また、内部流通路内での循環線速度及び濾過液の濾過線速度は、それぞれ7706(m/hr)、2.64(m/hr)であった。
濾過運転を継続したところ、600秒後に濾過流量が0.47[m3/hr]まで下がったので、酸化反応母液の循環を継続したまま濾過液による逆洗を80秒間行った(逆洗流量1.26[m3/hr])。このときのP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.42[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.27[MPa]であった。
濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]で、濾過液による濾過線速度は2.64(m/hr)であった。
濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続したところ、4時間後に濾過流量が濾過液による逆洗直後においても0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま洗浄溶媒の酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗を15秒間行った(逆洗流量1.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.26[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次に、再度、濾過運転と濾過液による逆洗を繰り返し、濾過液による逆洗直後においても0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったために洗浄溶媒による逆洗をするまでの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を15秒間行った(逆洗流量2.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は8.38[m/hr]。このときのP1=0.32[MPaG]、P2=0.04[MPaG]、P3=0.65[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.47[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。
また、次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を10秒間行った(逆洗流量3.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は12.6[m/hr]。このときのP1=0.33[MPaG]、P2=0.06[MPaG]、P3=0.93[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.74[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を60秒間行った(逆洗流量0.50[m3/hr])。酢酸の供給線速度は2.09[m/hr]。このときのP1=0.25[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.33[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.20[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(150秒間)と濾過液による逆洗運転(20秒間)を交互に継続した(6時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を15秒間行った(逆洗流量1.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.26[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は6時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ6時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(900秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(3時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を15秒間行った(逆洗流量1.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.26[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は3時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ3時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を停止し(コントロールバルブ4及び13を閉、次いで抜液バルブ14を開)、酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を180秒間行った(逆洗流量1.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.00[MPaG]、P2=0.00[MPaG]、P3=0.08[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.08[MPa]であった。
洗浄溶媒(酢酸)を系外に排出する逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]まで回復したが、酢酸の使用量は0.0500[m3]と実施例5の12倍の使用量となった。さらに、酸化反応母液中のテレフタル酸0.46質量%が廃棄物として系外に排出された。なお、次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を停止し(コントロールバルブ4及び13を閉、次いで抜液バルブ14を開)、酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を15秒間行った(逆洗流量1.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.00[MPaG]、P2=0.00[MPaG]、P3=0.08[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.08[MPa]であった。
洗浄溶媒(酢酸)を系外に排出する逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。酢酸の使用量は0.0042[m3]と実施例5と同じであるが、母液循環がない分、流通路側にある濾過面の上に堆積した微細結晶が除去されにくく、濾過流量は0.52[m3/hr]までしか回復しなかった。そのために、2回目以降の洗浄溶媒による逆洗までの周期は30分間と極端に短くなった。つまり、セラミックフィルターの濾過性能を維持できる運転周期が極端に短くなった。結果を表2に示す。
さらに、酸化反応母液中のテレフタル酸5.52質量%が廃棄物として系外に排出された。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を180秒間行った(逆洗流量1.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.26[MPa]であった。
含水酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復したが、酢酸の使用量は0.0500[m3]と実施例5の12倍の使用量となった。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を15秒間行った(逆洗流量0.20[m3/hr])。酢酸の供給線速度は0.84[m/hr]。このときのP1=0.10[MPaG]、P2=0.09[MPaG]、P3=0.18[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=0.09[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。酢酸の使用量は0.00083[m3]と少なく(実施例5の0.21倍)、濾過流量は0.55[m3/hr]までしか回復しなかった。
2回目以降の洗浄溶媒による逆洗までの周期は1時間であった。つまり、セラミックフィルターの濾過性能を維持できる運転周期が極端に短くなった。結果を表2に示す。
実施例5と同様に濾過運転(600秒間)と濾過液による逆洗運転(80秒間)を交互に継続した(4時間)。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸(含水率7.1質量%、80℃)による逆洗運転を15秒間行った(逆洗流量5.00[m3/hr])。酢酸の供給線速度は20.9[m/hr]。このときのP1=0.40[MPaG]、P2=0.31[MPaG]、P3=1.41[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は−ΔP=1.06[MPa]であった。
酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復したが、酢酸の使用量は0.0208[m3]と実施例5の5倍の使用量となった。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。結果を表2に示す。
1 酸化反応母液槽
2 ポンプ
3 ミニマムフローライン
4 コントロールバルブ
5 圧力計(P1)
6 循環入口配管
7 濾過モジュール(ハウジング)
8 セラミックフィルター
9 濾過側
10 基材端面側
11 循環出口配管
12 圧力計(P2)
13 コントロールバルブ
14 抜液バルブ
15 循環戻り配管
16 濾過液出口配管
17 圧力計(P3)
18 バルブ
19 濾過液槽
20 ポンプ
21 ミニマムフローライン
22 熱交換器
23 濾過液逆洗配管
24 コントロールバルブ
25 コントロールバルブ
26 洗浄溶媒逆洗配管
27 熱交換器
28 流通路
Claims (7)
- テレフタル酸の製造プロセスにおける酸化反応母液中の微細結晶を酸化反応母液の流通循環運転をしながらセラミックフィルターを用いてクロスフロー方式にて濾過するにあたって、
(I)微細結晶濾過運転
(II)酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま濾過液による逆洗運転を行うに際し、(II)濾過液による逆洗運転を、
(II-A)運転時間が5〜180[秒]の範囲
(II-B)濾過側と流通路側の差圧が0.10〜1.0[MPa]の範囲
(II-C)濾過液の供給線速度が1.0〜20[m/hr]の範囲
(II-D)濾過液の温度が、「酸化反応母液温」〜「酸化反応母液温+35℃」の範囲
で行うことを特徴とする濾過運転方法。 - (I)微細結晶濾過運転を、
(I-A)運転時間が60〜1800[秒]の範囲
(I-B)流通路側と濾過側の差圧が0.05〜0.5[MPa]の範囲
(I-C)酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度が、流通路入口基準で3000〜15000[m/hr]の範囲
(I-D)濾過液の濾過線速度が1.0〜4.0[m/hr]の範囲
で行う請求項1に記載の濾過運転方法。 - 更に、(III)酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま洗浄溶媒による逆洗運転を行う請求項1又は2に記載の濾過運転方法。
- (III)の洗浄溶媒による逆洗運転を、
(III-A)運転時間が5〜180[秒]の範囲
(III-B)洗浄溶媒による逆洗時の濾過側と流通路側の差圧が0.10〜1.0[MPa]の範囲
(III-C)逆洗時の洗浄溶媒の供給線速度が1.0〜20[m/hr]の範囲
(III-D)洗浄溶媒の温度が、「酸化反応母液温」〜「酸化反応母液温+35℃」の範囲
で行う請求項3に記載の濾過運転方法。 - (I)の微細結晶濾過運転および(II)の濾過液による逆洗運転、からなる運転を繰り返し行い、(II)の濾過液による逆洗運転によっては濾過流量回復を保てなくなった時に、(III)の洗浄溶媒による逆洗運転を行う請求項3又は4に記載の濾過運転方法。
- 洗浄溶媒が含水率0.1〜30質量%の酢酸である請求項3〜5のいずれかに記載の濾過運転方法。
- 濾過液による逆洗時に、セラミックフィルターの循環出口配管側の圧力を下げ、差圧をとり、濾過液を供給する請求項1〜6のいずれかに記載の濾過運転方法。
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