JP2002524390A - 精製テレフタル酸及びイソフタル酸を混合キシレンから製造する方法 - Google Patents
精製テレフタル酸及びイソフタル酸を混合キシレンから製造する方法Info
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Abstract
(57)【要約】
混合キシレンから精製テレフタル酸、及び場合によりイソフタル酸を製造するため方法及び装置。本発明の方法は、テレフタル酸及びイソフタル酸の外、少量の４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシベンズアルデヒド（３−ＣＢＡ）、及びトルイル酸異性体からなる混合物を含有する酸化反応器流出物を精製し、総合した方法で精製テレフタル酸、及び場合により精製イソフタル酸を生成させる。
Description
【０００１】 （技術分野） 本発明は、テレフタル酸及びイソフタル酸の製造に関し、特に混合キシレンか
ら精製テレフタル酸及びイソフタル酸を製造するための方法及び装置に関する。
ら精製テレフタル酸及びイソフタル酸を製造するための方法及び装置に関する。
【０００２】 （背景技術） 従来のテレフタル酸（ＴＰＡ）製造方法は、生成物の品質を向上し、製造コス
トを低下するために、比較的高いｐ−キシレン純度（９９．７＋％）を必要とす
る。これは、そのような従来法ではそれらの方法の酸化段階で生成した粗製テレ
フタル酸を精製するための主な方法として水素化を用いていることによる。水素
化法は主たる不純物、４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ＣＢＡ）をｐ−ト
ルイル酸へ転化することにより除去するのに非常に選択的であるが、その方法は
、４−ＣＢＡの存在量が非常に少ない（好ましくは３，０００ｐｐｍ未満の）場
合しか働かない。また、従来法のＴＰＡ製造方法は、イソフタル酸（ＩＰＡ）及
びフタル酸（ＰＡ）のような異性体からＴＰＡを分離することができない。
トを低下するために、比較的高いｐ−キシレン純度（９９．７＋％）を必要とす
る。これは、そのような従来法ではそれらの方法の酸化段階で生成した粗製テレ
フタル酸を精製するための主な方法として水素化を用いていることによる。水素
化法は主たる不純物、４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ＣＢＡ）をｐ−ト
ルイル酸へ転化することにより除去するのに非常に選択的であるが、その方法は
、４−ＣＢＡの存在量が非常に少ない（好ましくは３，０００ｐｐｍ未満の）場
合しか働かない。また、従来法のＴＰＡ製造方法は、イソフタル酸（ＩＰＡ）及
びフタル酸（ＰＡ）のような異性体からＴＰＡを分離することができない。
【０００３】 関連出願 本出願は、１９９５年６月７日に出願された「精製テレフタル酸の製造方法及
び装置」(Method and Apparatus for Preparing Purified Terephthalic Acid)
と題する共願の米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０８／４７７，８９８（現在
米国特許第５，７６７，３１１号）のＣＩＰである１９９６年１２月６日に出願
された「精製テレフタル酸の製造方法及び装置」(Method and Apparatus for Pr
eparing Purified Terephthalic Acid)と題する米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎ
ｏ．０８／７６０，８９０のＣＩＰである１９９７年１０月３１日に出願された
「精製テレフタル酸の製造方法及び装置」(Method and Apparatus for Preparin
g Purified Terephthalic Acid)と題する米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０
８／９６２，０３０のＣＩＰである１９９５年６月７日に出願された「精製テレ
フタル酸の製造方法及び装置」(Method and Apparatus for Preparing Purified
Terephthalic Acid)と題する共願の米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０８／
４７７，８９８（現在米国特許第５，７６７，３１１号）の分割である１９９８
年５月７日に出願された「精製テレフタル酸の製造方法及び装置」(Method and
Apparatus for Preparing Purified Terephthalic Acid)と題する共願の米国特
許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０９／０７４，２５１のＣＩＰである。これら四件
の出願は全て本願と同じ譲受け人に譲渡されており、それらの記載の全てはここ
に全ての目的について参考のため入れてある。
び装置」(Method and Apparatus for Preparing Purified Terephthalic Acid)
と題する共願の米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０８／４７７，８９８（現在
米国特許第５，７６７，３１１号）のＣＩＰである１９９６年１２月６日に出願
された「精製テレフタル酸の製造方法及び装置」(Method and Apparatus for Pr
eparing Purified Terephthalic Acid)と題する米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎ
ｏ．０８／７６０，８９０のＣＩＰである１９９７年１０月３１日に出願された
「精製テレフタル酸の製造方法及び装置」(Method and Apparatus for Preparin
g Purified Terephthalic Acid)と題する米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０
８／９６２，０３０のＣＩＰである１９９５年６月７日に出願された「精製テレ
フタル酸の製造方法及び装置」(Method and Apparatus for Preparing Purified
Terephthalic Acid)と題する共願の米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０８／
４７７，８９８（現在米国特許第５，７６７，３１１号）の分割である１９９８
年５月７日に出願された「精製テレフタル酸の製造方法及び装置」(Method and
Apparatus for Preparing Purified Terephthalic Acid)と題する共願の米国特
許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎｏ．０９／０７４，２５１のＣＩＰである。これら四件
の出願は全て本願と同じ譲受け人に譲渡されており、それらの記載の全てはここ
に全ての目的について参考のため入れてある。
【０００４】 （発明の開示） 上に記載した従来のＴＰＡ製造方法とは対照的に、本発明は、精製されたテレ
フタル酸、及び場合によりイソフタル酸を混合キシレンから製造するための方法
及び装置を与える。重要な点は、本方法は、テレフタル酸及びイソフタル酸の外
、少量の４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシベン
ズアルデヒド（３−ＣＢＡ）、及びトルイル酸異性体からなる混合物を含む酸化
反応器流出物を精製し、精製テレフタル酸、及び場合により精製イソフタル酸を
総合した方法で製造することができることである。これらの生成物は、繊維、フ
イルム、プラスチックボトル、及び屡々ガラス繊維のような他の材料で補強され
たポリエステル樹脂構造体を製造するに有用である。
フタル酸、及び場合によりイソフタル酸を混合キシレンから製造するための方法
及び装置を与える。重要な点は、本方法は、テレフタル酸及びイソフタル酸の外
、少量の４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシベン
ズアルデヒド（３−ＣＢＡ）、及びトルイル酸異性体からなる混合物を含む酸化
反応器流出物を精製し、精製テレフタル酸、及び場合により精製イソフタル酸を
総合した方法で製造することができることである。これらの生成物は、繊維、フ
イルム、プラスチックボトル、及び屡々ガラス繊維のような他の材料で補強され
たポリエステル樹脂構造体を製造するに有用である。
【０００５】 本発明によれば、精製テレフタル酸、及び場合により精製イソフタル酸を、混
合キシレンから総合された方法で製造するための方法及び装置が与えられる。一
つの態様として、本発明の方法は、主にｐ−キシレン及び少量部分のｍ−キシレ
ン及び他の異性体を含む混合キシレンの酸化による粗製混合酸（テレフタル酸及
びイソフタル酸を含有する）の製造を含んでいる。酸化工程は、テレフタル酸及
びイソフタル酸のみならず、不完全な酸化により４−ＣＢＡ、３−ＣＢＡ、ｐ−
トルイル酸、ｍ−トルイル酸、及び他の微量の酸及びアルデヒド異性体を生成す
る。酸化工程から得られた生成物は、未反応出発材料、用いられた場合の溶媒、
副反応生成物、特に上で言及したもの、及び精製テレフタル酸及び精製イソフタ
ル酸を求めるのには望ましくない他の物質を含有する液体分散物である。
合キシレンから総合された方法で製造するための方法及び装置が与えられる。一
つの態様として、本発明の方法は、主にｐ−キシレン及び少量部分のｍ−キシレ
ン及び他の異性体を含む混合キシレンの酸化による粗製混合酸（テレフタル酸及
びイソフタル酸を含有する）の製造を含んでいる。酸化工程は、テレフタル酸及
びイソフタル酸のみならず、不完全な酸化により４−ＣＢＡ、３−ＣＢＡ、ｐ−
トルイル酸、ｍ−トルイル酸、及び他の微量の酸及びアルデヒド異性体を生成す
る。酸化工程から得られた生成物は、未反応出発材料、用いられた場合の溶媒、
副反応生成物、特に上で言及したもの、及び精製テレフタル酸及び精製イソフタ
ル酸を求めるのには望ましくない他の物質を含有する液体分散物である。
【０００６】 反応器流出物を一連の結晶化器へ送り、そこで圧力低下により反応媒体、好ま
しくは酢酸を蒸発させることにより固体を成長させる。最後結晶化器からのスラ
リーを濾過し、洗浄する。濾過された結晶を、次に乾燥して溶媒を除去し、得ら
れる粗製混合酸結晶中の量が０．２５％より低くなるようにする。濾過からの母
液を溶媒脱水装置へ送り、水から溶媒（酢酸）を回収して酸化器へ再循環する。
しくは酢酸を蒸発させることにより固体を成長させる。最後結晶化器からのスラ
リーを濾過し、洗浄する。濾過された結晶を、次に乾燥して溶媒を除去し、得ら
れる粗製混合酸結晶中の量が０．２５％より低くなるようにする。濾過からの母
液を溶媒脱水装置へ送り、水から溶媒（酢酸）を回収して酸化器へ再循環する。
【０００７】 更に本発明に従い、酸化部門の乾燥器からの粗製混合酸を、選択的結晶化溶媒
中に再溶解し、次に一つ又は好ましくは二つの結晶化段階でその選択的結晶化溶
媒からテレフタル酸（ＴＰＡ）の結晶を析出させる。本発明の溶媒（共溶媒を含
むか、又は含まない）からＴＰＡを結晶化し、次第に精製されたものを分離して
取り出すための設備を構成する。最終的に得られた精製ＴＰＡの濾滓を水で洗浄
し、水に浸漬し、ＴＰＡ生成物から色及び最終的に微量の選択的結晶化溶媒を除
去する。
中に再溶解し、次に一つ又は好ましくは二つの結晶化段階でその選択的結晶化溶
媒からテレフタル酸（ＴＰＡ）の結晶を析出させる。本発明の溶媒（共溶媒を含
むか、又は含まない）からＴＰＡを結晶化し、次第に精製されたものを分離して
取り出すための設備を構成する。最終的に得られた精製ＴＰＡの濾滓を水で洗浄
し、水に浸漬し、ＴＰＡ生成物から色及び最終的に微量の選択的結晶化溶媒を除
去する。
【０００８】 結晶化器母液（ＴＰＡ固体を濾過により除去した後のもの）からイソフタル酸
（ＩＰＡ）を回収するために、反溶媒(anti-solvent)を添加して母液からＴＰＡ
を実質的に完全に沈澱させる。実質的にＴＰＡを含まない母液を、選択的結晶化
溶媒及び反溶媒を母液から蒸発させることにより濃縮し、冷却して粗製ＩＰＡを
結晶化させる。次にその粗製ＩＰＡを別の選択的結晶化溶媒中で再結晶すること
により更に精製する。
（ＩＰＡ）を回収するために、反溶媒(anti-solvent)を添加して母液からＴＰＡ
を実質的に完全に沈澱させる。実質的にＴＰＡを含まない母液を、選択的結晶化
溶媒及び反溶媒を母液から蒸発させることにより濃縮し、冷却して粗製ＩＰＡを
結晶化させる。次にその粗製ＩＰＡを別の選択的結晶化溶媒中で再結晶すること
により更に精製する。
【０００９】 本発明は、結晶化及び洗浄及び最終的浸漬の各段階で、本発明の溶媒を再利用
し、循環する工程も考慮に入れている。環境へ好ましくない物質を捨てるのを厳
密に抑制する工程も取られている。
し、循環する工程も考慮に入れている。環境へ好ましくない物質を捨てるのを厳
密に抑制する工程も取られている。
【００１０】 本発明の一つの重要な特徴は、ＴＰＡ、２０％までのＩＰＡ、少量の３−ＣＢ
Ａ、４−ＣＢＡ、ｍ−トルイル酸、ｐ−トルイル酸、及びその他を含有する粗製
混合物から、結晶化及び分離工程により、ＴＰＡ及びＩＰＡの精製を行うのに有
効な溶媒を発見したことにある。これらの発見は次のように要約することができ
る。
Ａ、４−ＣＢＡ、ｍ−トルイル酸、ｐ−トルイル酸、及びその他を含有する粗製
混合物から、結晶化及び分離工程により、ＴＰＡ及びＩＰＡの精製を行うのに有
効な溶媒を発見したことにある。これらの発見は次のように要約することができ
る。
【００１１】 ＴＰＡ精製の場合、本発明を実施するのに有用な選択的結晶化溶媒には、（ａ
）ＴＰＡから分離されるのが望ましい不純物（ＩＰＡを含む）が、ＴＰＡ含有溶
媒を取扱わなければならない希望の範囲の温度内の実質的にどの温度でも、ＴＰ
Ａよりも比較的一層よくその溶媒に溶解し、そして（ｂ）上昇させた温度ではＴ
ＰＡが一層よく溶解し、低い又は低下した温度では溶解しにくくなるような溶媒
が含まれる。用語「選択的結晶化溶媒」とは、上に記載したように、ＴＰＡの選
択的結晶化で有用などのような溶媒でも含まれるように用いられていることを理
解すべきである。
）ＴＰＡから分離されるのが望ましい不純物（ＩＰＡを含む）が、ＴＰＡ含有溶
媒を取扱わなければならない希望の範囲の温度内の実質的にどの温度でも、ＴＰ
Ａよりも比較的一層よくその溶媒に溶解し、そして（ｂ）上昇させた温度ではＴ
ＰＡが一層よく溶解し、低い又は低下した温度では溶解しにくくなるような溶媒
が含まれる。用語「選択的結晶化溶媒」とは、上に記載したように、ＴＰＡの選
択的結晶化で有用などのような溶媒でも含まれるように用いられていることを理
解すべきである。
【００１２】 ＩＰＡ精製の場合、母液（ＴＰＡ結晶化流出物からのもの）へ添加しなければ
ならない反溶媒は、母液から実質的に全てのＴＰＡの沈澱（又は結晶化）を起こ
し、然も未だＩＰＡの主要部分を母液中に維持すべきである。実質的にＴＰＡを
含まない母液を蒸発（又は蒸留）により濃縮し、粗製ＩＰＡを結晶化し、それを
次に濾過して分離し、第二選択的結晶化で再溶解し、精製ＩＰＡを生成させる。
ならない反溶媒は、母液から実質的に全てのＴＰＡの沈澱（又は結晶化）を起こ
し、然も未だＩＰＡの主要部分を母液中に維持すべきである。実質的にＴＰＡを
含まない母液を蒸発（又は蒸留）により濃縮し、粗製ＩＰＡを結晶化し、それを
次に濾過して分離し、第二選択的結晶化で再溶解し、精製ＩＰＡを生成させる。
【００１３】 本発明により、ＴＰＡを精製するための第一に好ましい選択的結晶化溶媒は、
下に記載する幾つかの理由及びその優れた性能によりＮ−メチルピロリドン（Ｎ
ＭＰ）である。それは、非水性で熱的に安定であり、非毒性（環境的に安全）で
あり、非腐食性で商業的に入手することができる。ＴＰＡは上昇させた温度でＮ
ＭＰに溶解し、低い温度ではＮＭＰから沈澱又は結晶化する。ＩＰＡと同様、４
−ＣＢＡ、３−ＣＢＡ、ｐ−トルイル酸、ｍ−トルイル酸のような主な不純物は
、全ての温度でＮＭＰに対し、ＴＰＡよりも比較的高い溶解度を有する。従って
、温度を低下することにより、溶液からＴＰＡだけが結晶化又は沈澱し、純粋Ｔ
ＰＡ結晶を形成する傾向がある。
下に記載する幾つかの理由及びその優れた性能によりＮ−メチルピロリドン（Ｎ
ＭＰ）である。それは、非水性で熱的に安定であり、非毒性（環境的に安全）で
あり、非腐食性で商業的に入手することができる。ＴＰＡは上昇させた温度でＮ
ＭＰに溶解し、低い温度ではＮＭＰから沈澱又は結晶化する。ＩＰＡと同様、４
−ＣＢＡ、３−ＣＢＡ、ｐ−トルイル酸、ｍ−トルイル酸のような主な不純物は
、全ての温度でＮＭＰに対し、ＴＰＡよりも比較的高い溶解度を有する。従って
、温度を低下することにより、溶液からＴＰＡだけが結晶化又は沈澱し、純粋Ｔ
ＰＡ結晶を形成する傾向がある。
【００１４】 ＮＭＰは最も好ましい選択的結晶化溶媒であるが、本発明に従い、粗製ＴＰＡ
を精製するための他の好ましい選択的結晶化溶媒を種々の極性有機溶媒から選択
することができることは理解すべきである。それらの溶媒には、Ｎ, Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ
−アルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプ
トアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−メルカプトエチル−２−ピロリドン
）、Ｎ−アルキル−２−チオピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリ
ドン）、Ｎ−ヒドロキシアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエ
チル−２−ピロリドン）、モルホリン類（例えば、モルホリン、及びＮ−ホルミ
ルモルホリン）、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、エーテル、アミン、ア
ミド、エステル、及びそれらの混合物が含まれるが、それらに限定されるもので
はない。
を精製するための他の好ましい選択的結晶化溶媒を種々の極性有機溶媒から選択
することができることは理解すべきである。それらの溶媒には、Ｎ, Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ
−アルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプ
トアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−メルカプトエチル−２−ピロリドン
）、Ｎ−アルキル−２−チオピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリ
ドン）、Ｎ−ヒドロキシアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエ
チル−２−ピロリドン）、モルホリン類（例えば、モルホリン、及びＮ−ホルミ
ルモルホリン）、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、エーテル、アミン、ア
ミド、エステル、及びそれらの混合物が含まれるが、それらに限定されるもので
はない。
【００１５】 第一に好ましい反溶媒はメタノールであるが、母液から実質的に全てのＴＰＡ
沈澱を行わせるための反溶媒は、種々の極性有機溶媒から選択することもできる
。それらの溶媒にはメチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カ
ルビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混
合物が含まれるが、それらに限定されるものではない。
沈澱を行わせるための反溶媒は、種々の極性有機溶媒から選択することもできる
。それらの溶媒にはメチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カ
ルビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混
合物が含まれるが、それらに限定されるものではない。
【００１６】 ＩＰＡ精製のために第一に好ましい選択的結晶化溶媒は、メタノールであるが
、その溶媒は、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カルビ
トール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混合物
からなる群から選択することができるが、それらに限定されるものではない。
、その溶媒は、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カルビ
トール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混合物
からなる群から選択することができるが、それらに限定されるものではない。
【００１７】 最終的ＴＰＡ生成物の結晶に取り込まれている残留溶媒（例えば、ＮＭＰ）を
除去するために、洗浄したＴＰＡ結晶を高温浸漬器(soaker)へ送り、そこで水を
用いてＴＰＡ結晶を部分的又は完全に溶解するのが好ましい。最終的ＩＰＡの結
晶に取り込まれた残留溶媒（メタノール）は、０．２５％未満の水準まで乾燥す
ることにより除去することができる。
除去するために、洗浄したＴＰＡ結晶を高温浸漬器(soaker)へ送り、そこで水を
用いてＴＰＡ結晶を部分的又は完全に溶解するのが好ましい。最終的ＩＰＡの結
晶に取り込まれた残留溶媒（メタノール）は、０．２５％未満の水準まで乾燥す
ることにより除去することができる。
【００１８】 一つの態様として、混合キシレンの酸化から生成した液体分散物からの粗製テ
レフタル酸（ＴＰＡ）を精製するための本発明の方法は、（ａ）前記粗製ＴＰＡ
を、約５０℃〜約２５０℃の温度で選択的結晶化溶媒中に溶解し、溶液を形成し
、（ｂ）前記溶液から、その温度及び（又は）圧力を低下することにより精製酸
を結晶化し、（ｃ）前記溶液から前記結晶化精製ＴＰＡを分離し、（ｄ）前記分
離した精製ＴＰＡを選択的結晶化溶媒中に再溶解して第二溶液を形成し、（ｅ）
前記第二溶液の前記ＴＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発させるのに充分であるが、
前記溶液を５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することにより前記第二
溶液から第二段階精製ＴＰＡを結晶化し、（ｆ）前記第二溶液から前記第二段階
精製ＴＰＡを分離し、（ｇ）前記分離した第二段階精製ＴＰＡを水で洗浄し、（
ｈ）前記洗浄した分離第二段階精製ＴＰＡを、約１５０℃〜約３００℃の温度の
水に浸漬し、（ｉ）前記水浸漬第二段階精製ＴＰＡを濾過及び乾燥し、（ｊ）前
記（ｃ）で濾過した溶液に反溶媒を添加して実質的に全てのＴＰＡを沈澱させ、
そして（ｋ）工程（ｊ）で前記沈澱したＴＰＡを前記溶液から分離し、前記沈澱
したＴＰＡと前記最初の粗製ＴＰＡとを一緒にして工程（ａ）での処理のために
用い、（ｌ）工程（ｋ）で前記濾過したＴＰＡを含まない溶液から溶媒を蒸発し
て約５℃〜約１００℃の温度でＩＰＡを結晶化し、（ｍ）工程（ｌ）で前記結晶
化した粗製ＩＰＡを前記溶液から分離し、（ｎ）粗製ＩＰＡを約５０℃〜２５０
℃の温度で選択的結晶化溶媒中へ再溶解して第二溶液を形成し、（ｏ）前記第二
溶液の前記ＩＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発するのに充分であるが、前記溶液を
約５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することにより、工程（ｎ）の前
記第二溶液から精製ＩＰＡを結晶化し、そして（ｐ）前記第二溶液から前記第二
段階精製ＩＰＡを分離し、乾燥する諸工程を包含する。
レフタル酸（ＴＰＡ）を精製するための本発明の方法は、（ａ）前記粗製ＴＰＡ
を、約５０℃〜約２５０℃の温度で選択的結晶化溶媒中に溶解し、溶液を形成し
、（ｂ）前記溶液から、その温度及び（又は）圧力を低下することにより精製酸
を結晶化し、（ｃ）前記溶液から前記結晶化精製ＴＰＡを分離し、（ｄ）前記分
離した精製ＴＰＡを選択的結晶化溶媒中に再溶解して第二溶液を形成し、（ｅ）
前記第二溶液の前記ＴＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発させるのに充分であるが、
前記溶液を５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することにより前記第二
溶液から第二段階精製ＴＰＡを結晶化し、（ｆ）前記第二溶液から前記第二段階
精製ＴＰＡを分離し、（ｇ）前記分離した第二段階精製ＴＰＡを水で洗浄し、（
ｈ）前記洗浄した分離第二段階精製ＴＰＡを、約１５０℃〜約３００℃の温度の
水に浸漬し、（ｉ）前記水浸漬第二段階精製ＴＰＡを濾過及び乾燥し、（ｊ）前
記（ｃ）で濾過した溶液に反溶媒を添加して実質的に全てのＴＰＡを沈澱させ、
そして（ｋ）工程（ｊ）で前記沈澱したＴＰＡを前記溶液から分離し、前記沈澱
したＴＰＡと前記最初の粗製ＴＰＡとを一緒にして工程（ａ）での処理のために
用い、（ｌ）工程（ｋ）で前記濾過したＴＰＡを含まない溶液から溶媒を蒸発し
て約５℃〜約１００℃の温度でＩＰＡを結晶化し、（ｍ）工程（ｌ）で前記結晶
化した粗製ＩＰＡを前記溶液から分離し、（ｎ）粗製ＩＰＡを約５０℃〜２５０
℃の温度で選択的結晶化溶媒中へ再溶解して第二溶液を形成し、（ｏ）前記第二
溶液の前記ＩＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発するのに充分であるが、前記溶液を
約５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することにより、工程（ｎ）の前
記第二溶液から精製ＩＰＡを結晶化し、そして（ｐ）前記第二溶液から前記第二
段階精製ＩＰＡを分離し、乾燥する諸工程を包含する。
【００１９】 この態様では、分散物は、少なくとも０〜２０％のイソフタル酸（ＩＰＡ）、
及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアルデヒ
ド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）他の
望ましくない材料から選択された不純物を含む。ＴＰＡ精製のための選択的結晶
化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２−
ピロリドン（例えば、Ｎ−エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２−
ピロリドン（例えば、Ｎ−メルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキル
−２−チオピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒド
ロキシアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロリ
ドン）、モルホリン類（例えば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）、
カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル、
及びそれらの混合物からなる群から選択される。この態様で、ＴＰＡ精製のため
の選択的結晶化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン、又はＮ, Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、又はＮ−メチルピロリドンである。ＴＰＡ／ＩＰＡ溶液からのＴＰＡ沈澱
のための反溶媒は、メタノール、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ1 2 アルコール、カルビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、
及びそれらの混合物からなる群から選択される。ＩＰＡの再結晶化のための選択
的結晶化溶媒は、メタノール、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12
アルコール、カルビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、
及びそれらの混合物からなる群から選択される。反溶媒は、好ましくは、ＴＰＡ
の沈澱を起こす０．１〜１０の反溶媒／溶液比、一層好ましくは０．５〜３の範
囲にある。
及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアルデヒ
ド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）他の
望ましくない材料から選択された不純物を含む。ＴＰＡ精製のための選択的結晶
化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２−
ピロリドン（例えば、Ｎ−エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２−
ピロリドン（例えば、Ｎ−メルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキル
−２−チオピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒド
ロキシアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロリ
ドン）、モルホリン類（例えば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）、
カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル、
及びそれらの混合物からなる群から選択される。この態様で、ＴＰＡ精製のため
の選択的結晶化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン、又はＮ, Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、又はＮ−メチルピロリドンである。ＴＰＡ／ＩＰＡ溶液からのＴＰＡ沈澱
のための反溶媒は、メタノール、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ1 2 アルコール、カルビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、
及びそれらの混合物からなる群から選択される。ＩＰＡの再結晶化のための選択
的結晶化溶媒は、メタノール、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12
アルコール、カルビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、
及びそれらの混合物からなる群から選択される。反溶媒は、好ましくは、ＴＰＡ
の沈澱を起こす０．１〜１０の反溶媒／溶液比、一層好ましくは０．５〜３の範
囲にある。
【００２０】 別の態様として、分散物は、少なくとも０〜２０％のイソフタル酸（ＩＰＡ）
、及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアルデ
ヒド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）他
の望ましくない材料から選択された不純物を含む。ＴＰＡ精製のための選択的結
晶化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド
、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２
−ピロリドン（例えば、Ｎ−エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２
−ピロリドン（例えば、Ｎ−メルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキ
ル−２−チオピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒ
ドロキシアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロ
リドン）、モルホリン類（例えば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）
、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル
、及びそれらの混合物からなる群から選択される。ＴＰＡ精製のための選択的結
晶化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン、又はＮ, Ｎ−ジメチルアセトアミドである
。
、及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアルデ
ヒド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）他
の望ましくない材料から選択された不純物を含む。ＴＰＡ精製のための選択的結
晶化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド
、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２
−ピロリドン（例えば、Ｎ−エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２
−ピロリドン（例えば、Ｎ−メルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキ
ル−２−チオピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒ
ドロキシアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロ
リドン）、モルホリン類（例えば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）
、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル
、及びそれらの混合物からなる群から選択される。ＴＰＡ精製のための選択的結
晶化溶媒は、Ｎ−メチルピロリドン、又はＮ, Ｎ−ジメチルアセトアミドである
。
【００２１】 次の例は、本発明の原理及び特徴である、ＴＰＡ及びＩＰＡを分離する際の選
択的結晶化溶媒の有効性を例示する。
択的結晶化溶媒の有効性を例示する。
【００２２】 例１ この例は、大気圧下で三つの異なった温度で、選択的結晶化溶媒としてのＮＭ
Ｐに対するＴＰＡ及びＩＰＡの溶解度についての実験データーを示している。そ
れらの実験は、予め定められた温度に保たれた一定温度の浴中に浸漬された実験
室的フラスコ中で行われた。フラスコ中の液相温度を温度計により測定した。高
温での測定では、完全還流凝縮器を用いて蒸発により失われる溶媒を回収した。
実験操作中、フラスコ中の一定に撹拌した溶媒に、固体がもはや溶解しなくなり
、その温度で溶液がその固体で飽和したと考えられるようになるまで、少量ずつ
固体を添加した。溶媒の重量及び添加した固体の全重量に基づき溶解度を計算し
た。表１には、１５、４０、７０、及び１６０℃でのＮＭＰに対するＴＰＡ及び
ＩＰＡの溶解度が要約してある。
Ｐに対するＴＰＡ及びＩＰＡの溶解度についての実験データーを示している。そ
れらの実験は、予め定められた温度に保たれた一定温度の浴中に浸漬された実験
室的フラスコ中で行われた。フラスコ中の液相温度を温度計により測定した。高
温での測定では、完全還流凝縮器を用いて蒸発により失われる溶媒を回収した。
実験操作中、フラスコ中の一定に撹拌した溶媒に、固体がもはや溶解しなくなり
、その温度で溶液がその固体で飽和したと考えられるようになるまで、少量ずつ
固体を添加した。溶媒の重量及び添加した固体の全重量に基づき溶解度を計算し
た。表１には、１５、４０、７０、及び１６０℃でのＮＭＰに対するＴＰＡ及び
ＩＰＡの溶解度が要約してある。
【００２３】 表１ 固体 溶媒 溶解度（溶媒１００ｇ当たりの固体ｇ数） １５℃ ４０℃ ７０℃ １６０℃ ＴＰＡ ＮＭＰ 2.8 8.0 14.0 23.0 ＩＰＡ ＮＭＰ 10.7 22.2 46.0 62.0 ４−ＣＢＡ ＮＭＰ 18.9＊＊ 27.4 66.0 125.0＊ ＊ １１０℃で。 ＊＊ ２３℃で。
【００２４】 表１に示した溶解度データーに基づき、ＴＰＡ、ＩＰＡ、及び４−ＣＢＡ（３
−ＣＢＡ）の混合物から、ＴＰＡは結晶化により精製することができることが例
示されている。なぜなら、ＩＰＡ及びＣＢＡは、それらの溶解度が一層高いため
母液中に留まる傾向があるからである。母液から生じたＴＰＡ結晶は、母液中に
含まれるものよりも、他の成分に関して実質的に一層多量のＴＰＡ部分を有する
。
−ＣＢＡ）の混合物から、ＴＰＡは結晶化により精製することができることが例
示されている。なぜなら、ＩＰＡ及びＣＢＡは、それらの溶解度が一層高いため
母液中に留まる傾向があるからである。母液から生じたＴＰＡ結晶は、母液中に
含まれるものよりも、他の成分に関して実質的に一層多量のＴＰＡ部分を有する
。
【００２５】 例２ 約９５重量％のＴＰＡ及び５重量％のＩＰＡを含有する固体混合物を、１６０
℃でのＮＭＰ中のＴＰＡ溶解度に従い、ＮＭＰに添加した。次に混合物を、結晶
の破壊を最小にするために特別に設計した混合機、加熱ジャケット、及び蒸気凝
縮器を具えた冷却結晶化器へ移した。結晶化器をゆっくり１６０℃へ加熱し、そ
の温度に１時間維持し、全ての固体が確実に溶解するようにした。次に結晶化器
を４５℃に９０分で冷却し、ＴＰＡ結晶を成長させた。結晶化器の内容物をジャ
ケット付きフィルターに移し、温度を４０〜４５℃に維持しながら迅速に濾過し
た。適当な量の温かい（５０〜７０℃）溶媒を用いて濾滓を洗浄した。或る場合
には、温かい溶媒による洗浄後、９５℃の熱水による濾滓の洗浄を行なった。洗
浄した濾滓を乾燥し、ガスクロマトグラフィーにより分析し、生成物の組成を決
定した。表２に結果を要約する。
℃でのＮＭＰ中のＴＰＡ溶解度に従い、ＮＭＰに添加した。次に混合物を、結晶
の破壊を最小にするために特別に設計した混合機、加熱ジャケット、及び蒸気凝
縮器を具えた冷却結晶化器へ移した。結晶化器をゆっくり１６０℃へ加熱し、そ
の温度に１時間維持し、全ての固体が確実に溶解するようにした。次に結晶化器
を４５℃に９０分で冷却し、ＴＰＡ結晶を成長させた。結晶化器の内容物をジャ
ケット付きフィルターに移し、温度を４０〜４５℃に維持しながら迅速に濾過し
た。適当な量の温かい（５０〜７０℃）溶媒を用いて濾滓を洗浄した。或る場合
には、温かい溶媒による洗浄後、９５℃の熱水による濾滓の洗浄を行なった。洗
浄した濾滓を乾燥し、ガスクロマトグラフィーにより分析し、生成物の組成を決
定した。表２に結果を要約する。
【００２６】 表２ 実験 濾過温度 供給物中の 生成物中の 濯ぎ条件 番号 （℃） ＩＰＡ ＩＰＡ １Ａ 41 4.94重量％ 0.21重量％ ３回、溶媒、５０℃で使用 ２Ａ 41 5.02重量％ 0.16重量％ ３回、溶媒、７０℃で使用 ３Ａ 41 5.00重量％ 0.18重量％ ３回、溶媒、５３℃で使用 １Ｂ 41 4.94重量％ 0.15重量％ １Ａと同じ＋１０回、水、 ９５℃ ２Ｂ 41 5.02重量％ 0.13重量％ ２Ａと同じ＋１０回、水、 ３Ｂ 41 5.00重量％ 0.15重量％ ３Ｂと同じ＋１０回、水、 ９５℃
【００２７】 上の表２のデーターは、ＴＰＡ中のＩＰＡ含有量が濯ぎ条件により驚くほど減
少した（１／２３〜１／３９）ことを実証している。結晶化からのＴＰＡ濾滓を
７０℃で溶媒で濯ぎ、次に９５℃で水で濯ぐと（実験２Ｂ）、ＩＰＡ含有量は、
実際１段階結晶化で１／３９に減少した。同じ手順に従い、ＴＰＡ混合物中のＩ
ＰＡ含有量は、２段階結晶化により５重量％から３３ｐｐｍ（重量)（ｐｐｍｗ
）へ減少することができる。
少した（１／２３〜１／３９）ことを実証している。結晶化からのＴＰＡ濾滓を
７０℃で溶媒で濯ぎ、次に９５℃で水で濯ぐと（実験２Ｂ）、ＩＰＡ含有量は、
実際１段階結晶化で１／３９に減少した。同じ手順に従い、ＴＰＡ混合物中のＩ
ＰＡ含有量は、２段階結晶化により５重量％から３３ｐｐｍ（重量)（ｐｐｍｗ
）へ減少することができる。
【００２８】 例３ この例は、大気圧下で種々の温度での選択的結晶化としてメタノール中のＴＰ
Ａ及びＩＰＡの溶解度についての実験データーを与えている。実験装置及び手順
は、上の例１で記載したものと同じであった。但し、蒸気圧は大気圧よりも高か
った。溶媒の重量及び添加した固体の全重量に基づき溶解度を計算した。表３に
は、種々の温度でのメタノール中のＴＰＡ及びＩＰＡの溶解度が要約してある。
Ａ及びＩＰＡの溶解度についての実験データーを与えている。実験装置及び手順
は、上の例１で記載したものと同じであった。但し、蒸気圧は大気圧よりも高か
った。溶媒の重量及び添加した固体の全重量に基づき溶解度を計算した。表３に
は、種々の温度でのメタノール中のＴＰＡ及びＩＰＡの溶解度が要約してある。
【００２９】 表３ 温度（℃） 溶解度（メタノール１００ｇ当たりの固体ｇ数） ＴＰＡ ＩＰＡ 10 0.03 25 0.09 1.82 50 0.47 4.00 160 2.90 161 15.00
【００３０】 表３から、メタノール中のＩＰＡの溶解度は、２５〜５０℃の温度範囲でＴＰ
Ａの溶解度よりほぼ８〜２０倍大きいことが分かる。メタノール中のＴＰＡの溶
解度は、加圧下で１６０〜２００℃のような一層高い温度でのみ大きくなる。
Ａの溶解度よりほぼ８〜２０倍大きいことが分かる。メタノール中のＴＰＡの溶
解度は、加圧下で１６０〜２００℃のような一層高い温度でのみ大きくなる。
【００３１】 例４ 例３から、メタノール中のＩＰＡの溶解度は、室温（２５℃〜５０℃）でＴＰ
Ａの溶解度よりも実質的に高いことが判明した。従って、ＴＰＡ、ＩＰＡ、及び
少量の４−ＣＢＡの溶液からのＴＰＡの沈澱は、溶液に適当な量のメタノールを
添加することにより達成できるか否かを決定するための実験を行なった。この溶
液は、ＴＰＡ結晶をフィルターで除いた後、ＴＰＡ結晶化器からの母液にするこ
とができる。母液は次の組成を持っていた：１００ｇのＮＭＰ、２０ｇのＴＰＡ
、１０ｇのＩＰＡ、及び少量の４−ＣＢＡ（及び３−ＣＢＡ）。
Ａの溶解度よりも実質的に高いことが判明した。従って、ＴＰＡ、ＩＰＡ、及び
少量の４−ＣＢＡの溶液からのＴＰＡの沈澱は、溶液に適当な量のメタノールを
添加することにより達成できるか否かを決定するための実験を行なった。この溶
液は、ＴＰＡ結晶をフィルターで除いた後、ＴＰＡ結晶化器からの母液にするこ
とができる。母液は次の組成を持っていた：１００ｇのＮＭＰ、２０ｇのＴＰＡ
、１０ｇのＩＰＡ、及び少量の４−ＣＢＡ（及び３−ＣＢＡ）。
【００３２】 この例は、母液にメタノールを添加すると、本質的に全てのＴＰＡの沈澱を起
こすが、ＩＰＡは僅かな沈澱しか起こさないことを示している。１００ｇのＮＭ
Ｐ、４ｇのＴＰＡ、及び１５ｇのＩＰＡの混合物には、約２１０ｇのメタノール
をその室温混合物に添加した。全混合物を約９０分間撹拌して、固体を結晶化し
、混合物から沈澱させた。結晶を濾過し、洗浄し、乾燥して分析した。母液中の
４７．５％のＴＰＡが回収され、その結晶は大略９９．０重量％のＴＰＡ及び１
．０重量％のＩＰＡを含んでいることが判明した。
こすが、ＩＰＡは僅かな沈澱しか起こさないことを示している。１００ｇのＮＭ
Ｐ、４ｇのＴＰＡ、及び１５ｇのＩＰＡの混合物には、約２１０ｇのメタノール
をその室温混合物に添加した。全混合物を約９０分間撹拌して、固体を結晶化し
、混合物から沈澱させた。結晶を濾過し、洗浄し、乾燥して分析した。母液中の
４７．５％のＴＰＡが回収され、その結晶は大略９９．０重量％のＴＰＡ及び１
．０重量％のＩＰＡを含んでいることが判明した。
【００３３】 ＴＰＡの回収を増大するため、ＮＭＰの一部分を除去することにより母液を濃
縮し、混合物が１００ｇのＮＭＰ、２０ｇのＴＰＡ及び１０ｇのＩＰＡを含むよ
うにした。約２６０ｇのメタノールをその混合物に添加し、室温でその混合物か
らＴＰＡを結晶化させた。メタノールを添加して、混合物を９０分間撹拌した後
、ＴＰＡ結晶をスラリーから濾過した。母液から９７．５％までのＴＰＡが回収
され、そのＴＰＡ結晶は９７．３重量％のＴＰＡ及び２．７重量％のＩＰＡを含
むことが判明した。このデーターは、一層多くのＮＭＰを母液から除去する（一
層高度の濃縮）か、又は一層多くのメタノールを母液に添加するか、又はそれら
の両方の組合せを行うことにより、１００％のＴＰＡを回収することができるこ
とを示している。
縮し、混合物が１００ｇのＮＭＰ、２０ｇのＴＰＡ及び１０ｇのＩＰＡを含むよ
うにした。約２６０ｇのメタノールをその混合物に添加し、室温でその混合物か
らＴＰＡを結晶化させた。メタノールを添加して、混合物を９０分間撹拌した後
、ＴＰＡ結晶をスラリーから濾過した。母液から９７．５％までのＴＰＡが回収
され、そのＴＰＡ結晶は９７．３重量％のＴＰＡ及び２．７重量％のＩＰＡを含
むことが判明した。このデーターは、一層多くのＮＭＰを母液から除去する（一
層高度の濃縮）か、又は一層多くのメタノールを母液に添加するか、又はそれら
の両方の組合せを行うことにより、１００％のＴＰＡを回収することができるこ
とを示している。
【００３４】 典型的な母液では、４−ＣＢＡ含有量は、ＮＭＰ１００ｇ当たり約０．０１ｇ
（０．０１％）になるであろう。母液中の４−ＣＢＡの量は非常に少なく、ＮＭ
Ｐ中の４−ＣＢＡの溶解度はほぼ室温では非常に高いので（表１に示されている
）、メタノールを添加しても、母液からの４−ＣＢＡの沈澱を起こさないであろ
う。
（０．０１％）になるであろう。母液中の４−ＣＢＡの量は非常に少なく、ＮＭ
Ｐ中の４−ＣＢＡの溶解度はほぼ室温では非常に高いので（表１に示されている
）、メタノールを添加しても、母液からの４−ＣＢＡの沈澱を起こさないであろ
う。
【００３５】 母液から１．００％のＴＰＡを回収し、メタノールを添加することにより再循
環した後、ＴＰＡを含まない母液を更に処理してＩＰＡを回収することができる
。その方式の工程の詳細を図１に与え、次の節で記述する。
環した後、ＴＰＡを含まない母液を更に処理してＩＰＡを回収することができる
。その方式の工程の詳細を図１に与え、次の節で記述する。
【００３６】 （好ましい態様についての説明） 精製ＴＰＡ及びＩＰＡ両方を製造するための本発明の好ましい態様の一つを図
１に与える。
１に与える。
【００３７】 図１に関し、約９５％のＴＰＡ、５％のＩＰＡ、及び少量の他の不純物（４−
ＣＢＡ、３−ＣＢＡ、ｐ−トルイル酸、ｍ−トルイル酸等）を含有する、反応器
の酸化部門（図示されていない）からの粗製ＴＰＡを、導管１を通って第一溶解
器１００へ送り、フィルターII １０５からの母液（導管７を通る）及びフィル
ターIV １１３からのスラリー（導管１９を通る）と混合する。第一溶解器１０
０の温度は１６０〜１８０℃に維持し、固体を完全に溶解し、導管１９から導入
された実質的に全てのメタノールを蒸発する。
ＣＢＡ、３−ＣＢＡ、ｐ−トルイル酸、ｍ−トルイル酸等）を含有する、反応器
の酸化部門（図示されていない）からの粗製ＴＰＡを、導管１を通って第一溶解
器１００へ送り、フィルターII １０５からの母液（導管７を通る）及びフィル
ターIV １１３からのスラリー（導管１９を通る）と混合する。第一溶解器１０
０の温度は１６０〜１８０℃に維持し、固体を完全に溶解し、導管１９から導入
された実質的に全てのメタノールを蒸発する。
【００３８】 次に第一溶解器１００からの飽和溶液を、導管２を通って第一冷却結晶化器１
０１へ連続的に送り、３０〜５０℃でＴＰＡ塩結晶を発生させる。ＴＰＡ塩結晶
を含有するスラリーは導管３を通って第一冷却結晶化器１０１を出てフィルター
Ｉ １０２へ行き、そこで粗製結晶濾滓を除去し、導管４を通って第二溶解器１
０３へ送る。第二溶解器１０３では、溶媒回収系から導管３５を通って再循環さ
れた清浄なＮＭＰ中に濾滓を再溶解する。再び、第二溶解器１０３の温度を１６
０〜１８０℃に保ち、ＴＰＡ塩結晶を完全に溶解する。第二溶解器１０３からの
飽和溶液を導管５を通って第二フラッシュ結晶化器１０４へ連続的に送り、そこ
で温度を最低６０℃に維持し、ＴＰＡ塩結晶の形成を防ぐ。結晶化器中の温度低
下度は、圧力減少により結晶化器からフラッシュされたＮＭＰの量によって調節
する。フラッシュされたＮＭＰは導管３６を通り第一溶解器１００へ再循環され
る。
０１へ連続的に送り、３０〜５０℃でＴＰＡ塩結晶を発生させる。ＴＰＡ塩結晶
を含有するスラリーは導管３を通って第一冷却結晶化器１０１を出てフィルター
Ｉ １０２へ行き、そこで粗製結晶濾滓を除去し、導管４を通って第二溶解器１
０３へ送る。第二溶解器１０３では、溶媒回収系から導管３５を通って再循環さ
れた清浄なＮＭＰ中に濾滓を再溶解する。再び、第二溶解器１０３の温度を１６
０〜１８０℃に保ち、ＴＰＡ塩結晶を完全に溶解する。第二溶解器１０３からの
飽和溶液を導管５を通って第二フラッシュ結晶化器１０４へ連続的に送り、そこ
で温度を最低６０℃に維持し、ＴＰＡ塩結晶の形成を防ぐ。結晶化器中の温度低
下度は、圧力減少により結晶化器からフラッシュされたＮＭＰの量によって調節
する。フラッシュされたＮＭＰは導管３６を通り第一溶解器１００へ再循環され
る。
【００３９】 第二結晶化器１０４からのスラリーは、導管６を通ってフィルターII １０５
へ送り、そこで精製ＴＰＡ固体濾滓を回収し、濾滓洗浄器１０６へ送り、一方母
液は導管７を通り第一溶解器１００へ再循環する。濾滓洗浄器１０６では、濾滓
中の主要残留ＮＭＰを水による向流洗浄により除去し、洗浄された濾滓を導管１
０を通り浸漬器１０７へ送り、ＴＰＡ固体中の最終的微量のＮＭＰを、１６０〜
２８０℃の温度の水に浸漬することにより除去する。ＮＭＰを含まない濾滓をフ
ィルターIII １０８で濾過し、乾燥器Ｉ １０９で乾燥し、最終的ＴＰＡ生成
物を与える。
へ送り、そこで精製ＴＰＡ固体濾滓を回収し、濾滓洗浄器１０６へ送り、一方母
液は導管７を通り第一溶解器１００へ再循環する。濾滓洗浄器１０６では、濾滓
中の主要残留ＮＭＰを水による向流洗浄により除去し、洗浄された濾滓を導管１
０を通り浸漬器１０７へ送り、ＴＰＡ固体中の最終的微量のＮＭＰを、１６０〜
２８０℃の温度の水に浸漬することにより除去する。ＮＭＰを含まない濾滓をフ
ィルターIII １０８で濾過し、乾燥器Ｉ １０９で乾燥し、最終的ＴＰＡ生成
物を与える。
【００４０】 フィルターＩ １０２からの母液を導管１５を通って沈澱器１１２へ移す。そ
うする際、それは酸化器１１１を通過し、それは、本願の譲受け人に譲渡されて
いる「テレフタル酸又はイソフタル酸中のカルボキシベンズアルデヒド異性体を
減少する方法」(Method to Reduce Carboxybenzaldehyde Isomers in Terephtha
lic Acid or Isophthalic Acid)と題する共願の米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎ
ｏ．０９／０９８，０６０（それら記載は全ての目的から参考のためここに入れ
てある）に記載され、特許請求されている関連発明を実施するのに有用である。
メタノールを導管１６を通り沈澱器へ添加し、母液からのＴＰＡの完全な沈澱（
又は結晶化）及び少量のＩＰＡの沈澱を起こさせる。沈澱器１１２からのスラリ
ーを、導管１８を通ってフィルターIV １１３へ送り、スラリーからの母液の大
部分を除去し、然る後、それを導管１９を通り第一溶解器１００へ再循環する。
うする際、それは酸化器１１１を通過し、それは、本願の譲受け人に譲渡されて
いる「テレフタル酸又はイソフタル酸中のカルボキシベンズアルデヒド異性体を
減少する方法」(Method to Reduce Carboxybenzaldehyde Isomers in Terephtha
lic Acid or Isophthalic Acid)と題する共願の米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ Ｎ
ｏ．０９／０９８，０６０（それら記載は全ての目的から参考のためここに入れ
てある）に記載され、特許請求されている関連発明を実施するのに有用である。
メタノールを導管１６を通り沈澱器へ添加し、母液からのＴＰＡの完全な沈澱（
又は結晶化）及び少量のＩＰＡの沈澱を起こさせる。沈澱器１１２からのスラリ
ーを、導管１８を通ってフィルターIV １１３へ送り、スラリーからの母液の大
部分を除去し、然る後、それを導管１９を通り第一溶解器１００へ再循環する。
【００４１】 フィルターIV １１３からの母液を蒸発器１１４へ送り、加熱及び真空による
蒸発によりＮＭＰ及びメタノールを除去し、濃縮された母液がＩＰＡの飽和溶液
になるようにし、それを第一ＩＰＡ結晶化器１１５へ送り、冷却又はフラッシュ
により３０〜５０℃の温度でＩＰＡを結晶化する。蒸発器１１４から蒸発したＮ
ＭＰ及びメタノールを蒸留塔１１０へ送り、塔の底からＮＭＰを得、塔の頂部か
らメタノールを得る。メタノール流は導管１６を通って沈澱器１１２へ再循環し
、一方ＮＭＰ流は導管３５を通り第二溶解器１０３へ送る。第一ＩＰＡ結晶化器
１１５からのスラリーはフィルターＶ １１６へ移し、粗製ＩＰＡ濾滓及び母液
を生成させる。母液は導管１７を通り沈澱器１１２へ送るが、流れ１７の一部分
は導管３７を通ってパージされ、不純物及び着色物体の蓄積を防ぐ。
蒸発によりＮＭＰ及びメタノールを除去し、濃縮された母液がＩＰＡの飽和溶液
になるようにし、それを第一ＩＰＡ結晶化器１１５へ送り、冷却又はフラッシュ
により３０〜５０℃の温度でＩＰＡを結晶化する。蒸発器１１４から蒸発したＮ
ＭＰ及びメタノールを蒸留塔１１０へ送り、塔の底からＮＭＰを得、塔の頂部か
らメタノールを得る。メタノール流は導管１６を通って沈澱器１１２へ再循環し
、一方ＮＭＰ流は導管３５を通り第二溶解器１０３へ送る。第一ＩＰＡ結晶化器
１１５からのスラリーはフィルターＶ １１６へ移し、粗製ＩＰＡ濾滓及び母液
を生成させる。母液は導管１７を通り沈澱器１１２へ送るが、流れ１７の一部分
は導管３７を通ってパージされ、不純物及び着色物体の蓄積を防ぐ。
【００４２】 次にフィルターＶ １１６からの濾滓を導管２５を通ってＩＰＡ溶解器１１７
へ移し、そこで粗製ＩＰＡ濾滓を適当な温度及び圧力でメタノールにより溶解す
る。飽和ＩＰＡ溶液をフィルターVI １１８で濾過し、微量の不溶性物質を除去
し、導管２８を通ってパージする。固体を含まない溶液は導管２９を通って第二
ＩＰＡ結晶化器１１９へ送り、圧力を減少させて結晶化器からメタノールをフラ
ッシュすることによりＩＰＡ結晶を生成させる。第二ＩＰＡ結晶化器１１９から
のスラリーを導管３０を通ってフィルターVII １２０へ移し、精製ＩＰＡ結晶
を回収して洗浄し、乾燥器II １２１で最終的に乾燥し、最終的ＩＰＡ生成物を
生成させ、一方フィルターVII １２０からの母液を導管３１を通って蒸発器１
１４へ再循環する。
へ移し、そこで粗製ＩＰＡ濾滓を適当な温度及び圧力でメタノールにより溶解す
る。飽和ＩＰＡ溶液をフィルターVI １１８で濾過し、微量の不溶性物質を除去
し、導管２８を通ってパージする。固体を含まない溶液は導管２９を通って第二
ＩＰＡ結晶化器１１９へ送り、圧力を減少させて結晶化器からメタノールをフラ
ッシュすることによりＩＰＡ結晶を生成させる。第二ＩＰＡ結晶化器１１９から
のスラリーを導管３０を通ってフィルターVII １２０へ移し、精製ＩＰＡ結晶
を回収して洗浄し、乾燥器II １２１で最終的に乾燥し、最終的ＩＰＡ生成物を
生成させ、一方フィルターVII １２０からの母液を導管３１を通って蒸発器１
１４へ再循環する。
【００４３】 精製されたＴＰＡだけを製造するための本発明の別の好ましい態様が、図２に
例示されている。粗製ＴＰＡ（大略９０〜９９％のＴＰＡ及び１〜１０％のＩＰ
Ａを含有する）を導管２０１を通って溶解器Ｉ ２００へ送り、フィルターII
２０６からの母液Ｍ／Ｌ−２（導管２２０を通って再循環されたもの）、及びフ
ィルターＶ ２１５からの再循環濾滓（導管２２１を通って再循環されたもの）
と混合する。溶解器の温度は１４０〜２００℃に維持し、実質的に全ての固体を
溶解する。次に飽和溶液を導管２２２を通って第一結晶化器２０２へ送り、そこ
で温度を冷却又は溶媒蒸発により（減圧による）３０〜６０℃へ低下し、ＩＰＡ
結晶を成長させる。
例示されている。粗製ＴＰＡ（大略９０〜９９％のＴＰＡ及び１〜１０％のＩＰ
Ａを含有する）を導管２０１を通って溶解器Ｉ ２００へ送り、フィルターII
２０６からの母液Ｍ／Ｌ−２（導管２２０を通って再循環されたもの）、及びフ
ィルターＶ ２１５からの再循環濾滓（導管２２１を通って再循環されたもの）
と混合する。溶解器の温度は１４０〜２００℃に維持し、実質的に全ての固体を
溶解する。次に飽和溶液を導管２２２を通って第一結晶化器２０２へ送り、そこ
で温度を冷却又は溶媒蒸発により（減圧による）３０〜６０℃へ低下し、ＩＰＡ
結晶を成長させる。
【００４４】 第一結晶化器２０２からのスラリーを導管２２３を通り連続的又はバッチ式に
フィルターＩ ２０３へ移し、固体濾滓を回収する。フィルターＩ ２０３では
、濾滓から母液を分離するため欠乏又は飽和ＮＭＰを洗浄することが必要であり
、然る後、それを導管２２４を通り溶解器II ２０４へ移し、そこで濾滓を、導
管２２５からのフラッシュされたＮＭＰ及び導管２２６及び２２７からの蒸発し
たＮＭＰと混合する。再び、溶解器II ２０４の温度を１４０〜２００℃に維持
し、実質的に全ての固体を溶解する。飽和溶液を導管２２８を通って第二結晶化
器２０５へ送り、そこで温度を冷却又は溶媒蒸発により（減圧による）３０〜６
０℃へ低下し、精製ＴＰＡ結晶を成長させる。
フィルターＩ ２０３へ移し、固体濾滓を回収する。フィルターＩ ２０３では
、濾滓から母液を分離するため欠乏又は飽和ＮＭＰを洗浄することが必要であり
、然る後、それを導管２２４を通り溶解器II ２０４へ移し、そこで濾滓を、導
管２２５からのフラッシュされたＮＭＰ及び導管２２６及び２２７からの蒸発し
たＮＭＰと混合する。再び、溶解器II ２０４の温度を１４０〜２００℃に維持
し、実質的に全ての固体を溶解する。飽和溶液を導管２２８を通って第二結晶化
器２０５へ送り、そこで温度を冷却又は溶媒蒸発により（減圧による）３０〜６
０℃へ低下し、精製ＴＰＡ結晶を成長させる。
【００４５】 再び、第二結晶化器２０５からのスラリーを導管２２９を通りフィルターII
２０６へ送り、濾滓を回収し、次にそれを導管２３０を通り向流接触器２０７へ
送り、水で洗浄して濾滓から遊離ＮＭＰの大部分を除去する。水で洗浄した固体
を導管２３１を通り浸漬器２０８へ送り、１５０〜２８０℃の温度で浸漬器２０
８中で固体を部分的又は全て溶解することにより精製ＴＰＡ固体から、取り込ま
れていた微量のＮＭＰを除去する。ＮＭＰを含まない固体を導管２３３を通りフ
ィルターIII ２０９へ送り、そこで水を導管２３２を通って除去し、ＴＰＡ濾
滓を導管２３４を通って送り、乾燥器中で乾燥し、最終的精製ＴＰＡ生成物を生
成させる。
２０６へ送り、濾滓を回収し、次にそれを導管２３０を通り向流接触器２０７へ
送り、水で洗浄して濾滓から遊離ＮＭＰの大部分を除去する。水で洗浄した固体
を導管２３１を通り浸漬器２０８へ送り、１５０〜２８０℃の温度で浸漬器２０
８中で固体を部分的又は全て溶解することにより精製ＴＰＡ固体から、取り込ま
れていた微量のＮＭＰを除去する。ＮＭＰを含まない固体を導管２３３を通りフ
ィルターIII ２０９へ送り、そこで水を導管２３２を通って除去し、ＴＰＡ濾
滓を導管２３４を通って送り、乾燥器中で乾燥し、最終的精製ＴＰＡ生成物を生
成させる。
【００４６】 フィルターＩ ２０３からの母液Ｍ／Ｌ−１を導管２３５を通り蒸発器Ｉ ２
１０へ送り、実質的量のＮＭＰを除去する。濃縮した溶液を導管２３６を通り結
晶化器III ２１１へ移し、低純度ＴＰＡ結晶を成長させる。次にそれら結晶を
フィルターIV ２１２から回収し、導管２３７を通り溶解器Ｉ ２００へ再循環
する。フィルターIV ２１２からの母液Ｍ／Ｌ−３を導管２３８を通り蒸発器II ２１３へ送り、次に結晶化器IV ２１４、及びフィルターＶ ２１５へ送り、
残留低純度ＴＰＡを回収し、導管２３９を通り溶解器Ｉ ２００へ再循環する。
主にＩＰＡ、ＮＭＰを含み、少量のＴＰＡを含むフィルターＶ ２１５からの最
終的母液Ｍ／Ｌ−４を導管２４０を通って送り、水と混合して更にＮＭＰを回収
するため処理し、然る後廃棄する。
１０へ送り、実質的量のＮＭＰを除去する。濃縮した溶液を導管２３６を通り結
晶化器III ２１１へ移し、低純度ＴＰＡ結晶を成長させる。次にそれら結晶を
フィルターIV ２１２から回収し、導管２３７を通り溶解器Ｉ ２００へ再循環
する。フィルターIV ２１２からの母液Ｍ／Ｌ−３を導管２３８を通り蒸発器II ２１３へ送り、次に結晶化器IV ２１４、及びフィルターＶ ２１５へ送り、
残留低純度ＴＰＡを回収し、導管２３９を通り溶解器Ｉ ２００へ再循環する。
主にＩＰＡ、ＮＭＰを含み、少量のＴＰＡを含むフィルターＶ ２１５からの最
終的母液Ｍ／Ｌ−４を導管２４０を通って送り、水と混合して更にＮＭＰを回収
するため処理し、然る後廃棄する。
【図１】 ＴＰＡ及びＩＰＡの両方を製造するための、本発明の好ましい態様を実施する
ためのプラントの概略的工程図である。
ためのプラントの概略的工程図である。
【図２】 ＴＰＡだけを製造するための、本発明の別の好ましい態様を実施するためのプ
ラントの概略的工程図である。
ラントの概略的工程図である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１１年１２月１７日（１９９９．１２．１７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】 反応器流出物を一連の結晶化器へ送り、そこで圧力低下により反応媒体、好ま
しくは酢酸を蒸発させることにより固体を成長させる。最後結晶化器からのスラ
リーを濾過し、洗浄する。濾過された結晶を、次に乾燥して溶媒を除去し、得ら
れる粗製混合酸結晶中０．２５％より少ない水準になるようにする。濾過からの
母液を溶媒脱水装置へ送り、水から溶媒（酢酸）を回収して酸化器へ再循環する
。
しくは酢酸を蒸発させることにより固体を成長させる。最後結晶化器からのスラ
リーを濾過し、洗浄する。濾過された結晶を、次に乾燥して溶媒を除去し、得ら
れる粗製混合酸結晶中０．２５％より少ない水準になるようにする。濾過からの
母液を溶媒脱水装置へ送り、水から溶媒（酢酸）を回収して酸化器へ再循環する
。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３５】 母液から１００％のＴＰＡを回収し、メタノールを添加することにより再循環
した後、ＴＰＡを含まない母液を更に処理してＩＰＡを回収することができる。
その方式の工程の詳細を図１に与え、次の節で記述する。
した後、ＴＰＡを含まない母液を更に処理してＩＰＡを回収することができる。
その方式の工程の詳細を図１に与え、次の節で記述する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，Ｚ Ｗ (72)発明者 ウィッチャーリイ、ランディ、ライト アメリカ合衆国 モンタナ、ベルグレー ド、スプリングヒル コミュニティ ロー ド 6933 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC46 AD15 BB14 BB15 BB16 BB19 BB20 BB23 BB24 BB31 BC33 BC51 BC52 BD42 BD53 BD60 BJ50 BS30
Claims (22)
- 【請求項１】 混合キシレンの酸化から生成した液体分散物からの粗製テレ
フタル酸（ＴＰＡ）を精製する方法において、 （ａ） 前記粗製ＴＰＡを、約５０℃〜約２５０℃の温度で選択的結晶化溶媒
中に溶解し、溶液を形成し、 （ｂ） 前記溶液から、その温度及び（又は）圧力を低下することにより精製
酸を結晶化し、 （ｃ） 前記溶液から前記結晶化精製ＴＰＡを分離し、 （ｄ） 前記分離した精製ＴＰＡを選択的結晶化溶媒中に再溶解して第二溶液
を形成し、 （ｅ） 前記第二溶液の前記ＴＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発させるのに充分
であるが、前記溶液を５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することによ
り前記第二溶液から第二段階精製ＴＰＡを結晶化し、 （ｆ） 前記第二溶液から前記第二段階精製ＴＰＡを分離し、 （ｇ） 前記分離した第二段階精製ＴＰＡを水で洗浄し、 （ｈ） 前記洗浄した分離第二段階精製ＴＰＡを、約１５０℃〜約３００℃の
温度の水に浸漬し、 （ｉ） 前記の水に浸漬した第二段階精製ＴＰＡを濾過及び乾燥し、 （ｊ） 前記（ｃ）で濾過した溶液に反溶媒を添加して実質的に全てのＴＰＡ
を沈澱させ、そして （ｋ） 前記（ｊ）で沈澱したＴＰＡを前記溶液から分離し、前記沈澱したＴ
ＰＡと前記最初の粗製ＴＰＡとを一緒にして（ａ）での処理のために用い、 （ｌ） 前記（ｋ）でＴＰＡを含まない濾過した溶液から溶媒を蒸発して約５
℃〜約１００℃の温度でＩＰＡを結晶化し、 （ｍ） 前記（ｌ）で結晶化した粗製ＩＰＡを前記溶液から分離し、 （ｎ） 粗製ＩＰＡを約５０℃〜２５０℃の温度で選択的結晶化溶媒中へ再溶
解して第二溶液を形成し、 （ｏ） 前記第二溶液の前記ＩＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発するのに充分で
あるが、前記溶液を約５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することによ
り、前記（ｎ）の第二溶液から精製ＩＰＡを結晶化し、そして （ｐ） 前記第二溶液から前記第二段階精製ＩＰＡを分離し、乾燥する、 ことを包含する精製方法。 - 【請求項２】 分散物が、少なくとも０〜２０％のイソフタル酸（ＩＰＡ）
、及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアルデ
ヒド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）他
の望ましくない材料から選択された不純物を含む、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロリ
ドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−エ
チルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−メ
ルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキル−２−チオピロリドン（例え
ば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒドロキシアルキル−２−ピロリ
ドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロリドン）、モルホリン類（例え
ば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12ア
ルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル、及びそれらの混合物からなる
群から選択される、請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロリ
ドン、又はＮ, Ｎ−ジメチルアセトアミドである、請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロリ
ドンである、請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 ＴＰＡ／ＩＰＡ溶液からのＴＰＡ沈澱のための反溶媒が、メ
タノール、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カルビ
トール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混合物
からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 ＴＰＡ／ＩＰＡ溶液からのＴＰＡ沈澱のための反溶媒が、メ
タノール又は水である、請求項６に記載の方法。 - 【請求項８】 ＴＰＡ／ＩＰＡ溶液からのＴＰＡ沈澱のための反溶媒が、メ
タノールである、請求項７に記載の方法。 - 【請求項９】 ＩＰＡの再結晶化のための選択的結晶化溶媒が、メタノール
、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カルビトール、
エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混合物からなる
群から選択される、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１０】 精製ＩＰＡを再結晶化するための選択的結晶化溶媒が、メ
タノール又は水である、請求項９に記載の方法。 - 【請求項１１】 反溶媒が、０．１〜１０の反溶媒／溶液比になっており、
ＴＰＡの沈澱を起こす、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１２】 反溶媒／溶液比が、好ましくは０．５〜３の範囲にある、
請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 混合キシレンの酸化から生成した液体分散物からの粗製テ
レフタル酸（ＴＰＡ）を精製する方法において、 （ａ） 前記粗製ＴＰＡを、約５０℃〜約２５０℃の温度で選択的結晶化溶媒
中に溶解し、溶液を形成し、 （ｂ） 前記溶液から、その温度及び（又は）圧力を低下することにより精製
酸を結晶化し、 （ｃ） 前記溶液から前記結晶化精製ＴＰＡを分離し、 （ｄ） 前記分離した精製ＴＰＡを選択的結晶化溶媒中に再溶解して第二溶液
を形成し、 （ｅ） 前記第二溶液の前記ＴＰＡから溶媒をフラッシュ蒸発させるのに充分
であるが、前記溶液を５０℃以下に冷却しない温度及び圧力へ低下することによ
り前記第二溶液から第二段階精製ＴＰＡを結晶化し、 （ｆ） 前記第二溶液から前記第二段階精製ＴＰＡを分離し、 （ｇ） 前記分離した第二段階精製ＴＰＡを水で洗浄し、 （ｈ） 前記洗浄した分離第二段階精製ＴＰＡを、約１５０℃〜約３００℃の
温度の水に浸漬し、 （ｉ） 前記の水に浸漬した第二段階精製ＴＰＡを濾過及び乾燥し、 （ｊ） 前記（ｃ）で濾過した溶液を、蒸発により濃縮し、その濃縮した溶液
を冷却してＴＰＡ及び僅かな部分のＩＰＡを結晶化し、 （ｋ） 前記（ｊ）で沈澱したＴＰＡ及び僅かな部分のＩＰＡを前記溶液から
分離し、前記固体混合物を（ａ）で処理するために再循環し、 （ｌ） 前記（ｋ）で濾過した溶液を第二蒸発により濃縮し、その濃縮溶液を
冷却して更にＴＰＡ及び僅かな部分のＩＰＡを結晶化し、 （ｍ） 前記（ｌ）で結晶化したＴＰＡ及び僅かな部分のＩＰＡを前記溶液か
ら分離し、固体混合物を（ａ）で処理するために再循環し、そして （ｎ） 前記（ｍ）で濾過した溶液を洗浄処理装置又は一層の処理段階へ移す
、 ことを包含する精製方法。 - 【請求項１４】 分散物が、少なくとも０〜２０％のイソフタル酸（ＩＰＡ
）、及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアル
デヒド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）
他の望ましくない材料から選択された不純物を含む、請求項１３に記載の方法。 - 【請求項１５】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロ
リドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−
エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−
メルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキル−２−チオピロリドン（例
えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒドロキシアルキル−２−ピロ
リドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロリドン）、モルホリン類（例
えば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12
アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル、及びそれらの混合物からな
る群から選択される、請求項１３に記載の方法。 - 【請求項１６】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロ
リドン、又はＮ, Ｎ−ジメチルアセトアミドである、請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１７】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロ
リドンである、請求項１６に記載の方法。 - 【請求項１８】 混合キシレンの酸化から生成した液体分散物から粗製テレ
フタル酸（ＴＰＡ）を精製する方法において、 （ａ） 前記粗製ＴＰＡを、約５０℃〜約２５０℃の温度で選択的結晶化溶媒
に溶解し、溶液を形成し、 （ｂ） 前記溶液から、その温度及び（又は）圧力を低下することにより精製
酸を結晶化し、前記結晶化した精製ＴＰＡを前記溶液から分離し、 （ｃ） もし必要ならば、前記ＴＰＡの溶解及び結晶化を繰り返し、希望の純
度の精製ＴＰＡを得、 （ｄ） 前記溶液に反溶媒を添加して、その溶液から結晶化精製ＴＰＡを分離
し、前記溶液中に残留する実質的に全てのＴＰＡの沈澱を行わせ、 （ｅ） 前記沈澱ＴＰＡを分離し、 （ｆ） 反溶媒を添加することにより得られた溶液から溶媒を蒸発させ、沈澱
したＴＰＡを除去してＩＰＡの結晶化を行わせ、精製し、それにより精製ＩＰＡ
を回収する、 ことを包含する精製方法。 - 【請求項１９】 精製ＩＰＡを溶解及び結晶化して、希望の純度のＩＰＡを
得ることを更に含む、請求項１８に記載の方法。 - 【請求項２０】 分散物が、少なくとも０〜２０％のイソフタル酸（ＩＰＡ
）、及び少量の４−カルボキシアルデヒド（４−ＣＢＡ）、３−カルボキシアル
デヒド（３−ＣＢＡ）、及び未反応出発材料、溶媒、副反応生成物及び（又は）
他の望ましくない材料から選択された不純物を含む、請求項１８に記載の方法。 - 【請求項２１】 ＴＰＡ精製のための選択的結晶化溶媒が、Ｎ−メチルピロ
リドン（ＮＭＰ）、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−
エチルピロリドン）、Ｎ−メルカプトアルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−
メルカプトエチル−２−ピロリドン）、Ｎ−アルキル−２−チオピロリドン（例
えば、Ｎ−メチル−２−チオピロリドン）、Ｎ−ヒドロキシアルキル−２−ピロ
リドン（例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロリドン）、モルホリン類（例
えば、モルホリン、及びＮ−ホルミルモルホリン）、カルビトール、Ｃ1〜Ｃ12
アルコール、エーテル、アミン、アミド、エステル、及びそれらの混合物からな
る群から選択される、請求項１８に記載の方法。 - 【請求項２２】 ＴＰＡ／ＩＰＡ溶液からのＴＰＡ沈澱のための反溶媒が、
メタノール、水、メチルエチルケトン、アセトン、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、カル
ビトール、エステル、エーテル、Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸、水、及びそれらの混合
物からなる群から選択される、請求項１８に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US8714198P | 1998-05-29 | 1998-05-29 | |
| US09/097,930 US6054610A (en) | 1995-06-07 | 1998-06-16 | Method and apparatus for preparing purified terephthalic acid and isophthalic acid from mixed xylenes |
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